等离子体处理装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112885696B

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202011516097.3

    申请日:2018-07-19

    Abstract: 本发明提供一种从具有多个加热器的静电卡盘侧延伸到腔室主体的外侧的多个配线各自的寄生电容小的等离子体处理装置。在一个实施方式的等离子体处理装置中,在腔室主体内设置有静电卡盘和下部电极。下部电极经由导体管而与高频电源电连接。在静电卡盘内设置有多个加热器。多个加热器经由多个供电线而与加热器控制器电连接。在多个供电线上分别设置有多个滤波器。多个供电线分别包括从静电卡盘侧延伸到腔室主体的外侧的多个配线。多个配线穿过导体管的内孔而延伸。

    基片处理装置和基片处理装置的维护方法

    公开(公告)号:CN115775717A

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202211063951.4

    申请日:2022-09-01

    Abstract: 本发明提供能够容易地维护基片处理装置的内壁部件的技术。本发明的基片处理装置包括腔室、基片支承器、支承部件、内壁部件、接触部件和致动器。基片支承器设置在腔室内。支承部件设置在基片支承器的上方。内壁部件包括能够配置在基片支承器的上方且支承部件的下方的顶部。接触部件安装在支承部件和内壁部件中的一者。接触部件构成为,通过对支承部件和内壁部件中的另一者施加水平方向的弹簧反作用力,将内壁部件可拆装地固定在支承部件。致动器构成为使内壁部件向下方移动而解除内壁部件相对于支承部件的固定。

    等离子体处理装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119949022A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202380067985.7

    申请日:2023-09-20

    Abstract: 本发明的等离子体处理装置在等离子体处理腔室内包括至少一个电功率消耗部件。至少一个电功率消耗部件与受电线圈电连接。受电线圈与送电线圈电磁感应耦合。送电线圈接收来自送电部的电功率。控制部决定与参数值对应的所需电功率水平,控制送电部来输出具有所需电功率水平的输出电功率,参数值包含根据从送电部向送电线圈输入的输入电压和输入电流来求取的输入阻抗或至少一个电功率消耗部件所具有的负载电阻值。

    等离子体处理装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119452735A

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202380048423.8

    申请日:2023-05-31

    Abstract: 本发明的等离子体处理系统包括第一等离子体处理装置和第二等离子体处理装置。第一等离子体处理装置和第二等离子体处理装置各自包括等离子体处理腔室、基片支承部、电功率消耗部件、接地框、蓄电部、受电线圈、和整流平滑部。接地框与等离子体处理腔室一起包围基片支承部。电功率消耗部件配置在等离子体处理腔室内或基片支承部内。受电线圈经由整流平滑部与接地框内的蓄电部连接。第一等离子体处理装置和第二等离子体处理装置各自构成为:对于该等离子体处理装置的电功率消耗部件,该等离子体处理装置的蓄电部与第一等离子体处理装置和第二等离子体处理装置中的另一个等离子体处理装置的蓄电部能够并联连接。

    等离子体处理装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119404597A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202380048424.2

    申请日:2023-02-15

    Abstract: 本发明的等离子体处理装置包括等离子体处理腔室、基片支承部、电极或天线、高频电源、电功率消耗部件和受电线圈。基片支承部配置在等离子体处理腔室内。电极或天线以等离子体处理腔室内的空间位于该电极或该天线与基片支承部之间的方式配置。高频电源能够产生高频电功率,与基片支承部、电极或天线电连接。电功率消耗部件配置在等离子体处理腔室内或基片支承部内。蓄电部与电功率消耗部件电连接。受电线圈与蓄电部电连接,能够通过电磁感应耦合从馈电线圈接收电功率。

    滤波器装置和等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN111564358B

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202010419680.6

    申请日:2018-04-25

    Abstract: 本发明提供一种滤波器装置和等离子体处理装置。滤波器装置具备:第一线圈组,其由沿中心轴线配置且以第一内径螺旋状地卷绕的多个线圈构成;以及第二线圈组,其由沿中心轴线配置且以比所述第一内径大的第二内径螺旋状地卷绕的多个线圈构成,其中,所述第二线圈组的各个线圈的单匝线圈间的间距比所述第一线圈组的各个线圈的单匝线圈间的间距大。

    等离子体处理装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119404599A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202380048494.8

    申请日:2023-05-11

    Abstract: 本发明的等离子体处理装置包括馈电线圈、受电线圈、至少一个金属壳体和至少一个铁氧体部件。馈电线圈设置在等离子体处理腔室的外部。受电线圈与蓄电部电连接,能够通过电磁感应耦合从馈电线圈接收电功率。至少一个金属壳体能够提供屏蔽空间,并在屏蔽空间内收纳馈电线圈和受电线圈。至少一个铁氧体部件配置在该屏蔽空间内,以将配置馈电线圈和受电线圈的空间封闭的方式设置。

    等离子体处理装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119404598A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202380048491.4

    申请日:2023-05-11

    Abstract: 本发明的等离子体处理装置包括馈电线圈、受电线圈和至少一个驱动系统。馈电线圈设置在等离子体处理腔室的外部。受电线圈与蓄电部电连接,能够通过电磁感应耦合从馈电线圈接收电功率。至少一个驱动系统能够使馈电线圈和受电线圈中的至少一者移动来改变馈电线圈与受电线圈之间的距离。

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