Abstract:
Es wird ein oberflächenemittierendes Halbleiterlaser-Bauelement mit einer vertikalen Emissionsrichtung angegeben, das einen Halbleiterkörper umfasst, der einen ersten Resonatorspiegel (2), einen zweiten Resonatorspiegel (4) und eine zur Strahlungserzeugung geeignete aktive Zone (3) aufweist. Der erste Resonatorspiegel (2) weist alternierend gestapelte erste Schichten (2a) einer ersten Zusammensetzung und zweite Schichten (2b) einer zweiten Zusammensetzung auf. Die ersten Schichten (2a) weisen oxidierte Bereiche (8a) auf. Ferner enthalten zumindest die ersten Schichten (2a) jeweils einen Dotierstoff, wobei mindestens eine Schicht (21a) der ersten Schichten (2a) eine von der Dotierstoffkonzentration der anderen ersten Schichten (2a) unterschiedliche Dotierstoffkonzentration aufweist.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines Laserchips (140) umfasst Schritte zum Bereitstellen einer Halbleiterscheibe (100) mit einer Oberseite (101) und einer Unterseite (102), wobei die Halbleiterscheibe eine Mehrzahl integrierter Laserdiodenstrukturen (141) aufweist, die entlang einer festgelegten Bruchrichtung (10) hintereinander angeordnet sind, zum Anlegen einer Mehrzahl von entlang der Bruchrichtung hintereinander angeordneten Vertiefungen (200) an der Oberseite der Halbleiterscheibe, wobei jede Vertiefung in Bruchrichtung aufeinander folgend eine vordere Begrenzungsfläche (210) und eine hintere Begrenzungsfläche (220) aufweist, wobei bei mindestens einer Vertiefung die hintere Begrenzungsfläche gegenüber der Oberseite der Halbleiterscheibe um einen Winkel zwischen 95° und 170° geneigt ist, und zum Brechen der Halbleiterscheibe in Bruchrichtung an einer senkrecht zur Oberseite der Halbleiterscheibe orientierten Bruchebene, die durch die Vertiefungen verläuft.
Abstract:
The invention relates to a method for producing a laser chip (140) comprising steps for providing a semiconductor wafer (100) having a top side (101) and a bottom side (102), wherein the semiconductor wafer has a plurality of integrated laser diode structures (141), which are arranged one after the other along a defined fracture direction (10), for creating a plurality of recesses (200) on the top side of the semiconductor wafer, which recesses are arranged one after the other along the fracture direction, wherein each recess has a front boundary surface (210) and a rear boundary surface (220) following one another in the fracture direction, wherein the rear boundary surface is tilted by an angle between 95° and 170° in relation to the top side of the semiconductor wafer in the case of at least one recess, and for fracturing the semiconductor wafer in the fracture direction at a fracture plane that is oriented perpendicularly to the top side of the semiconductor wafer and that extends through the recesses.
Abstract:
The invention relates to a surface-emitting semiconductor laser component having a vertical emission direction, comprising a semiconductor body which has a first resonator mirror (2), a second resonator mirror (4), and an active zone (3) suited to generate radiation. The first resonator mirror (2) comprises alternating stacked first layers (2a) having a first composition and second layers (2b) having a second composition. The first layers (2a) have oxidized regions (8a). Furthermore, at least the first layers (2a) each comprise a doping agent, wherein at least one layer (21a) of the first layers (2a) has a doping agent concentration that differs from the doping agent concentration of the other first layers (2a).