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公开(公告)号：CN109002070A
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201811060587.X
申请日：2018-09-12
Applicant: 清华大学深圳研究生院
Abstract: 本发明公开了一种分级控制的温控盒、控制方法及飞秒频率梳，包括用于盘绕光纤的光纤盘和用于装载光纤盘的恒温盒，恒温盒设置有第二级温控回路，光纤盘设置有第一级温控回路，第二级温控回路包括设置于恒温盒内的第二测温单元和对恒温盒内的温度进行调节的第二调温单元，第一级温控回路包括设置于光纤盘内的第一测温单元和对光纤盘内的温度进行调节的第一调温单元。该温控盒及飞秒频率梳，通过不同级别的温度控制方式来实现高精度、高速度、大范围的温度控制，从而提高光纤的抗干扰能力。
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公开(公告)号：CN108592786A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201810069996.X
申请日：2018-01-24
Applicant: 清华大学深圳研究生院
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明公开了一种判断光栅尺参考位置的装置及方法，该装置包括光源、参考点编码区、参考点掩膜、光电探测器和信号处理计算机，所述光源的光束依次穿过所述参考点掩膜和参考点编码区的透光部分之后透射到所述光电探测器上，所述光电探测器将采集到的信号发送给所述信号处理计算机，其中所述参考点掩膜和所述参考点编码区相互平行且具有相同的透光结构。本发明能够大幅度提升参考点的检测准确度和光栅尺系统的精度，同时能够降低参考点掩膜的制造难度和参考点编码区的复杂度，提高了装置的经济型和鲁棒性。
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公开(公告)号：CN108151658A
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201810069463.1
申请日：2018-01-24
Applicant: 清华大学深圳研究生院
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置及方法，该装置包括光源、分束镜、参考点掩膜、参考点编码带、光电探测器和信号处理计算机，参考点掩膜包括多个宽度相等的第一矩形块，多个第一矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列；参考点编码带包括多组参考点组，每组参考点组包括两个参考点编码区，每个参考点编码区包括多个宽度相等的第二矩形块，多个第二矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列，两个参考点编码区沿着第二矩形块的宽度方向间隔排列，多组参考点组沿着第二矩形块的宽度方向等间距排列，第一矩形块和第二矩形块均能够吸收或反射光线。本发明避免了光栅尺增量位移误差和参考点检测误差的干扰，提高了参考点绝对位置判断的可靠性。
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公开(公告)号：CN105738976B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201610232252.6
申请日：2016-04-14
Applicant: 清华大学深圳研究生院
Abstract: 一种在光学元件上制作涂镀层的方法，包括如下步骤：鉴别光学元件的表面形貌特征，确定其凹凸形态；对于表面形貌特征确定为凹形态的光学元件，通过PCGrate仿真分析重构光学元件在具有多种不同厚度的涂镀层时的表面形貌，仿真并比较不同涂镀层厚度时光学元件的性能，分析不同涂镀层厚度对于光学元件的性能的影响，以确定最佳涂镀层厚度；基于所确定的最佳涂镀层厚度，在光学元件上制作涂镀层。还公开了一种具有涂镀层的光学元件。本发明能够克服以往光学元件表面按照经验确定涂镀层的厚度值的弊端，提高带涂镀层的光学元件的光学性能。
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公开(公告)号：CN106646907A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611217716.2
申请日：2016-12-26
Applicant: 清华大学深圳研究生院
CPC classification number: G02B27/4233 , G01B11/00 , G02B27/44
Abstract: 一种光栅衍射光偏转棱镜，包括等腰梯形棱镜、分束镜、光源和光栅，光栅、等腰梯形棱镜和分束镜沿衍射光的出光方向依次布置，光源设置在分束镜的外侧，光源发出的光线垂直入射分束镜的侧面，部分光束被分束镜反射并经等腰梯形棱镜垂直射向光栅，光线垂直照射到光栅上，产生0级衍射光和±1级衍射光，其中0级衍射光垂直于光栅表面经过等腰梯形棱镜和分束镜射出，±1级衍射光从光栅表面斜射入等腰梯形棱镜并经过等腰梯形棱镜的斜面内反射，最终经过等腰梯形棱镜和分束镜射出，且平行于0级衍射光。该偏转棱镜降低了光路的复杂程度和调试难度，缩减了光路的体积和，提高了光路的可靠性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103383092B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310327604.2
申请日：2013-07-31
Applicant: 广东金达照明科技股份有限公司 , 清华大学深圳研究生院
IPC: F21S10/02 , F21V23/00 , F21Y113/00
Abstract: 本申请涉及多彩灯具技术领域，特别涉及一种动态多彩灯具，该灯具包括光源、光栅和弯曲形变装置，所述光源的出射光线入射至所述光栅，所述光栅附着于所述弯曲形变装置，所述弯曲形变装置受控形变以使所述光栅弯曲形变，通过使光栅弯曲形变，一方面可以改变光栅的光栅常数，另一方面也可以改变光源入射至光栅上时的入射角，从而使光栅的分光效果发生改变，出射光线取得动态交错变换的效果。
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公开(公告)号：CN105606033A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201610157166.3
申请日：2016-03-18
Applicant: 清华大学深圳研究生院
IPC: G01B11/02
CPC classification number: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了绝对式光栅尺、其主光栅及其测量方法，绝对式光栅尺包括主光栅和读数头部件，所述读数头部件包括增量位移测量单元，所述读数头部件还包括第一分光镜、掩膜板和参考位置光电探测器，所述主光栅上分布有若干个参考编码道，任意相邻的两个参考编码道之间的距离与其余任意相邻的两个参考编码道之间的距离不相同，所述第一分光镜用于将光源的光分成射向主光栅的光束和射向增量位移测量单元的光束，所述射向主光栅的光束经过所述掩膜板到达所述主光栅并被反射后，再次经过所述掩膜板后被所述参考位置光电探测器接收，所述掩膜板上设有与所述参考编码道相对应的编码道。本发明可用于精密加工和检测领域的精密测量环节。
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公开(公告)号：CN105136047A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201510284769.5
申请日：2015-05-28
Applicant: 清华大学深圳研究生院
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明公开了一种原位测量薄膜厚度变化的设备和方法，其中设备包括样品台、激光源和激光探测器，所述样品台承载待测样品，所述激光源发出第一束激光、第二束激光分别照射在待测样品的薄膜表面和基底表面，所述激光探测器接收被待测样品反射的第一束激光和第二束激光、计算所述薄膜表面和基底表面垂直方向的位置差值的变化，从而得到薄膜的厚度变化。
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公开(公告)号：CN103499851A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201310462037.1
申请日：2013-09-29
Applicant: 清华大学深圳研究生院
CPC classification number: G02B5/1857 , G02B5/1847 , G02B5/1861
Abstract: 本发明涉及一种闪耀凹面光栅制作方法，它可以解决现有闪耀凹面光栅复制方法误差大的问题。该方法为：通过复制工艺复制凹面闪耀光栅，复制完毕，保温、降温，然后分别将两块光栅以不同的拔取方式分离，最后将复制分离后的凹面光栅毛坯进行拼接，得到所需要的凹面闪耀光栅。
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公开(公告)号：CN103383092A
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201310327604.2
申请日：2013-07-31
Applicant: 东莞市金达照明有限公司 , 清华大学深圳研究生院
IPC: F21S10/02 , F21V23/00 , F21Y113/00
Abstract: 本发明涉及多彩灯具技术领域，特别涉及一种动态多彩灯具，该灯具包括光源、光栅和弯曲形变装置，所述光源的出射光线入射至所述光栅，所述光栅附着于所述弯曲形变装置，所述弯曲形变装置受控形变以使所述光栅弯曲形变，通过使光栅弯曲形变，一方面可以改变光栅的光栅常数，另一方面也可以改变光源入射至光栅上时的入射角，从而使光栅的分光效果发生改变，出射光线取得动态交错变换的效果。
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