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    光阻图案形成方法
    91.
    发明公开
    光阻图案形成方法 有权

    公开(公告)号：CN102520581A

    公开(公告)日：2012-06-27

    申请号：CN201110442517.2

    申请日：2009-07-10

    Applicant: 信越化学工业株式会社

    Inventor： 渡边聪 ,  田中启顺 ,  渡边武 ,  金生刚

    IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

    CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/128

    Abstract: 本发明是一种化学增幅型光阻组合物，其至少含有1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物或氧化胺化合物，但排除胺及氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形。由此，可提供一种化学增幅光阻材料等的光阻材料、及使用此材料的图案形成方法，该光阻材料在用于微加工的微影成像术且特别是使用KrF激光、ArF激光、F2激光、极短紫外线、电子射线、X射线等作为曝光光源的微影术中，可赋予高解像性，同时在基板界面也能赋予良好图案形状。

    化学增幅型正型光阻组合物及图案形成方法
    92.
    发明公开
    化学增幅型正型光阻组合物及图案形成方法 有权

    公开(公告)号：CN101666976A

    公开(公告)日：2010-03-10

    申请号：CN200910140185.5

    申请日：2009-07-10

    Applicant: 信越化学工业株式会社

    Inventor： 武田隆信 ,  渡边聪 ,  大泽洋一 ,  大桥正树 ,  金生刚

    IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/00

    CPC classification number: G03F7/0395 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/114

    Abstract: 本发明是一种化学增幅型正型光阻组合物，其是化学增幅型光阻组合物，含有基质聚合物、含磺酸盐阴离子的锍盐、碱性成分及有机溶剂，作为主要成分；该基质聚合物是，含有1种或2种以上以所述通式(1)等表示的单体单元，且该聚合物的羟基的一部分是被缩醛基保护的碱不溶性聚合物，且在通过酸催化剂而被脱去保护后，会成为碱可溶性聚合物。通过光阻来进行的微影技术，需要有非常高的经时稳定性。又，必须能够得到不依存于基板的良好的图案轮廓或高解像度。依照本发明，能够提供一种可同时解决这些课题的化学增幅型正型光阻组合物及使用此种组合物的光阻图案的形成方法、以及空白光掩模的制造方法。

    一种制备17-甲基烷烃化合物的方法
    94.
    发明公开
    一种制备17-甲基烷烃化合物的方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN118878394A

    公开(公告)日：2024-11-01

    申请号：CN202410539193.1

    申请日：2024-04-30

    Applicant: 信越化学工业株式会社

    Inventor： 三宅裕树 ,  渡边武 ,  金生刚

    IPC: C07C19/01 ,  C07C17/263 ,  C07F3/02 ,  C07C17/20 ,  C07C19/075 ,  C07C1/32 ,  C07C9/22

    Abstract: 本发明涉及一种如下通式(1)的1‑卤代‑7‑甲基二十三烷化合物，其中X1表示卤素原子。本发明还涉及制备如下通式(4)的17‑甲基烷烃化合物的方法，其中n表示11至13的整数，该方法包括将上述1‑卤代‑7‑甲基二十三烷化合物(1)转化为如下通式(2)的亲核试剂7‑甲基二十三烷基化合物，其中M1表示Li、MgZ1、CuZ1或CuLiZ1，且Z1表示卤素原子或7‑甲基二十三烷基基团，随后使上述亲核试剂7‑甲基二十三烷基化合物(2)与如下通式(3)的亲电烷基试剂进行偶联反应，其中X2表示卤素原子或对甲苯磺酰氧基基团，且n如上文所定义，以形成上述17‑甲基烷烃化合物(4)。#imgabs0#

    制备(9E,11Z)-9,11-十六碳二烯醛的方法
    97.
    发明授权
    制备(9E,11Z)-9,11-十六碳二烯醛的方法 有权

    公开(公告)号：CN110386865B

    公开(公告)日：2023-12-05

    申请号：CN201910309565.0

    申请日：2019-04-17

    Applicant: 信越化学工业株式会社

    Inventor： 渡部友博 ,  三宅裕树 ,  金生刚 ,  长江祐辅

    IPC: C07C45/51 ,  C07C47/21 ,  C07C41/50 ,  C07C43/303

    Abstract: 本发明的目的是提供一种(9E,11Z)‑9,11‑十六碳二烯醛的高效制备方法。本发明提供了制备(9E,11Z)‑9,11‑十六碳二烯醛(4)的方法,该方法至少包括以下步骤：在衍生自(8E,10Z)‑1‑卤代‑8,10‑十五碳二烯(1)的(8E,10Z)‑8,10‑十五碳二烯基卤化镁和原甲酸酯(2)之间进行亲核取代反应，从而制备(9E,11Z)‑1,1‑二烷氧基‑9,11‑十六碳二烯(3)；以及水解所述(9E,11Z)‑1,1‑二烷氧基‑9,11‑十六碳二烯(3)来得到(9E,11Z)‑9,11‑十六碳二烯醛(4)。

    (2E,6Z)-2,6-壬二烯醛和(2E)-顺-6,7-环氧-2-壬烯醛的制备法
    99.
    发明授权
    (2E,6Z)-2,6-壬二烯醛和(2E)-顺-6,7-环氧-2-壬烯醛的制备法 有权

    公开(公告)号：CN110551009B

    公开(公告)日：2023-10-20

    申请号：CN201910465202.6

    申请日：2019-05-30

    Applicant: 信越化学工业株式会社

    Inventor： 三宅裕树 ,  金生刚 ,  渡部友博

    IPC: C07C45/42 ,  C07C47/21 ,  C07D301/14 ,  C07D303/32 ,  C07F9/54

    Abstract: 本发明提供一种制备(2E,6Z)‑2,6‑壬二烯醛的方法，该方法至少包括以下步骤：使通式为Ar3P＝CH(CH2)2CH＝CHCH(OR1)(OR2)的(6,6‑二烷氧基‑4‑己烯基)三芳基膦化合物与丙醛进行维蒂希反应，以形成通式(6)的1,1‑二烷氧基‑(6Z)‑2,6‑壬二烯化合物；使1,1‑二烷氧基‑(6Z)‑2,6‑壬二烯化合物水解以形成(2E,6Z)‑2,6‑壬二烯醛。还提供了制备式(8)的(2E)‑顺‑6,7‑环氧‑2‑壬烯醛的方法，该方法包括将所获得的(2E,6Z)‑2,6‑壬二烯醛进行环氧化以形成(2E)‑顺‑6,7‑环氧‑2‑壬烯醛的步骤。#imgabs0#

    制备(E2)-顺-6,7-环氧-2-壬烯醛的方法
    100.
    发明授权
    制备(E2)-顺-6,7-环氧-2-壬烯醛的方法 有权

    公开(公告)号：CN110857265B

    公开(公告)日：2023-05-16

    申请号：CN201910779277.1

    申请日：2019-08-22

    Applicant: 信越化学工业株式会社

    Inventor： 山下美与志 ,  三宅裕树 ,  金生刚

    IPC: C07D301/14

    Abstract: 本发明的目的是提供一种制备下式(3)的(E2)‑顺‑6,7‑环氧‑2‑壬烯醛的工业化并经济的方法：本发明提供了一种制备(E2)‑顺‑6,7‑环氧‑2‑壬烯醛(3)的方法，包括至少以下步骤：使下式(1)的(Z3,Z6)‑3,6‑壬二烯‑1‑醇进行氧化：以形成下式(2)的(E2,Z6)‑2,6‑壬二烯醛；和环氧化所得(E2,Z6)‑2,6‑壬二烯醛，以形成前述(E2)‑顺‑6,7‑环氧‑2‑壬烯醛(3)。

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