像素型半导体发光装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN110391265A

    公开(公告)日:2019-10-29

    申请号:CN201910211266.3

    申请日:2019-03-20

    Abstract: 提供了一种像素型半导体发光装置及其制造方法,所述半导体发光装置包括彼此分隔开并且以矩阵形式布置的多个发光器件结构。垫区域至少部分地围绕多个发光器件结构。垫区域设置在多个发光器件结构的外部。分隔结构设置在多个发光器件结构的第一表面上,并且还设置在多个发光器件结构中的相邻的发光器件结构之间。分隔结构在多个发光器件结构内限定多个像素空间。荧光层设置在多个发光器件结构的第一表面上,并且填充多个像素空间中的每个。

    像素型半导体发光装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN110391265B

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN201910211266.3

    申请日:2019-03-20

    Abstract: 提供了一种像素型半导体发光装置及其制造方法,所述半导体发光装置包括彼此分隔开并且以矩阵形式布置的多个发光器件结构。垫区域至少部分地围绕多个发光器件结构。垫区域设置在多个发光器件结构的外部。分隔结构设置在多个发光器件结构的第一表面上,并且还设置在多个发光器件结构中的相邻的发光器件结构之间。分隔结构在多个发光器件结构内限定多个像素空间。荧光层设置在多个发光器件结构的第一表面上,并且填充多个像素空间中的每个。

    发光装置及其制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116487501A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310058501.4

    申请日:2023-01-18

    Abstract: 一种发光装置包括:第一光透射层;第二光透射层,其设置在第一光透射层上;多个台式结构,其设置在第二光透射层上,并且被配置为生成紫外波段中的光;以及钝化图案,其设置在多个台式结构的侧表面上。多个台式结构中的每一个包括:第一外延图案,其包括铝镓氮化物,第二外延图案,其设置在第一外延图案上,并且包括铝镓氮化物,第三外延图案,其设置在第二外延图案上,并且包括铝镓氮化物,以及第四外延图案,其设置在第三外延图案上,并且包括氮化镓。多个台式结构中的每一个的水平宽度在约5μm至约30μm的范围内。

    复合光调制器、全息显示装置和产生全息图案的方法

    公开(公告)号:CN115113414A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202210041279.2

    申请日:2022-01-14

    Abstract: 本发明提供了复合光调制器、全息显示装置、以及产生全息图案的方法,其中该复合光调制器包括相位调制器和振幅调制器,相位调制器和振幅调制器被配置为产生具有第一复合光调制特性的第一复合像素和具有第二复合光调制特性的第二复合像素,其中第一复合像素包括以3×3形式提供并被配置为实现第一复合光调制特性的第一子复合像素,其中第二复合像素包括以3×3形式提供并被配置为实现第二复合光调制特性的第二子复合像素,其中第一复合像素和第二复合像素分别包括第一重叠像素,第一重叠像素被包括在第一子复合像素和第二子复合像素中。

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