半导体装置的制造方法及粘合片

    公开(公告)号:CN110462816B

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN201880022421.0

    申请日:2018-03-29

    Abstract: 本发明提供具有下述工序(1)~(4)的半导体装置的制造方法、以及该制造方法所使用的粘合片,所述半导体装置的制造方法是使用粘合片制造半导体装置的方法,所述粘合片具有粘合剂层、以及包含膨胀性粒子且为非粘合性的基材。工序(1):将形成有开口部的框构件粘贴于粘合剂层的粘合表面的工序;工序(2):将半导体芯片放置于在所述框构件的所述开口部露出的所述粘合剂层的粘合表面的一部分的工序;工序(3):用密封材料包覆所述半导体芯片、所述框构件、以及所述粘合剂层的粘合表面中所述半导体芯片的周边部,使该密封材料固化,得到所述半导体芯片被固化密封材料密封而成的固化密封体的工序;工序(4):使所述膨胀性粒子膨胀,从所述固化密封体剥离所述粘合片的工序。本发明可以抑制扇出型封装的制造工序中半导体芯片发生位置偏移,生产性优异,得到的半导体装置的再布线层形成面的平坦性优异。

    粘合片及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN113613893A

    公开(公告)日:2021-11-05

    申请号:CN202080020753.2

    申请日:2020-03-13

    Abstract: 本发明的课题在于提供粘合片及使用该粘合片的半导体装置的制造方法,所述粘合片能够通过加热将临时固定着的被粘附物容易地剥离、而且能够抑制剥离后的被粘附物表面的污染,为此,本发明形成了下述粘合片:具有依次配置有粘合剂层(X1)、包含热膨胀性粒子的热膨胀性基材层(Y1)、及非热膨胀性基材层(Y2)的层叠结构,上述粘合剂层(X1)在23℃下的杨氏模量为5.0MPa以下,上述非热膨胀性基材层(Y2)在23℃下的杨氏模量高于上述粘合剂层(X1)在23℃下的杨氏模量。

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