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公开(公告)号：CN101504906A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200810167498.5
申请日：2008-10-10
Applicant: 应用材料股份有限公司
IPC: H01J37/02 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/026 , H01J37/3171 , H01J2237/004 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/31705
Abstract: 本发明提供一种离子束导管。还提供具有这种离子束导管的离子注入器。该导管在该注入器中位于与待注入晶片相邻的位置，以在注入期间限制用于晶片中和的带电粒子，该导管包括一个或多个壁，所述一个或多个壁限定了穿过该导管以允许离子束通过的中心钻孔，其中所述一个或多个壁被构成为使得该中心钻孔逐渐变细。有利地，由于导管具有向外逐渐变细的中心钻孔，由此缓解了当离子束通过导管时射束撞击的问题。
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公开(公告)号：CN105474357B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201480045728.4
申请日：2014-06-25
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 朱利安·布雷克
IPC: H01L21/02 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/3244 , C23C14/22 , C23C14/564 , C23C16/4404 , C23C16/50 , H01J37/3171 , H01J37/32477 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/028 , H01J2237/0473 , H01J2237/0475 , H01J2237/057 , H01J2237/1207 , H01J2237/3321 , H01J2237/334
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统、离子植入系统及束线离子植入系统。例如是离子植入系统、沉积系统和蚀刻系统的基板处理系统，其具有粗糙化硅衬垫。硅衬垫是用可以产生细部特征的化学加工来粗糙化，像是微角锥，其高度可以小于二十微米。这些微角锥已经比一般在石墨衬垫中常见的粗糙化特征更小，尽管事实如此，粗糙化的硅能够保留沉积的镀膜且避免剥落。
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公开(公告)号：CN108666192A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201810233827.5
申请日：2018-03-21
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
Inventor： 岩堀敏行
IPC: H01J37/04 , H01J37/147 , H01J37/20
CPC classification number: H01J37/09 , H01J37/08 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/0213 , H01J2237/0458 , H01J2237/04756 , H01J2237/202 , H01J2237/20207 , H01J2237/28 , H01J2237/31749 , H01J37/04 , H01J37/1471
Abstract: 本发明的提供带电粒子束装置，其能够容易执行使入射到试样的电子束减速的电极与试样的适当且高精度的位置对齐。该带电粒子束装置(10)具有试样室(110)、试样载台(31)、向试样S照射电子束的电子束镜筒(13)、以及照射会聚离子束的会聚离子束镜筒(14)。带电粒子束装置(10)具有电极部件(45)。该电极部件(45)设置为能够在电子束镜筒(13)的出射端部和试样载台(31)之间的插入位置与离开插入位置的退出位置之间移位，并形成有使电子束通过的电极贯通孔。带电粒子束装置(10)具有使电极部件(45)移位的驱动机构(42)、对电极部件(45)施加负电压的电源(20)、以及对试样室(11)和驱动机构(42)与电极部件(45)进行电绝缘的绝缘部件(43)。
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公开(公告)号：CN104217913B
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201410158429.3
申请日：2014-04-18
Applicant: 斯伊恩股份有限公司
Inventor： 佐藤正辉
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/3171 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/026 , H01J2237/032 , H01J2237/036 , H01J2237/038 , H01J2237/08 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明提供一种绝缘结构及绝缘方法，其有助于降低维护频度并提高装置运转率。本发明提供设置在用于从等离子体生成部引出离子束的多个电极间的绝缘结构（30）。绝缘结构（30）具备：第1部分（52），连接于第1电极（20）；及第2部分（54），连接于第2电极（22），且具备：绝缘部件（32），用于将第1电极（20）支承于第2电极（22）；第1罩体（70），为了保护第1部分（52）免受污染粒子（18）的影响而包围第1部分（52）的至少一部分；及第2罩体（72），为了保护第2部分（54）免受污染粒子（18）的影响而包围第2部分（54）的至少一部分。第1部分（52）及第2部分（54）中的至少一部分由可加工陶瓷或多孔陶瓷形成。
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公开(公告)号：CN105103262B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201480019441.4
申请日：2014-03-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/026 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/2003 , H01J2237/2006
Abstract: 本发明的特征是在配置于非真空下的试料(6)与一次电子光学系统之间设有隔膜(10)的扫描电子显微镜中，具备过滤部件(200)，该过滤部件(200)至少在一次带电粒子束照射于试料的状态下配置在一次带电粒子束的路径上，使一次带电粒子束以及从试料得到的二次带电粒子透射或者通过，并且在隔膜破损了的情况下对飞散的飞散物的至少一部分进行遮蔽。由此，当在试料观察过程中隔膜损伤了的情况下，能够利用简单的结构没有时滞地防止因试料被吸入带电粒子光学镜筒内而产生的带电粒子光学系统、检测器的污染。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105940478A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201580005384.9
申请日：2015-02-10
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/18 , H01J37/16 , H01J37/28 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/164 , H01J2237/182 , H01J2237/2605
Abstract: 在能在大气压下进行观察的带电粒子线装置中，使用使带电粒子线透过的隔膜，对配置试样的大气压空间和带电粒子光学系统侧的真空空间进行隔离。该隔膜非常薄，因此破损的情况多。因此，产生隔膜的更换频率增加，由更换作业带来的便利性下降、运转费用增加之类的问题。为了解决该课题，参照图1，扫描电子显微镜的特征在于，具备：电子光学镜筒(2)，其将一次电子线照射至试样(6)上；箱体(7)，其与电子光学镜筒内部直接连结，至少在一次电子线的照射中，使内部与上述电子光学镜筒内部相比为低真空的状态；以及隔膜(10)，其对载置试样(6)的大气压环境的空间和低真空状态的箱体的内部进行隔离，并且供上述一次电子线透过。
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公开(公告)号：CN104217913A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201410158429.3
申请日：2014-04-18
Applicant: 斯伊恩股份有限公司
Inventor： 佐藤正辉
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/3171 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/026 , H01J2237/032 , H01J2237/036 , H01J2237/038 , H01J2237/08 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明提供一种绝缘结构及绝缘方法，其有助于降低维护频度并提高装置运转率。本发明提供设置在用于从等离子体生成部引出离子束的多个电极间的绝缘结构（30）。绝缘结构（30）具备：第1部分（52），连接于第1电极（20）；及第2部分（54），连接于第2电极（22），且具备：绝缘部件（32），用于将第1电极（20）支承于第2电极（22）；第1罩体（70），为了保护第1部分（52）免受污染粒子（18）的影响而包围第1部分（52）的至少一部分；及第2罩体（72），为了保护第2部分（54）免受污染粒子（18）的影响而包围第2部分（54）的至少一部分。第1部分（52）及第2部分（54）中的至少一部分由可加工陶瓷或多孔陶瓷形成。
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公开(公告)号：CN102027574A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980112463.4
申请日：2009-02-06
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/3065 , C23C14/564 , C23C16/4401 , C23C16/505 , H01J37/16 , H01J37/32091 , H01J37/32495 , H01J37/32568 , H01J2237/0213 , H01L21/02104 , H01L21/67017 , H01L21/67069
Abstract: 一种在等离子体室中使用的柔性聚合物或弹性体涂覆的射频返回带，以保护该射频带免受等离子体产生的自由基(比如氟和氧自由基)的损害，以及一种处理半导体衬底，同时减少等离子体处理装置中的微粒污染的方法。该涂覆射频带最小化微粒的产生并比未涂覆基底构件呈现出更低的侵蚀速率。在导电的柔性基底构件上具有柔性涂层的这种涂覆元件提供了射频地返回，其被配置为允许可调节间隙的电容耦合等离子体反应室中的一个或更多电极的移动。
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公开(公告)号：CN101730921A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200880017948.0
申请日：2008-05-27
Applicant: 应用材料股份有限公司
CPC classification number: H01J37/32724 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32477 , H01J37/32871 , H01J2237/0213 , H01J2237/0268 , H01J2237/2001 , H01J2237/335 , H01L21/67069 , H01L21/67103 , H01L21/67207 , Y10T29/49826
Abstract: 一种基板清洁腔室包含多种部件，例如，一消耗性陶瓷衬垫、基板加热底座、以及工艺套组。该消耗性陶瓷衬垫是经提供以连接一远程气体激发器的出气道至一基板清洁腔室的进气道。该基板加热底座包含一环状板，该环状板具有一基板承接表面，且该基板承接表面具有设置在一凹槽数组内的数个陶瓷球。一工艺套组包含一顶板、顶部衬垫、配气板、底部衬垫、集中环。
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公开(公告)号：CN101636811A
公开(公告)日：2010-01-27
申请号：CN200780049064.9
申请日：2007-12-20
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/248 , H01J37/302
CPC classification number: H01J37/248 , H01J37/045 , H01J37/3023 , H01J37/3171 , H01J2237/0206 , H01J2237/0213 , H01J2237/0432 , H01J2237/08
Abstract: 本发明公开一种射束控制电路和方法，通过减小离子束的工作因数以最小化离子植入系统内颗粒污染。在一个实施例中，射束控制电路包括与电源及离子植入系统的离子源部分相串联的高压开关，其中，开关可被操作以中断或重新建立电源与离子源的电极之间的连接，电极包括用于产生等离子体的电极。射束控制电路还包括开关控制器，其可操作地通过控制开关在离子植入开始之前闭合并且控制开关在植入完成之后或在不需要射束的其它时间断开，以控制离子束的工作因数，从而最小化射束工作因数和颗粒污染。射束控制技术可被应用于晶片掺杂植入和减小工作因数。用于高压开关的保护电路吸收来自电抗元件的能量并且钳止任何过电压。
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