高强度超低膨胀因瓦合金基复合材料的制备方法

    公开(公告)号:CN102041445B

    公开(公告)日:2012-06-06

    申请号:CN201110024351.2

    申请日:2011-01-21

    Abstract: 高强度超低膨胀因瓦合金基复合材料的制备方法,本发明涉及因瓦合金基复合材料的制备方法。本发明要解决现有高强因瓦合金存在变形加工工艺复杂、难以加工大尺寸构件的技术问题。本发明的方法如下:一、制备高纯钛粉和碳粉预制块;二、熔炼因瓦合金,得到熔体;三、预制块加入步骤二熔体中,保温,浇注成铸锭或铸件;四、热处理;即得到高强度超低膨胀因瓦合金基复合材料。本发明的高强度低膨胀因瓦合金基复合材料与现有技术相比具有成分和工艺控制简单,不需要经过复杂的形变强化工艺,可以直接铸造成形,不含贵重金属,成本低,更重要的是可以在大幅提高低膨胀因瓦合金强度的同时合金的膨胀系数可控制在较低的水平。

    SiC纳米颗粒及SiC晶须混杂增韧ZrC基超高温陶瓷复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN102424596A

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN201110261934.7

    申请日:2011-09-06

    Abstract: SiC纳米颗粒及SiC晶须混杂增韧ZrC基超高温陶瓷复合材料及其制备方法,它涉及超高温陶瓷复合材料及其制备方法。本发明解决了现有的ZrC基超高温陶瓷致密度低、成本高的技术问题。SiC纳米颗粒及SiC晶须混杂增韧ZrC基超高温陶瓷复合材料由SiC纳米颗粒、SiC晶须和ZrC基体组成;SiC纳米颗粒和SiC晶须作为增强相存在于ZrC基体中。制备方法:将SiC晶须经超声波分散后与SiC纳米颗粒和ZrC粉末混合,再球磨、烘干,再将混合粉装入石墨模具中热压烧结,得到SiC纳米颗粒及SiC晶须混杂增韧ZrC基超高温陶瓷复合材料,其致密度为96%~100%,成本低,可用于固体火箭发动机或超高速飞行器。

    一种呈等级孔结构且宏孔单向排列氧化硅陶瓷的制备方法

    公开(公告)号:CN102295472A

    公开(公告)日:2011-12-28

    申请号:CN200910310229.4

    申请日:2009-11-23

    Abstract: 一种呈等级孔结构且宏孔单向排列氧化硅陶瓷的制备方法,它涉及多孔氧化硅陶瓷的制备方法。本发明解决了现有的方法制备的氧化硅陶瓷的宏孔尺寸难以控制和比表面积低的问题。本方法如下:先将可溶性淀粉、聚乙烯醇和去离子水制成水溶胶,然后经定向凝固、冷冻干燥得到可溶性淀粉模板;再将可溶性淀粉模板浸入到由正硅酸乙酯、表面活性剂、盐酸、无水乙醇和去离子水制成溶液中浸渍;然后经烧结后得到呈等级孔结构且宏孔单向排列的氧化硅陶瓷。本发明制备的呈等级孔结构且宏孔单向排列的氧化硅陶瓷的宏孔单通道的平均尺寸为2~10靘,比表面积为500~840m2/g,可作为吸附剂、催化剂载体和多孔电极使用。

    采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法

    公开(公告)号:CN100554501C

    公开(公告)日:2009-10-28

    申请号:CN200710144777.5

    申请日:2007-12-07

    Abstract: 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法,它涉及碳化硅反射镜表面的涂膜方法。它解决了现有反射镜的两相具有相差悬殊的硬度值,使抛光的均匀性受到影响,加工难度高;反射镜的粗糙度较高、表面易损伤的问题。本发明的方法为:一、将碳化硅反射镜进行清洗;二、将碳化硅反射镜置于磁控溅射真空仓内的加热台上;三、将真空仓内抽真空,对碳化硅反射镜加热;四、通入Ar气,启动电离电源,对碳化硅反射镜表面进行电离清洗;五、向反射镜表面进行磁控溅射沉积镀膜。本发明方法制备的硅膜致密性好,覆盖了碳化硅表面的两相组织,易于抛光,光学精度高,硅膜与反射镜表面的结合性好。

    采用叠层法制备功能梯度材料的方法

    公开(公告)号:CN101332510A

    公开(公告)日:2008-12-31

    申请号:CN200710072421.5

    申请日:2007-06-29

    Abstract: 采用叠层法制备功能梯度材料的方法,分层实体造型是一种快速成型制造技术。在快速成型制造过程中,传统的材料余量的去除被一种通过逐渐增加材料而成型的方法所替代。快速成型制造方法能够与CAD,激光,光化学以及聚合物技术相结合实现一体化制造过程。分层实体造型制造过程是从传统的3维CAD文档开始,该文档被转化成制造用的标准格式(*.STL文件),然后再通过分离程序将材料模型片解成很多非常薄的断面。根据这些断面的轮廓设计的扫描路径控制成形台和激光扫描仪的移动。本发明组成包括:坯体的设计、素坯的制备、坯体的分层、片层的制备、坯体的制备、坯体自蔓延燃烧合成。本发明涉及功能梯度材料制备领域。

    超大尺寸碳化硅空间反射镜坯体的制造方法

    公开(公告)号:CN101315436A

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:CN200710072300.0

    申请日:2007-06-01

    Abstract: 超大尺寸碳化硅空间反射镜坯体的制造方法及应用,现有的技术中为了获得足够的比刚度,传统光学材料如光学玻璃等在制造大尺寸光学元件时会导致重量的急剧增加,并且成像质量急剧下降,以光学玻璃等为代表的传统光学材料已经不适用于空间光学发展的要求,因此需要产品替代传统光学材料。该方法组成包括:优化设计反射镜的外形及尺寸,将超大尺寸的反射镜分割为小尺寸的毛坯图,通过计算机和数控加工设备制造模具、制备浆料,浇注,并用反应烧结法制造毛坯、对毛坯加工并采用钎焊的方法将各个毛坯连接一起、修整。本发明用于制作超大尺寸的碳化硅空间反射镜坯体。

    随动系统轻质反射镜部件的制造方法

    公开(公告)号:CN101315434A

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:CN200710072297.2

    申请日:2007-06-01

    Abstract: 随动系统轻质反射镜部件的制造方法,传统的光学玻璃反射镜具有很低的热膨胀系数,适于在温度变化较大的环境下工作,但是其比刚度小,不能制成轻质结构,因此光学玻璃反射镜的质量较大;铍反射镜具有很好的机械和物理性能,是较为理想的光学反射镜,但是铍材料具有毒性,使得其制备和加工成本大幅度增加。随动系统轻质反射镜部件的制造方法,其组成包括:碳化硅反射镜(1)、铝合金支架(2),所述的铝合金支架与反射镜由环氧树脂粘合在一起。本发明应用于光学领域。

    金属基复合材料的制备方法

    公开(公告)号:CN101314824A

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:CN200710072303.4

    申请日:2007-06-01

    Abstract: 金属基复合材料的制备方法,美国已经把复合材料作为国防部的关键技术核心来实施,投入了大量的资金、人力和物力,处于工业领先地位。本发明的方法包括:混料、模具制备、成型,烧结与后处理,所述的将制备好的坯体放置到石墨平板上,在坯体上堆积金属粉末,金属粉末是Cu粉、Al粉、Si粉或者Ni粉,然后全部放入真空烧结炉中,烧结温度在熔渗材料熔点以上100~200℃之间,使金属熔化渗入多孔坯体中,将多孔坯体内部孔隙充满,冷却保温,随炉冷却,冷却时间3~5天,获得完全致密的金属基复合材料。本方法得到的新产品用于航空航天、军事工业以及汽车工业、大规模集成电路板等民用场合。

    一种在Mo衬底上制备具有规则晶型的纳米金刚石颗粒的方法

    公开(公告)号:CN114657533B

    公开(公告)日:2023-04-28

    申请号:CN202210360654.X

    申请日:2022-04-07

    Abstract: 一种在Mo衬底上制备具有规则晶型的纳米金刚石颗粒的方法,本发明是为了解决现有以金属衬底,采用CVD法制备纳米金刚石得到的纳米金刚石数量少、形状不规则的问题。制备具有规则晶型的纳米金刚石颗粒的方法:一、清洗Mo片及Mo托;二、将Mo片放置在MPCVD装置的沉积系统腔体内,Mo托放置在Mo片上,抽真空后通入H2和CH4,调节微波功率,进行气相沉积,得到带有纳米金刚石的Mo片;三、关闭沉积系统,冷却后将带有纳米金刚石的Mo片放入去离子水中超声,得到纳米金刚石分散液。本发明通过Mo托将等离子体位置提高,使等离子体边缘远离Mo片,减小H等离子体刻蚀,在Mo衬底上制备得到了具有规则晶型的纳米金刚石颗粒。

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