公开(公告)号：CN112639157A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201980057322.0

申请日：2019-09-06

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 西刚广 ,  山本龙彦 ,  小林昭彦

IPC: C23C14/04

Abstract: 蒸镀掩模中间体具备具有追随蒸镀掩模的边缘的形状的带状部、具备具有追随带状部的边缘的形状的内侧边缘且包围带状部的框状部、以及将带状部的边缘与框状部的内侧边缘连接的多个跨接部。带状部通过各跨接部的切断而形成蒸镀掩模。在带状部的边缘设置有具有追随缺口的底部的形状的弯曲部，各跨接部与带状部的边缘中的除弯曲部以外的部位连接。

公开(公告)号：CN109440062A

公开(公告)日：2019-03-08

申请号：CN201811389315.4

申请日：2016-03-22

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  三上菜穗子 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  C23F1/02 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56 ,  G01N21/55

Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。

公开(公告)号：CN107406963B

公开(公告)日：2018-11-20

申请号：CN201680012997.X

申请日：2016-07-15

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  新纳干大 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广 ,  三上菜穗子

IPC: C23C14/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

Abstract: 蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。

公开(公告)号：CN107406963A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680012997.X

申请日：2016-07-15

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  新纳干大 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广 ,  三上菜穗子

IPC: C23C14/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: C25B11/041 ,  C23C14/042 ,  C25C1/08 ,  C25C7/08 ,  C25D1/10 ,  C25D5/16 ,  C25D11/34 ,  H01L51/0011

Abstract: 蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。

公开(公告)号：CN109642310B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN201780047940.8

申请日：2017-08-01

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 西刚广

IPC: C23C14/04

Abstract: 蒸镀用金属掩模具备包括多个掩模孔的掩模区域，位于掩模区域的中央以外的位置的各掩模孔的连接部具有遍及掩模孔的整周地朝向掩模孔的内侧突出的形状，该连接部由作为靠近掩模区域的中央的部分的第1部分和作为靠近掩模区域的端部的部分的第2部分构成。第1部分与掩模区域的背面之间的距离是第1台阶高度，端部区域中的第1台阶高度比中央区域中的第1台阶高度小。

公开(公告)号：CN113403574A

公开(公告)日：2021-09-17

申请号：CN202110664955.7

申请日：2016-06-29

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 三上菜穗子 ,  田村纯香 ,  寺田玲尔 ,  仓田真嗣 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23F1/16 ,  C23F1/02 ,  C23F1/28 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明涉及金属掩模用基材的制造方法、蒸镀用金属掩模的制造方法、金属掩模用基材及蒸镀用金属掩模。在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。

公开(公告)号：CN109440062B

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201811389315.4

申请日：2016-03-22

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  三上菜穗子 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  C23F1/02 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56 ,  G01N21/55

Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。

公开(公告)号：CN109642310A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201780047940.8

申请日：2017-08-01

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 西刚广

IPC: C23C14/04

Abstract: 蒸镀用金属掩模具备包括多个掩模孔的掩模区域，位于掩模区域的中央以外的位置的各掩模孔的连接部具有遍及掩模孔的整周地朝向掩模孔的内侧突出的形状，该连接部由作为靠近掩模区域的中央的部分的第1部分和作为靠近掩模区域的端部的部分的第2部分构成。第1部分与掩模区域的背面之间的距离是第1台阶高度，端部区域中的第1台阶高度比中央区域中的第1台阶高度小。

公开(公告)号：CN107406964B

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201680013004.0

申请日：2016-03-22

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  三上菜穗子 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广

IPC: C23C14/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。

公开(公告)号：CN107849681A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680041439.6

申请日：2016-03-22

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广

IPC: C23C14/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/0011 ,  B05C21/005 ,  C23C14/04 ,  C23F1/02 ,  C23F1/16 ,  H01L51/56 ,  H05B33/10

Abstract: 金属掩模基材具备以配置抗蚀剂的方式构成的金属制的表面，表面的三维表面粗糙度Sa为0.11μm以下，表面的三维表面粗糙度Sz为3.17μm以下。