铝合金薄膜及靶材和使用它的薄膜形成方法

    公开(公告)号:CN1320169A

    公开(公告)日:2001-10-31

    申请号:CN00801709.3

    申请日:2000-08-10

    CPC classification number: C23C14/3414 C22C21/06 C23C14/14

    Abstract: 本发明的目的是提供一种即使经过300~400℃热处理后也无小丘发生且电阻率在7μΩcm以下的耐热性、低电阻铝合金薄膜及能够形成具有上述特性的铝合金薄膜的溅射靶材。本发明的铝合金薄膜的特征在于,含有作为合金成分的铝、碳及镁,以碳的原子百分率为Yat%、镁的原子百分率为Xat%,则碳及镁的含量为由式X=0.61、X=8、Y=2、Y=-0.13X+1.3所包围范围内的量,余量为铝及不可避免的杂质。另外,本发明的用于形成铝合金薄膜的溅射靶材的特征在于,构成靶材的成分为铝、碳、镁及不可避免的杂质,碳及镁的量为由上述各式所包围范围内的量,余量为铝及不可避免的杂质。

    新颖复合箔,其制造方法和敷铜层压板

    公开(公告)号:CN1251333A

    公开(公告)日:2000-04-26

    申请号:CN99123142.2

    申请日:1999-10-21

    Abstract: 一种包括导电载体、有机剥离层和导电颗粒层的复合箔。复合箔制造方法,包括在导电载体表面形成有机剥离层,和在有机剥离层上电镀导电颗粒层。一种上述复合箔与基材层叠而得的敷铜层压板。一种上述复合箔与基材层叠,仅除去导电载体的敷铜层压板。因此,提供了用于生产印刷线路板的复合箔,由该箔可制得敷铜层叠板,该层叠板在低激光能量下也能激光穿孔,没有毛口形成,能形成微小间距布线图案。制造复合箔和由复合箔制造敷铜层压板的方法。

    铈类研磨材料
    87.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101283070A

    公开(公告)日:2008-10-08

    申请号:CN200680037841.3

    申请日:2006-10-12

    CPC classification number: C01F17/0012 C03C19/00

    Abstract: 本发明提供无论是否含有F、La、Nd只要CeO2/TREO≥40质量%则研磨速度快且研磨损伤少的铈类研磨材料。本发明涉及CeO2/TREO≥40质量%的铈类研磨材料,将以稀土类元素Ce为主要成分的稀土类氧化物的通过使用了Cu-Kα线或Cu-Kα1线的X射线衍射得到的峰中基于(111)面的峰定为a,其强度定为A,基于(220)面的峰定为b,其强度定为B时,强度比B/A的值为0.20~0.80,BET法比表面积为1~150m2/g。

    经表面处理的铜箔及其制备方法

    公开(公告)号:CN100376125C

    公开(公告)日:2008-03-19

    申请号:CN00803753.1

    申请日:2000-11-27

    Abstract: 公开了用于制造印刷线路板的铜箔,它最大限度地发挥了硅烷偶联剂的性能,该硅烷偶联剂用来增强铜箔与基材之间的粘合力,以及制造该铜箔的方法。在防腐蚀处理时在铜箔上形成锌或锌合金层,在该锌或锌合金层上形成电解铬酸盐层。对电解铬酸盐层的表面进行粗糙化但不进行干燥。在电解铬酸盐层上形成硅烷偶联剂吸附层后进行干燥,由此制得用于印刷线路板的经表面处理的铜箔。

    铈系研磨材料及其原料
    90.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101104791A

    公开(公告)日:2008-01-16

    申请号:CN200710142719.9

    申请日:2004-03-29

    CPC classification number: C09K3/1463 C01F17/0012 C01F17/0043 C09K3/1409

    Abstract: 本发明提供具有发生损伤更少等优良研磨特性、研磨速度更高的铈系研磨材料。该铈系研磨材料作为稀土类氧化物至少含有氧化铈(CeO2)、氧化镧(La2O3)及氧化钕(Nd2O3),并含有氟元素(F),其总稀土类氧化物换算重量(TREO)为90wt%以上,同时,TREO中氧化铈所占重量比(CeO2/TREO)为50wt%~65wt%,并且TREO中氧化钕所占重量比(Nd2O3/TREO)为10wt%~16wt%。使用这样的铈系研磨材料能迅速得到研磨损伤发生较少的研磨面。

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