Abstract:
The invention relates to an optoelectronic component (10) comprising a housing (1), at least one semiconductor chip (2) arranged in the housing (1), and a casting compound (3). The semiconductor chip (2) comprises an active layer suitable for producing or detecting electromagnetic radiation. The casting compound (3) at least partially surrounds the semiconductor chip (2), reflective particles (3a) being embedded in the casting compound (3). The invention relates to a method for producing such a component and a compound structure.
Abstract:
The invention relates to an optoelectronic component (10) comprising a housing (1), at least one semiconductor chip (2) arranged in the housing (1), and a casting compound (3). The semiconductor chip (2) comprises an active layer suitable for producing or detecting electromagnetic radiation. The casting compound (3) at least partially surrounds the semiconductor chip (2), reflective particles (3a) being embedded in the casting compound (3). The invention relates to a method for producing such a component and a compound structure.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Licht emittierendes Bauelement (1) mit zumindest einem Licht emittierenden Halbleiterelement (4), das an einem Träger (3) angeordnet und zumindest teilweise von einer Kappe (9) mit einer Lichtaustrittsfläche (10) umgeben ist, wobei die Kappe (9) durch ein Vacuum Injection Molding Verfahren hergestellt ist
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) einen Träger (3) und mehrere optoelektronische Halbleiterchips (2), die an einer Montageseite (32) des Trägers (2) angebracht sind,wobei- der Träger (3) mehrere separate, metallische Leiterrahmenteile (34) und einen Vergusskörper (33) umfasst und der Vergusskörper (33) die Leiterrahmenteile (34) zusammenhält,- der Montageseite (32) eine Befestigungsseite (30) des Trägers (3) gegenüberliegt und die Befestigungsseite (30) für eine Oberflächenmontage des Halbleiterbauteils (1) eingerichtet ist,- die Leiterrahmenteile (34) den Vergusskörper (33) an der Montageseite (32) überragen, und- die optoelektronischen Halbleiterchips (2) Flip-Chips sind, sodass jeder der optoelektronischen Halbleiterchips (2) auf zumindest zwei der Leiterrahmenteile (34) angebracht ist und mittels dieser Leiterrahmenteile (34) elektrisch kontaktiert ist.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauelement (100) einen Leiterrahmen mit einem ersten Leiterrahmenelement (11) und einem zweiten Leiterrahmenelement (12), eine Frontseite (6), eine gegenüberliegende Rückseite (5) und eine quer zur Frontseite verlaufende Montageseite (7). Das Bauelement umfasst einen optoelektronischen Halbleiterchip (2) und einen Gehäusekörper auf dem Leiterrahmen und rings um den Halbleiterchip. Das Bauelement umfasst eine elektrische Verbindung (4) vom Halbleiterchip zum zweiten Leiterrahmenelement. Im Betrieb tritt über die Frontseite des Bauelements Strahlung in das Bauelement ein oder aus dem Bauelement aus. Die Montageseite des Bauelements ist zur Montage und elektrischen Kontaktierung des Bauelements eingerichtet. Das erste Leiterrahmenelement weist einen Aufnahmeabschnitt (11A) und einen ersten Kontaktabschnitt (11B) auf. Der erste Kontaktabschnitt ist dicker als der Aufnahmeabschnitt und überragt den Aufnahmeabschnitt in Richtung weg von der Rückseite und hin zur Frontseite. Der Halbleiterchip ist auf dem Aufnahmeabschnitt angeordnet. Der erste Kontaktabschnitt bildet eine erste Kontaktfläche (71) an der Montageseite, wobei die erste Kontaktfläche zur elektrischen Kontaktierung des Bauelements eingerichtet ist.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Trägerelements angegeben mit den Schritten: A) Bereitstellen einer ersten Metallschicht (1) mit einem ersten Metallmaterial, wobei die erste Metallschicht (1) eine erste und eine zweite Hauptoberfläche (10, 11) aufweist, die voneinander abgewandt sind, B) Aufbringen einer zweiten Metallschicht (2) mit einem zweiten Metallmaterial auf zumindest einer der Hauptoberflächen (10, 11), C) Umwandeln eines Teils der zweiten Metallschicht (2) in eine dielektrische Keramikschicht (3), wobei das zweite Metallmaterial einen Bestandteil der Keramikschicht (3) bildet und die Keramikschicht (3) eine der ersten Metallschicht (1) abgewandte Oberfläche (30) über der zweiten Metallschicht (2) bildet. Weiterhin werden ein Trägerelement und elektronisches Bauelement mit einem Trägerelement angegeben.
Abstract:
Es wird ein Konversionselement (100) beschrieben. Das Konversionselement (100) umfasst eine Konversionsschicht (16), welche ein wellenlängenkonvertierendes Konversionsmaterial umfasst, eine erste Verkapselungsschicht (30) auf einer ersten Hauptfläche (20) der Konversionsschicht, wobei die erste Verkapselungsschicht eine Dicke zwischen 10 µm und 500 µm aufweist, und eine zweite Verkapselungsschicht (32) auf einer zweiten Hauptfläche (22) der Konversionsschicht, wobei die zweite Verkapselungsschicht eine Dicke zwischen 0,1 µm und 20 µm aufweist. Weiterhin werden ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (200) und ein Verfahren zur Herstellung von Konversionselementen angegeben.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement umfasst einen Gehäusekörper, in den ein erster Leiterrahmenabschnitt und ein zweiter Leiterrahmenabschnitt eingebettet sind. Der erste Leiterrahmenabschnitt und der zweite Leiterrahmenabschnitt weisen jeweils eine Oberseite auf, die zumindest teilweise nicht durch den Gehäusekörper bedeckt ist. Der erste Leiterrahmenabschnitt und der zweite Leiterrahmenabschnitt sind durch einen Trennabschnitt des Gehäusekörpers voneinander getrennt. Der Trennabschnitt ist zumindest abschnittsweise über die Oberseiten des ersten Leiterrahmenabschnitts und des zweiten Leiterrahmenabschnitts erhaben.