复合射束装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107818904A

    公开(公告)日:2018-03-20

    申请号:CN201710789226.8

    申请日:2017-09-05

    Inventor: 麻畑达也

    Abstract: 提供复合射束装置,其在利用集束离子束对试样进行截面加工之后利用其他射束对截面进行精加工时,能够抑制来自电子束镜筒的电场或磁场的泄漏所造成的影响或充电所造成的影响的。复合射束装置(100)具有:电子束镜筒(10),其用于对试样(200)照射电子束(10A);集束离子束镜筒(20),其用于对试样照射集束离子束(20A)而形成截面;以及中性粒子束镜筒(30),其加速电压设定得比集束离子束镜筒低,用于对试样照射中性粒子束(30A)而对截面进行精加工,电子束镜筒、集束离子束镜筒以及中性粒子束镜筒配置为各自的各照射束在照射点P上交叉。

    一种带电粒子圆磁透镜
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107204267A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201710433947.5

    申请日:2017-06-09

    CPC classification number: H01J37/141

    Abstract: 本发明属于带电粒子光学成像技术领域,尤其涉及一种带电粒子圆磁透镜。包括通电线圈及环形铁壳,通电线圈位于环形铁壳中,环形铁壳上具有至少一个环形间隙,环形间隙位于环形铁壳的端面。通过在端面磁路引入环形间隙,解决了一些实验样品由于无法置于磁透镜内部而不能完成样品发射电子的聚焦成像等技术问题,突破了现有圆磁透镜技术瓶颈,实现了使透镜磁场区位于透镜所围空间外部的技术效果,因而具备更广的应用领域。

    离子注入装置及离子注入方法

    公开(公告)号:CN105023821A

    公开(公告)日:2015-11-04

    申请号:CN201510148556.X

    申请日:2015-03-31

    Abstract: 本发明提供一种可减小向被处理物进行注入时的注入角度误差的离子注入装置及离子注入方法。离子注入装置(100)的射束线部具备转向电磁铁(30)、射束扫描器(34)及射束平行化器(36)。射束线部包含离子束的基准轨道,z方向表示沿基准轨道的方向,x方向表示与z方向正交的一个方向。转向电磁铁使离子束向x方向偏转。射束扫描器通过使离子束向x方向往复偏转,来扫描离子束。射束平行化器具备平行化透镜,该平行化透镜构成为使经扫描的离子束与z方向平行,平行化透镜在射束扫描器的扫描原点处具有焦点。控制部对转向电磁铁中x方向的偏转角度进行补正,以使偏转的离子束的实际轨道在xz面上于扫描原点处与基准轨道相交。

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