VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERBAUELEMENTS
    1.
    发明申请
    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERBAUELEMENTS 审中-公开
    方法用于制造光电半导体元件

    公开(公告)号:WO2014124854A1

    公开(公告)日:2014-08-21

    申请号:PCT/EP2014/052247

    申请日:2014-02-05

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements (100) mit den Schritten: -Bereitstellen eines Substrats (1), -Erzeugen eines Mehrschichtaufbaus mit einer Halbleiter- schichtenfolge (2) und einer Barriereschicht (3) auf dem Sub- strat (1), -wobei die Halbleiterschichtenfolge (2) zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung eingerichtet ist, -wobei die Halbleiterschichtenfolge (2) eine dem Substrat (1) abgewandte Strahlungshauptseite (12) aufweist, -wobei die zumindest eine Barriereschicht (3) auf der Strahlungshauptseite (12) der Halbleiterschichtenfolge (2) oder auf zumindest einer Seitenfläche der Halb- leiterschichtenfolge (2) oder innerhalb oder unterhalb der Halbleiterschichtenfolge (2) oder Kombinationen dar- ausaus einer Beschichtungsflüssigkeiterzeugt wird, welche Polysilazan oder deren Derivate und/oder eine Perhydropolysilazan oder deren Derivate umfasst. Signifikante Figur: Fig. 2

    Abstract translation: 本发明涉及一种方法,用于生产包括以下步骤的光电子半导体器件(100): - 提供衬底(1),-Erzeugen的多层结构用在子施特拉特的半导体层序列(2)和阻挡层(3)(1 ) - 其中该半导体层序列(2)适于产生电磁辐射, - 其中所述半导体层序列(2)包括面对所述衬底(1)从辐射主侧(12)的距离, - 其中所述至少一个阻挡层(3)(在辐射主侧面 12)的半导体层序列的(2)或至少(半导体层序列2)或内或在半导体层序列(2),或它们的组合DAR下面的侧表面是ausaus产生的涂层液体,其聚硅氮烷或其衍生物和/或全氢或它的衍生物 包括。 显著图:图2。

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