公开(公告)号：CN104428866A

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：CN201380036057.0

申请日：2013-05-14

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： A.H.V.范维恩

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/09 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/147 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/0262 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/16 ,  H01J2237/182 ,  H01J2237/188

Abstract: 本发明涉及一种带电粒子光刻系统。该系统具有子射束产生器，包括射束产生器，用于产生带电粒子射束；孔径阵列(6)，用于从该带电粒子射束形成多个子射束；以及子射束投射器，用于将该子射束投射在目标的表面上。带电粒子射束产生器包含带电粒子源(3)，用于产生发散的带电粒子射束；准直器系统(5a、5b、5c)，一个或多个泵(220)，高电压屏蔽配置(201)，用于屏蔽保护该高电压屏蔽配置外面的器件，避免受到高电压屏蔽配置内的高电压影响，以及冷却配置(203，204)，用于移除热量。一个或多个泵位于高电压屏蔽配置和冷却配置之间。

公开(公告)号：CN101238538B

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200680028482.5

申请日：2006-06-02

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： J·范德波特 ,  Y·Z·黄

IPC: H01J37/244

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/045 ,  H01J37/09 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/31705

Abstract: 本发明提供一种用于减轻与离子注入有关的污染的系统、方法、以及装置。本发明提供离子源、终点站、以及设置在离子源与终点站之间的质量分析器，其中由离子源形成离子束，且根据射束阻挡组件的位置，选择性地经由质量分析器将离子束传送至终点站。该射束阻挡组件选择性地防止离子束进入和/或射出质量分析器，因此将转换期间例如离子注入系统开机期间与不稳定离子源有关的污染最小化。

公开(公告)号：CN101410930B

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN200780010722.3

申请日：2007-03-28

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 拉塞尔·罗 ,  皮尔·R·卢比克 ,  D·杰弗里·里斯查尔 ,  史蒂夫·E·克劳斯 ,  艾立克·D·赫尔曼森 ,  约瑟·C·欧尔森

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/16 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/038

Abstract: 离子注入机(100)包括经组态以提供离子束(152)的离子源(102)、界定空腔(110)的终端结构(104)，所述离子源至少部分地安置于空腔内，以及包括绝缘系统(162，171)。所述绝缘系统经组态以电绝缘终端结构且经组态以在接近终端结构的至少一个外表面的区域中提供大于约72千伏/英寸的有效介电强度(dielectric strength)。本发明亦提供用来电绝缘离子注入机的气体盒(106)的气体盒绝缘系统。

公开(公告)号：CN109686645A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201910112217.4

申请日：2019-02-13

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 高飞 ,  王友年

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32082 ,  H01J37/32431 ,  H01J37/32798 ,  H01J2237/026

Abstract: 本发明公开了一种射频放电系统及其法拉第屏蔽结构，所述射频放电系统的金属腔室壳体通过内介质桶和外介质桶与金属盖板密封连接，所述金属盖板上设有进气口，所述外介质桶套设在所述内介质桶外侧，所述外介质桶外侧绕设有放电线圈，所述内介质桶和所述外介质桶之间设有法拉第屏蔽桶，所述法拉第屏蔽桶与所述金属腔室壳体和所述金属盖板连接。本发明解决了内置法拉第屏蔽桶的等离子体刻蚀轰击溅射难题；避免了内置法拉第屏蔽桶因为刻蚀、溅射，金属离子再次在功率耦合窗口沉积而导致的降低射频功率耦合效率的问题；还解决了外置法拉第屏蔽桶的放电线圈与法拉第屏蔽桶之间因距离过近而易出现的高压打火击穿的问题。

公开(公告)号：CN103107055B

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：CN201210396411.8

申请日：2012-10-18

Applicant: FEI ,  公司

Inventor： T.米勒 ,  S.张

IPC: H01J27/02 ,  H01J27/16 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32651 ,  H01J37/08 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32504 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/31749

Abstract: 本发明涉及用于聚焦射束系统的电感耦合等离子体离子源。一种用于聚焦带电粒子束系统的电感耦合等离子体源包括等离子体室内的导电屏蔽以便减少到等离子体的电容耦合。内部导电屏蔽被偏置电极或被等离子体被保持在与等离子体源基本上相同的电位。内部屏蔽允许等离子体室的外部上的更多种冷却方法。

公开(公告)号：CN105264632A

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201480032691.1

申请日：2014-04-28

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 金子朝子 ,  高须久幸 ,  武藤宏史 ,  岩谷彻 ,  许斐麻美

IPC: H01J37/20 ,  G01N1/28 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J37/20 ,  G01K1/14 ,  G01N1/32 ,  H01J37/30 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3023 ,  H01J37/3053 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/20271 ,  H01J2237/20285 ,  H01J2237/317

Abstract: 本发明的目的在于提供离子碾磨装置，能够在将离子束照射至试样并进行加工的离子碾磨装置中，与照射离子束时的试样的变形等无关地，高精度地进行试样的温度控制，例如提出有如下离子碾磨装置的方案，具有支撑将上述试样的一部分暴露于上述离子束并将该试样相对于离子束遮蔽的遮蔽件的遮蔽件支撑部件、和控制该遮蔽件支撑部件与上述试样台的至少一方的温度的温度控制机构，具备在上述离子束的照射中使上述试样台的与试样的接触面追随上述试样的变形而移动的移动机构、和配置在上述遮蔽件与试样之间并在上述离子束的照射中追随上述试样的变形而变形的试样保持部件中的至少一个。

公开(公告)号：CN101410930A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200780010722.3

申请日：2007-03-28

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 拉塞尔·罗 ,  皮尔·R·卢比克 ,  D·杰弗里·里斯查尔 ,  史蒂夫·E·克劳斯 ,  艾立克·D·赫尔曼森 ,  约瑟·C·欧尔森

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/16 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/038

Abstract: 离子注入机(100)包括经组态以提供离子束(152)的离子源(102)、界定空腔(110)的终端结构(104)，所述离子源至少部分地安置于空腔内，以及包括绝缘系统(162，171)。所述绝缘系统经组态以电绝缘终端结构且经组态以在接近终端结构的至少一个外表面的区域中提供大于约72千伏/时的有效介电强度(dielectric strength)。本发明亦提供用来电绝缘离子注入机的气体盒(106)的气体盒绝缘系统。

公开(公告)号：CN101238538A

公开(公告)日：2008-08-06

申请号：CN200680028482.5

申请日：2006-06-02

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： J·范德波特 ,  Y·Z·黄

IPC: H01J37/244

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/045 ,  H01J37/09 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/31705

Abstract: 本发明提供一种用于减轻与离子注入有关的污染的系统、方法、以及装置。本发明提供离子源、终点站、以及设置在离子源与终点站之间的质量分析器，其中由离子源形成离子束，且根据射束阻挡组件的位置，选择性地经由质量分析器将离子束传送至终点站。该射束阻挡组件选择性地防止离子束进入和/或射出质量分析器，因此将转换期间例如离子注入系统开机期间与不稳定离子源有关的污染最小化。

公开(公告)号：CN107614737A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201680015969.3

申请日：2016-03-17

Applicant: 视觉缓解公司

Inventor： M·马歇尔 ,  J·布朗

IPC: C23C14/10 ,  C23C14/34 ,  C23C14/40 ,  C23C14/44 ,  C23C14/50

CPC classification number: H01J37/3441 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32871 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3438 ,  H01J37/3447 ,  H01J37/345 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/3323

Abstract: 一种溅射系统和一种阳极与阳极防护罩组件，其提供改善的接地来实现延长的溅射循环。

公开(公告)号：CN106030753B

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201480076317.1

申请日：2014-03-28

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 铃木裕也 ,  长冲功 ,  松本弘昭

IPC: H01J37/20 ,  G01N23/225 ,  H01J37/252

CPC classification number: H01J37/20 ,  G01N23/2252 ,  H01J37/244 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/2442 ,  H01J2237/2445 ,  H01J2237/2561

Abstract: 在能量色散型X射线EDX分析中，由于检测器的大面积化等，产生检测的信号的峰/背比降低的问题。为了解决上述问题，在本发明中，提供一种试样架以及应用了该试样架的带电粒子束装置，试样架的特征在于，具备：主体部，其保持试样(301)；试样压板部(103)，其可自由装卸地设置在上述主体部，通过安装到该主体部来固定在该主体部保持的试样(301)，上述试样压板部(103)具有：第一孔(107)，其用于使带电粒子束(106)经过；第二孔(108)，其向检测器(102)只导入从上述试样(301)产生的信号(302)中的特定的信号(303)。