粘合薄膜以及半导体晶片加工用胶带

    公开(公告)号:CN102511077B

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201080005501.9

    申请日:2010-11-11

    CPC classification number: C09J7/20 C09J2201/622 C09J2203/326

    Abstract: 本发明提供一种粘合薄膜及半导体晶片加工用胶带,即使在粘合剂附着于胶粘剂层的状态下进行拾取,也可减少封装的回流焊裂痕。本发明的粘合薄膜,其特征在于,由基材薄膜及设于该基材薄膜上的粘合剂层构成,并使用于加工半导体晶片,其中,由差热分析测得的回流焊温度时所述粘合剂层的重量减少为1.5%以下。此外,本发明的半导体晶片加工用胶带,具有由基材薄膜及设于该基材薄膜上的粘合剂层构成的粘合薄膜、及设于所述粘合剂层上的胶粘剂层,其中,由差热分析测得的回流焊温度时所述粘合剂层的重量减少为1.5%以下。

Patent Agency Ranking