一种刻蚀增强型的非制冷红外薄膜探测器及制备方法

    公开(公告)号:CN110160658B

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN201910411805.8

    申请日:2019-05-17

    Abstract: 本发明公开了一种刻蚀增强型的非制冷红外薄膜探测器及制备方法,所述探测器由氧化铝衬底,锰钴镍氧敏感元,锰钴镍氧介质超表面结构层,补偿元,以及器件管座组成。本发明制备的刻蚀增强型非制冷红外薄膜探测器,在传统锰钴镍氧薄膜型探测器的基础上,通过设计和刻蚀敏感元部分,形成特定周期、占空比和深度的锰钴镍氧介质超表面结构层,达到了增强耦合光的能力,促进了锰钴镍氧薄膜材料在红外波段的宽带吸收,进而增强了器件对红外辐射的宽波段探测能力,在响应率和探测率等方面可以有进一步的提高。本发明设计的器件制备工艺简单,与现有的硅集成工艺相兼容,可以在焦平面探测器中大规模应用。

    机械式光脉冲调制器和调制方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119987012A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202311511680.9

    申请日:2023-11-13

    Abstract: 本申请提供了一种机械式光脉冲调制器和调制方法。机械式光脉冲调制器包括:光源;电机飞轮;至少一个楔形镜,设置于电机飞轮的外边缘上,楔形镜被配置为,在楔形镜旋转至与电机飞轮的圆心和光源位于同一条直线且面向光源的情况下,将光源出射的光进行反射;微反射镜,位于楔形镜的反射光出射方向,用于反射由楔形镜反射而来的光,其中,微反射镜包括光反射部件和光吸收部件,光吸收部件用于吸收光反射部件周围的光。本申请提供的机械式光脉冲调制器解决了现有技术中光脉冲调制设备存在的成本较高、调节方法较为复杂的问题。

    一种刻蚀增强型的非制冷红外薄膜探测器及制备方法

    公开(公告)号:CN110160658A

    公开(公告)日:2019-08-23

    申请号:CN201910411805.8

    申请日:2019-05-17

    Abstract: 本发明公开了一种刻蚀增强型的非制冷红外薄膜探测器及制备方法,所述探测器由氧化铝衬底,锰钴镍氧敏感元,锰钴镍氧介质超表面结构层,补偿元,以及器件管座组成。本发明制备的刻蚀增强型非制冷红外薄膜探测器,在传统锰钴镍氧薄膜型探测器的基础上,通过设计和刻蚀敏感元部分,形成特定周期、占空比和深度的锰钴镍氧介质超表面结构层,达到了增强耦合光的能力,促进了锰钴镍氧薄膜材料在红外波段的宽带吸收,进而增强了器件对红外辐射的宽波段探测能力,在响应率和探测率等方面可以有进一步的提高。本发明设计的器件制备工艺简单,与现有的硅集成工艺相兼容,可以在焦平面探测器中大规模应用。

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