光接收器件、内置电路型光接收装置及光盘装置

    公开(公告)号:CN100370628C

    公开(公告)日:2008-02-20

    申请号:CN02822978.9

    申请日:2002-11-29

    CPC classification number: H01L31/02161 H01L31/103 H01L31/1035

    Abstract: 一层第一P型扩散层(101)和一层P型半导体层(102)设置在一个硅衬底(100)上,并且两层N型扩散层(103、103)设置在该P型半导体层(102)的正面上,以便形成两个光接收装置。三层透光性膜、一层第一二氧化硅膜(105)、一层氮化硅膜(106)、以及一层第二二氧化硅膜(107)设置在N型扩散层(103、103)上以及两扩散层(103、103)之间的P型半导体层(102)上。在制造工艺期间产生且分散和俘获到三层透光性膜之间的两个界面中的空穴可将P型半导体层(102)表面附近的场强减小到传统水平之下,并减少了导电型的反转,以便因此减小光接收装置之间的漏泄电流。

    光接收器件、内置电路型光接收装置及光盘装置

    公开(公告)号:CN1589503A

    公开(公告)日:2005-03-02

    申请号:CN02822978.9

    申请日:2002-11-29

    CPC classification number: H01L31/02161 H01L31/103 H01L31/1035

    Abstract: 一层第一P型扩散层(101)和一层P型半导体层(102)设置在一个硅衬底(100)上,并且两层N型扩散层(103、103)设置在该P型半导体层(102)的正面上,以便形成两个光接收装置。三层透光性膜、一层第一二氧化硅膜(105)、一层氮化硅膜(106)、以及一层第二二氧化硅膜(107)设置在N型扩散层(103、103)上以及两扩散层(103、103)之间的P型半导体层(102)上。在制造工艺期间产生且分散和俘获到三层透光性膜之间的两个界面中的空穴可将P型半导体层(102)表面附近的场强减小到传统水平之下,并减少了导电型的反转,以便因此减小光接收装置之间的漏泄电流。

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