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    化学放大型抗蚀剂组合物
    11.
    发明授权
    化学放大型抗蚀剂组合物 失效

    公开(公告)号：CN101211113B

    公开(公告)日：2012-01-11

    申请号：CN200710161112.5

    申请日：2007-12-18

    Applicant: 住友化学株式会社

    Inventor： 荒木香 ,  山口训史 ,  山本敏

    IPC: G03F7/039

    CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：(A)由式(I)表示的盐、(B)由式(II)表示的盐和(C)树脂，所述树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元，并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，其中在式(I)和(II)中的R21、Q1、Q2、Q3、A+和A’+与权利要求书和说明书中定义的相同。A’+-O3S-Q3(II)。

    适合作为酸生成剂的盐和包含该盐的化学放大型抗蚀组合物
    13.
    发明授权
    适合作为酸生成剂的盐和包含该盐的化学放大型抗蚀组合物 失效

    公开(公告)号：CN1841200B

    公开(公告)日：2010-12-29

    申请号：CN200610077419.2

    申请日：2006-03-28

    Applicant: 住友化学株式会社

    Inventor： 吉田勋 ,  原田由香子 ,  山口训史 ,  安藤信雄

    IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC classification number: C07C309/17 ,  C07C2603/74

    Abstract: 适合作为酸生成剂的盐和包含该盐的化学放大型抗蚀组合物本发明提供一种式(L)的盐式(L)的盐其中Q代表-CO-基团或-C(OH)-基团；环X代表含有3-30个碳原子的单环或多环烃基，其中当Q是-C(OH)-基团时，在Q位置上的一个氢原子被一个羟基取代，或者当Q是-CO-基团时，在Q位置上的两个氢原子被＝O基取代，并且单环或多环烃基中的至少一个氢原子任选地被含有1-6个碳原子的烷基、含有1-6个碳原子的烷氧基、含有1-4个碳原子的全氟烷基、含有1-6个碳原子的羟烷基、羟基或氰基取代；R10和R20各自独立地表示氟原子或含有1-6个碳原子的全氟化烷基；A+表示有机平衡离子。本发明还提供一种包含式(L)的盐的化学放大型抗蚀组合物。

    适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物
    15.
    发明公开
    适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 失效

    公开(公告)号：CN1955845A

    公开(公告)日：2007-05-02

    申请号：CN200610142439.3

    申请日：2006-10-26

    Applicant: 住友化学株式会社

    Inventor： 原田由香子 ,  吉田勋 ,  山口训史

    IPC: G03F7/039

    CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46

    Abstract: 本发明提供一种式(I)的盐，其中环X表示含有三环或更多环并且含有10至30个碳原子的多环烃基，并且环X中的一个或多个氢原子任选被含有1至6个碳原子的烷基、含有1至6个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基或氰基取代；Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基；n表示1至12的整数；并且A+表示选自由上式(IIa)、(IIb)和(IIc)的阳离子组成的组中的阳离子。本发明还提供一种包含所述式(I)的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。

    化学放大型正光刻胶组合物
    16.
    发明公开
    化学放大型正光刻胶组合物 失效

    公开(公告)号：CN1645254A

    公开(公告)日：2005-07-27

    申请号：CN200510004738.6

    申请日：2005-01-18

    Applicant: 住友化学株式会社

    Inventor： 武元一树 ,  桥本和彦 ,  山口训史

    IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

    Abstract: 本发明提供了一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：(A)一种树脂和(B)一种酸生成剂，所述的树脂包含(i)5至50摩尔％的式(I)的结构单元、(ii)5至50摩尔％的式(II)的结构单元，和(iii)5至50摩尔％的至少一种选自由式(III)和(IV)组成的组的结构单元。本发明组合物适用于使用ArF、KrF等的受激准分子激光平版印刷，并显示了各种显著的光刻胶性能，特别地，赋予因此得到的光刻胶图案更好的有效敏感度和清晰度，且尤其是，赋予优异的图案形状和优异的线边缘粗糙度。

    化学放大型抗蚀剂组合物
    17.
    发明授权
    化学放大型抗蚀剂组合物 失效

    公开(公告)号：CN101236357B

    公开(公告)日：2012-07-04

    申请号：CN200810008504.2

    申请日：2008-01-23

    Applicant: 住友化学株式会社

    Inventor： 高田佳幸 ,  山本敏 ,  山口训史

    IPC: G03F7/039

    CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

    Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：树脂和至少两种盐，该树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元和由式(I)表示的结构单元，式(I)中R1表示氢原子或甲基，环X表示C3-C30环烃基，其中一个-CH2-被-COO-取代，并且C3-C30环烃基中的至少一个氢原子可以被取代，且p表示1至4的整数，并且该树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；该至少两种盐选自由式(II)表示的盐和由式(III)表示的盐，在式(II)中，Y1和Y2各自独立地表示氟原子或者C1-C6全氟烷基，A+表示有机抗衡离子且R21表示可以被取代的C1-C30烃基，且该C1-C30烃基中的至少一个-CH2-可以被-CO-或-O-取代，式(III)中，R23表示C1-C8直链或支链全氟烷基，并且A′+表示有机抗衡离子。

    适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物
    18.
    发明授权
    适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 失效

    公开(公告)号：CN1955845B

    公开(公告)日：2012-06-13

    申请号：CN200610142439.3

    申请日：2006-10-26

    Applicant: 住友化学株式会社

    Inventor： 原田由香子 ,  吉田勋 ,  山口训史

    IPC: G03F7/039

    CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46

    Abstract: 本发明提供一种式(I)的盐，其中环X表示含有三环或更多环并且含有10至30个碳原子的多环烃基，并且环X中的一个或多个氢原子任选被含有1至6个碳原子的烷基、含有1至6个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基或氰基取代；Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基；n表示1至12的整数；并且A+表示选自由下列式(IIa)、(IIb)和(IIc)的阳离子组成的组中的阳离子。本发明还提供一种包含所述式(I)的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。

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