公开(公告)号：CN102421940A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN200980158909.7

申请日：2009-04-30

Applicant: 岩谷产业株式会社 ,  株式会社索夫塞拉

Inventor： 小池国彦 ,  小粥康充 ,  中川雅美

IPC: C23C22/78 ,  C23C22/00

CPC classification number: C23C22/05 ,  C08K3/32 ,  C09D1/00 ,  C23C18/04 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1241 ,  C23C22/78 ,  C23C22/83 ,  C23C2222/20

Abstract: 本发明提供通过不使用酸且残留物少的处理方法使磷酸钙固定在金属表面的手段。所述制造方法为在基材的表面结合磷酸钙而成的磷酸钙复合体的制造方法，其特征在于，包括如下的工序：使所述基材的表面接触表面处理剂后，接触硅烷偶联剂而进行表面处理的表面处理工序；在所述表面处理工序后，通过聚合引发剂对硅烷偶联剂的聚合进行引发的聚合工序；和使聚合工序后的所述基材的表面的硅烷偶联剂与所述磷酸钙结合的结合工序；所述基材为金属，所述表面处理剂为臭氧水。

公开(公告)号：CN110462794B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN201880020478.7

申请日：2018-02-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  岩谷产业株式会社

Inventor： 土桥和也 ,  折居武彦 ,  斋藤幸正 ,  小池国彦 ,  妹尾武彦 ,  泉浩一 ,  吉野裕 ,  荘所正 ,  兼平圭太

IPC: H01L21/304

Abstract: 向基板(S)照射气体团簇来对基板(S)进行规定的处理的气体团簇处理装置(100)具备：处理容器(1)；气体供给部(13)，其供给用于生成气体团簇的气体；质量流量控制器(14)，其控制从气体供给部(13)供给的气体的流量；团簇喷嘴(11)，其以规定的供给压力供给用于生成气体团簇的气体，将该气体喷出至被保持真空的处理容器内来通过绝热膨胀使该气体团簇化；以及压力控制部(15)，其设置于质量流量控制器(14)与团簇喷嘴(11)的之间的配管(12)，并且具有对用于生成气体团簇的气体的供给压力进行控制的背压控制器(17)。

公开(公告)号：CN110462794A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880020478.7

申请日：2018-02-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  岩谷产业株式会社

Inventor： 土桥和也 ,  折居武彦 ,  斋藤幸正 ,  小池国彦 ,  妹尾武彦 ,  泉浩一 ,  吉野裕 ,  荘所正 ,  兼平圭太

IPC: H01L21/304

Abstract: 向基板(S)照射气体团簇来对基板(S)进行规定的处理的气体团簇处理装置(100)具备：处理容器(1)；气体供给部(13)，其供给用于生成气体团簇的气体；质量流量控制器(14)，其控制从气体供给部(13)供给的气体的流量；团簇喷嘴(11)，其以规定的供给压力供给用于生成气体团簇的气体，将该气体喷出至被保持真空的处理容器内来通过绝热膨胀使该气体团簇化；以及压力控制部(15)，其设置于质量流量控制器(14)与团簇喷嘴(11)的之间的配管(12)，并且具有对用于生成气体团簇的气体的供给压力进行控制的背压控制器(17)。

公开(公告)号：CN109196276A

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：CN201780033968.6

申请日：2017-05-09

Applicant: 岩谷产业株式会社

Inventor： 佐枝学 ,  加藤勇人 ,  阿部好伸 ,  小池国彦 ,  浅井健治 ,  川边光则

IPC: F23D14/84 ,  F24C15/06

Abstract: 本发明能够对透明的氢火焰进行良好且高亮度的着色并且长时间保持发色状态。其包括燃烧氢气发出氢火焰(F)的多个燃烧器(21)，以及放置在从燃烧器(21)的火焰口(21a)发出氢火焰(F)的方向的前方的着色部(31)。着色部(31)由发色部件(32)和穿过氢火焰(F)的贯通部(33)构成，发色部件(32)将呈现焰色反应的发色材料(32a)负载在溶岩形成的块状多孔体(32b)上形成。贯通部(33)由布置发色部件(32)时发色部件(32)之间的空间形成。

公开(公告)号：CN102989262B

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：CN201210331453.3

申请日：2012-09-07

Applicant: 岩谷产业株式会社

Inventor： 牧平尚久 ,  中村贞纪 ,  井上吾一 ,  小池国彦

IPC: B01D53/04 ,  C01B13/10

CPC classification number: B01D53/047 ,  B01D2253/106 ,  B01D2256/14 ,  B01D2259/40007 ,  B01D2259/40035 ,  B01D2259/402 ,  C01B13/10

Abstract: 一种臭氧气体浓缩方法，并列配置向内部填充非冷却状态的吸附剂而成的至少两个吸附筒，使容置在各吸附筒内的非冷却状态的吸附剂在臭氧及氧气混合气体中选择性地吸附臭氧气体，且在进行臭氧气体脱离操作时，通过对各吸附筒进行减压处理来使臭氧气体从吸附剂脱离，由此浓缩提纯臭氧气体，另外，控制上述至少两个吸附筒，使两个吸附筒交替反复进行吸附工序和脱离工序，且在一个吸附筒处于吸附工序时使另一个吸附筒处于脱离工序。在从臭氧气体的吸附工序要向脱离工序切换时，使处于吸附工序的吸附筒和处于脱离结束阶段的吸附筒相连通，使得吸附筒内部的压力的均等化，之后，使处于吸附阶段的吸附筒与减压发生单元相连通，来使臭氧气体从吸附剂脱离。

公开(公告)号：CN102124544B

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：CN200980132360.4

申请日：2009-08-10

Applicant: 岩谷产业株式会社 ,  国立大学法人京都大学

Inventor： 小池国彦 ,  妹尾武彦 ,  吉野裕 ,  东周平 ,  松尾二郎 ,  濑木利夫 ,  二宫启

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/3065 ,  B81B2201/0264 ,  B81B2207/015 ,  B81C1/00531 ,  B81C2201/0132 ,  G02B1/00 ,  H01L21/76898

Abstract: 本发明提供一种团簇喷射式加工方法、半导体元件、微机电元件及光学零件。提供采用电中性的反应性团簇进行的试样加工方法，在不会使由反应性气体和沸点比反应性气体的沸点低的气体构成的混合气体发生液化的范围内的压力下，使该混合气体沿规定的方向一边绝热膨胀一边喷出，生成反应性团簇，将上述反应性团簇喷射到真空处理室内的试样上而加工试样表面。