公开(公告)号：CN118778360A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202410352727.X

申请日：2024-03-26

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 南宫烂 ,  河京珍 ,  朴贤 ,  宋大锡 ,  金旼秀 ,  诸相炫 ,  金俊秀 ,  刘昭燕 ,  朴秀敏 ,  洪锡九

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供了一种抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。抗蚀剂顶涂层组合物包含：共聚物，所述共聚物包括由化学式M‑1表示的第一结构单元和由化学式M‑2表示的第二结构单元；和溶剂。

公开(公告)号：CN113495429A

公开(公告)日：2021-10-12

申请号：CN202110349838.1

申请日：2021-03-31

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 禹昌秀 ,  姜恩美 ,  金宰贤 ,  金智敏 ,  金兑镐 ,  南宫烂 ,  文京守 ,  田桓承 ,  蔡承龙 ,  韩承

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种包含由化学式1表示的有机金属化合物、光酸产生剂(PAG)以及溶剂的半导体光刻胶组合物和使用其形成图案的方法。化学式1的细节如详细描述中所定义。[化学式1]。

公开(公告)号：CN105622364B

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201510725055.3

申请日：2015-10-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑瑟基 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C07C43/23 ,  C07C49/84 ,  C08G61/12 ,  C08G61/04 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07C43/23 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/52 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/312 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/362 ,  C08G2261/45 ,  C08G2261/72 ,  C09D165/00

Abstract: 本发明提供一种同时确保耐蚀刻性和平坦化特征的单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法，其中，本发明公开由化学式1表示的单体、由化学式2表示的聚合物、包含用于有机层的化合物(即单体、聚合物或其组合)的有机层组成物、由有机层组成物制造的有机层以及通过固化有机层组成物获得的有机层。化学式1和化学式2与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN108291013A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680070703.9

申请日：2016-10-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  权孝英 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  许柳美

IPC: C08G61/02 ,  C08G61/12 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明揭示一种聚合物，其包含由化学式1表示的结构单元及由化学式2表示的结构单元；包含所述聚合物的有机层组成物；及使用所述有机层组成物形成图案的方法。在化学式1及化学式2中，A1及A2独立地为二价基团，其包含经取代或未经取代的苯环中的至少一者，A3为包含四级碳的二价基团，且*为连接点。

公开(公告)号：CN107337776A

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201610899626.X

申请日：2016-10-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 权孝英 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日

IPC: C08G14/02 ,  C08G14/09 ,  C08G14/04 ,  C09D161/34 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种聚合物、有机层组成物以及形成图案的方法，包含由化学式1表示的结构单元的聚合物，和包含所述聚合物的有机层组成物，以及形成图案的方法。本发明提供的聚合物具有极好的抗蚀刻性同时具有良好溶解度特征。化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN105646850A

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201510794412.1

申请日：2015-11-18

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文秀贤 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/56

CPC classification number: C08G73/0672 ,  C08G61/124 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/1428 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3424 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32139

Abstract: 本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法，具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下，其中，在化学式1中，A1和A2各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团，A3和A4各自独立地是由化学式2表示的二价基团，n是0或1，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点。可以提供具有改善的溶解性、耐蚀刻性以及储存稳定性的有机层材料。

公开(公告)号：CN119535885A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411079823.8

申请日：2024-08-07

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴贤 ,  南宫烂 ,  河京珍 ,  宋大锡 ,  金旼秀

IPC: G03F7/004

Abstract: 提供了抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。该抗蚀剂顶涂层组合物包含：共聚物，该共聚物包括由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元和由化学式M‑3A或化学式M‑3B表示的第三结构单元；以及溶剂。

公开(公告)号：CN113655689A

公开(公告)日：2021-11-16

申请号：CN202110510318.4

申请日：2021-05-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩承 ,  金宰贤 ,  文京守 ,  禹昌秀 ,  蔡承龙 ,  南宫烂 ,  田桓承

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种半导体光刻胶组合物和一种使用其形成图案的方法，半导体光刻胶组合物包含(A)有机金属化合物、(B)具有在25℃下小于或等于约1.0mmHg的蒸气压和约3到约5的pKa的有机酸以及(C)溶剂。

公开(公告)号：CN110780536A

公开(公告)日：2020-02-11

申请号：CN201910694739.X

申请日：2019-07-30

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文京守 ,  金宰贤 ,  罗隆熙 ,  南宫烂 ,  田桓承 ,  蔡承龙

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本公开涉及一种包含由化学式1表示的有机金属化合物以及溶剂的半导体抗蚀剂组合物，以及涉及一种使用所述组合物形成图案的方法及系统，其中，在化学式1中，R1是脂族烃基、芳族烃基或-亚烷基-O-烷基，且R2到R4分别独立地选自-ORa及-OC(＝O)Rb。本公开的半导体抗蚀剂组合物具有改善的耐刻蚀性、灵敏度且易于处置。[化学式1]

公开(公告)号：CN106336372B

公开(公告)日：2019-09-24

申请号：CN201610457786.9

申请日：2016-06-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 权孝英 ,  姜善惠 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  许柳美 ,  金永珉 ,  文秀贤

IPC: C07D209/12 ,  C07D209/60 ,  C07D209/86 ,  C07D311/82 ,  C07D333/56 ,  G03F1/46 ,  G03F1/56

Abstract: 本发明提供一种单体、包含所述单体的有机层组合物、使用所述有机层组合物制造的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。本发明的单体具有良好的溶解度特征以及优良的耐蚀刻性和耐热性，使用所述单体制造的有机层具有优良的机械特征和膜表面平整度。[化学式1]