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公开(公告)号：CN104428866A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201380036057.0
申请日：2013-05-14
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor： A.H.V.范维恩
IPC: H01J37/09 , H01J37/30 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/09 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/147 , H01J37/3007 , H01J37/302 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/026 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/16 , H01J2237/182 , H01J2237/188
Abstract: 本发明涉及一种带电粒子光刻系统。该系统具有子射束产生器，包括射束产生器，用于产生带电粒子射束；孔径阵列(6)，用于从该带电粒子射束形成多个子射束；以及子射束投射器，用于将该子射束投射在目标的表面上。带电粒子射束产生器包含带电粒子源(3)，用于产生发散的带电粒子射束；准直器系统(5a、5b、5c)，一个或多个泵(220)，高电压屏蔽配置(201)，用于屏蔽保护该高电压屏蔽配置外面的器件，避免受到高电压屏蔽配置内的高电压影响，以及冷却配置(203，204)，用于移除热量。一个或多个泵位于高电压屏蔽配置和冷却配置之间。
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公开(公告)号：CN107046795A
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201611104147.0
申请日：2016-12-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H05K9/00
CPC classification number: H05K9/00 , G12B17/00 , G12B17/02 , H01J37/09 , H01J37/3002 , H01J2237/0264 , H05K9/0001 , H05K9/0003 , H05K9/0075
Abstract: 一种板包括其中的第一导磁板和第二导磁板。第一导磁板具有第一导磁方向。第二导磁板与第一导磁板重叠。第二导磁板具有第二导磁方向。第一导磁方向和第二导磁方向交叉。
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公开(公告)号：CN102741968B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201080062962.X
申请日：2010-12-17
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor： J·佩斯特 , A·梅恩达勒 , A·J·M·希尔德林克
IPC: H01J37/20
CPC classification number: H01J37/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/3177 , H01J2237/0264 , H01J2237/202
Abstract: 本发明涉及设置有支撑和定位结构的带电粒子系统，所述支撑和定位结构用于将目标物支撑和定位在工作台上，所述支撑和定位结构包括第一构件和第二构件以及至少一个马达，以相对于所述第二构件移动所述第一构件，其中，设置有屏蔽件来屏蔽至少一束带电粒子束使其免受由所述至少一个马达产生的电磁场的影响，所述支撑和定位结构还包括弹簧，其机械地将所述第一构件连接到所述第二构件，以至少部分承载所述第一构件、工作台和目标物的重量。
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公开(公告)号：CN103365101B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201210096470.3
申请日：2012-04-01
Applicant: 中国科学院物理研究所
CPC classification number: H01J37/09 , G01R33/093 , G01R33/096 , H01F7/202 , H01F7/204 , H01F41/00 , H01J37/141 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/28 , H01J2237/31754 , H01L43/12
Abstract: 一种纳米图形化系统及其磁场施加装置，该纳米图形化系统包括真空腔、样品台和磁场施加装置，该磁场施加装置包括电源、磁场产生装置和一对磁极，所述磁场产生装置包括线圈和导磁软铁芯，所述电源与所述线圈连接，所述线圈缠绕在所述导磁软铁芯上以产生磁场，所述导磁软铁芯为半闭合框形结构，所述磁极分别安装在所述半闭合框形结构的两末端，所述纳米图形化系统的真空腔内设置有样品台，所述磁极相对于所述样品台设置在所述真空腔内，所述线圈和所述导磁软铁芯设置在所述真空腔外，所述导磁软铁芯将所述线圈产生的磁场引导进入所述真空腔内，所述磁极用以对所述样品台上的样品进行定位以及局域磁场的施加。
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公开(公告)号：CN104428868A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201380037416.4
申请日：2013-05-08
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/04
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/243 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0264 , H01J2237/0437 , H01J2237/2485 , H01J2237/31754 , H01J2237/31774
Abstract: 本发明涉及一种在多细射束带电粒子光刻系统中根据图案数据来调制带电粒子细射束的调制装置。该装置包括：板状主体；由多个细射束偏转器组成的阵列；多个电源终端(202至205)，用于供应至少两个不同的电压；多个控制电路；以及导电板条(201)，用于供电给电源终端(202至205)中的一者或多者。该板状主体被分成狭长的射束区(51)以及狭长的非射束区(52)，该射束区(51)与该非射束区(52)被定位成使得它们的长边彼此相邻。细射束偏转器被放置在射束区中。控制电路被放置在非射束区中。导电板条被连接至非射束区中的控制电路。导电板条包括多个薄的导电平板(202至205)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102741968A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201080062962.X
申请日：2010-12-17
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor： J·佩斯特 , A·梅恩达勒 , A·J·M·希尔德林克
IPC: H01J37/20
CPC classification number: H01J37/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/09 , H01J37/3177 , H01J2237/0264 , H01J2237/202
Abstract: 本发明涉及设置有支撑和定位结构的带电粒子系统，所述支撑和定位结构用于将目标物支撑和定位在工作台上，所述支撑和定位结构包括第一构件和第二构件以及至少一个马达，以相对于所述第二构件移动所述第一构件，其中，设置有屏蔽件来屏蔽至少一束带电粒子束使其免受由所述至少一个马达产生的电磁场的影响，所述支撑和定位结构还包括弹簧，其机械地将所述第一构件连接到所述第二构件，以至少部分承载所述第一构件、工作台和目标物的重量。
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公开(公告)号：CN104428868B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201380037416.4
申请日：2013-05-08
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/04
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/243 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0264 , H01J2237/0437 , H01J2237/2485 , H01J2237/31754 , H01J2237/31774
Abstract: 本发明涉及一种在多细射束带电粒子光刻系统中根据图案数据来调制带电粒子细射束的调制装置。该装置包括：板状主体；由多个细射束偏转器组成的阵列；多个电源终端(202至205)，用于供应至少两个不同的电压；多个控制电路；以及导电板条(201)，用于供电给电源终端(202至205)中的一者或多者。该板状主体被分成狭长的射束区(51)以及狭长的非射束区(52)，该射束区(51)与该非射束区(52)被定位成使得它们的长边彼此相邻。细射束偏转器被放置在射束区中。控制电路被放置在非射束区中。导电板条被连接至非射束区中的控制电路。导电板条包括多个薄的导电平板(202至205)。
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公开(公告)号：CN103477285A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201280018758.7
申请日：2012-02-13
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor： A.罗森塔尔
IPC: G03F7/20 , H01J37/147 , H01J37/317 , H01L21/67
CPC classification number: G03F7/70858 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/708 , H01J37/09 , H01J37/1475 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0264 , H01J2237/31754 , H01J2237/31774 , H01J2237/31793 , H01L21/6719 , H01L21/67213
Abstract: 本发明涉及用于磁屏蔽带电粒子光刻设备的系统（100）。该系统包括第一腔室、第二腔室（102）、和一组两个线圈（102a；102b）。该第一腔室具有多个壁，且至少部分地包围该带电粒子光刻设备，其中这些壁包括磁屏蔽材料。该第二腔室也具有包括磁屏蔽材料的壁，且包围该第一腔室。该组两个线圈被置放在第二腔室中，而位于第一腔室的相对侧上。该组两个线圈具有公共轴线。
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公开(公告)号：CN103365101A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201210096470.3
申请日：2012-04-01
Applicant: 中国科学院物理研究所
CPC classification number: H01J37/09 , G01R33/093 , G01R33/096 , H01F7/202 , H01F7/204 , H01F41/00 , H01J37/141 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/28 , H01J2237/31754 , H01L43/12
Abstract: 一种纳米图形化系统及其磁场施加装置，该纳米图形化系统包括真空腔、样品台和磁场施加装置，该磁场施加装置包括电源、磁场产生装置和一对磁极，所述磁场产生装置包括线圈和导磁软铁芯，所述电源与所述线圈连接，所述线圈缠绕在所述导磁软铁芯上以产生磁场，所述导磁软铁芯为半闭合框形结构，所述磁极分别安装在所述半闭合框形结构的两末端，所述纳米图形化系统的真空腔内设置有样品台，所述磁极相对于所述样品台设置在所述真空腔内，所述线圈和所述导磁软铁芯设置在所述真空腔外，所述导磁软铁芯将所述线圈产生的磁场引导进入所述真空腔内，所述磁极用以对所述样品台上的样品进行定位以及局域磁场的施加。
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公开(公告)号：EP2548992B1
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：EP12004988.7
申请日：2012-07-05
Inventor： Yamamoto, Kenji , Hirota, Satoshi
CPC classification number: C23C14/3492 , C23C14/325 , C23C14/352 , C23C14/505 , H01J37/32055 , H01J37/3402 , H01J37/3447 , H01J2237/0264
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