-
公开(公告)号：CN111662249A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010147905.7
申请日：2020-03-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D303/40 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及环氧化合物、抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题为提供无损感度而能适当地控制产生自产酸剂的酸的扩散长度的抗蚀剂组合物、及使用了该抗蚀剂组合物的图案。该课题的解决方法为以下式(1)表示的环氧化合物、及含有该环氧化合物的抗蚀剂组合物。式中，X1及X2分别独立地为-CH2-或-O-。kA为0或1。R1及R2分别独立地为碳数4～20的叔烃基、或选自于下式中的基团。式中，虚线为价键。
-
公开(公告)号：CN111499500A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN202010077624.9
申请日：2020-01-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C43/23 , C08F220/38 , C08F212/14 , H01L51/52
Abstract: 本发明提供一种适合用作燃料电池用或导电材料用的掺杂剂的导电聚合物用高分子化合物与其制备方法，该导电聚合物用高分子化合物由共聚聚合物形成，该共聚聚合物含有具有氟磺酸、氟磺酰亚胺基、正羰基氟磺酰胺基的重复单元与具有3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基异丁醚基的苯乙烯的重复单元。使用下述通式(1)所表示的聚合性单体与选自具有由氟磺酸等的锂盐、钠盐、钾盐、氮化合物盐构成的盐结构的单体中的一种以上的单体，进行聚合反应，通过离子交换，将通过聚合反应而得到的聚合物的重复单元的盐结构变换为氟磺酸等。[化学式1]
-
公开(公告)号：CN109426080B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201810957182.X
申请日：2018-08-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/28 , C08F220/20 , C08F220/38 , C07C67/297 , C07C69/54 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D307/00
Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。
-
公开(公告)号：CN111138586A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201911040009.4
申请日：2019-10-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/38 , C08F212/14 , C08F222/24 , G03F7/004
Abstract: 本发明的课题是提供残存单体量少，使用于抗蚀剂组合物时，尤其会展现良好的LWR的聚合物的制造方法。一种聚合物的制造方法，是制造含有来自包含因曝光而分解并产生酸的结构的单体(A)的重复单元、来自具有酸不稳定基团的单体(B)的重复单元、及来自具有酚性羟基的单体(C)的重复单元，且聚合物中所含的单体(A)的残存量为1.0质量％以下的聚合物的制造方法，包含将含有单体(A)、单体(B)、及单体(C)的单体溶液供给到反应釜中的步骤、及在该反应釜内实施聚合反应的步骤，该反应釜内的单体溶液中的单体浓度为35质量％以上，且该单体溶液的溶剂(S)包含选自下式(S-1)及下式(S-2)所示的溶剂中的至少1种。
-
公开(公告)号：CN111123651A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201911044993.1
申请日：2019-10-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及基板保护膜形成用组合物和图案形成方法。包括下述组分的组合物适于形成基板与抗蚀剂膜之间的保护膜：(A)聚合物，其包含具有用酸不稳定基团保护的羧基的重复单元(a1)和具有环状酯、环状碳酸酯或环状磺酸酯结构的重复单元(a2)，(B)热致产酸剂，和(C)有机溶剂。即使使用含有金属的抗蚀剂膜，该保护膜对于防止该基板被金属污染也有效。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110526802A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910437381.2
申请日：2019-05-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C33/26 , C07C29/00 , C07C67/08 , C07C69/533 , C08F212/14 , C08F232/08 , C08F220/38 , C08F220/30 , G03F7/038
Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、负型抗蚀剂组合物、光掩模坯和抗蚀剂图案形成方法。包含含有在分子中具有至少两个酸可消除的羟基或烷氧基重复单元的聚合物的负型抗蚀剂组合物对于形成具有高分辨率和最小的LER同时使缺陷最小化的抗蚀剂图案有效。
-
公开(公告)号：CN105717744A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201510955723.1
申请日：2015-12-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/38 , C07C69/533 , C07C69/54
Abstract: 提供具有多个叔醇羟基的单体。通过将该单体聚合而得到的有用的聚合物。由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。
-
公开(公告)号：CN116774520A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310253954.2
申请日：2023-03-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的目的为提供边缘粗糙度、尺寸偏差小，分辨性优异，曝光后的图案形状良好，且保存稳定性亦良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为含有：(Ia)含有包含羟基或羧基的重复单元(A)的聚合物、(II)具有下式(1)表示的结构的交联剂、(III)具有下式(2)表示的结构的淬灭剂、(IV)有机溶剂、及(V)会因为活性光线或放射线的照射而分解并产生酸的成分。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN116515035A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310062007.5
申请日：2023-01-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/30 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/38 , G03F7/039 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供于高能射线下为高感度、高分辨率、高对比度且能形成图案宽的变异(LWR)及图案的面内均匀性(CDU)小的图案的聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。一种聚合物，是因曝光而产生酸，且因此酸的作用而改变对于显影液的溶解性的聚合物，其特征为含有下式(A‑1)表示的重复单元、及下式(B‑1)～(B‑4)中的任一者以上表示的重复单元。式中，M‑为非亲核性相对离子，A+为鎓阳离子，n1为1或2的整数，n2为0～2的整数，n3为0～5的整数，n4为0～2的整数，c为0～3的整数。
-
公开(公告)号：CN116425626A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202211683249.8
申请日：2022-12-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C65/21 , G03F7/00 , G03F7/004 , C07C65/24 , C07D305/06 , C07C59/70 , C07C311/51 , C07C311/09 , C07C69/63 , C07C69/75 , C07C69/753 , C07C69/16 , C07C381/12 , C07D333/08 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D327/08 , C07D335/16 , C07D279/20 , C07D333/76 , C07D339/08 , C07C25/18 , C07C69/76 , C07C69/712 , C07C43/225 , C07C39/367
Abstract: 本发明涉及盐化合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中不损及感度且CDU、LWR等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、使用于其中的酸扩散抑制剂、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为提供下式(1)或(2)表示的盐化合物、由该盐化合物构成的酸扩散抑制剂、以及包含该酸扩散抑制剂的抗蚀剂组成物。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
24
records
(took 0.031 seconds)
