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公开(公告)号：CN110998797A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880048615.8
申请日：2018-07-18
IPC: H01L21/301 , B23K26/53 , H01L21/3065
Abstract: 切割加工方法包括以下工序：在加工对象物(1)形成改性区域；以及在加工对象物(1)形成了改性区域之后，沿着切割预定线对加工对象物(1)进行切割。在对加工对象物(1)进行切割的工序中，通过在加工对象物(1)借助自重和吸附中的至少任一者固定于支承件的状态下，从加工对象物(1)的表面(3)朝向背面(4)实施干蚀刻处理，从而从加工对象物(1)的表面(3)直到背面(4)地形成槽。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110998798A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880048776.7
申请日：2018-07-18
IPC: H01L21/301 , B23K26/53 , H01L21/3065
Abstract: 切割加工方法包括以下工序：在加工对象物(1)上形成改性区域；以及在加工对象物(1)上形成了改性区域之后在加工对象物(1)沿着切割预定线形成槽(9)。在形成槽(9)的工序中，从加工对象物(1)的表面(3)朝向背面(4)实施第1干蚀刻处理。在第1干蚀刻处理之后，实施将加工对象物(1)置于与第1干蚀刻处理时相比减压的气氛下的第1减压处理。在第1减压处理之后，从加工对象物(1)的表面(3)朝向背面(4)实施第2干蚀刻处理。
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公开(公告)号：CN114981473B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202180010030.9
申请日：2021-05-28
Applicant: 岩谷产业株式会社
Abstract: 提供铂族金属回收方法、含铂族金属膜的制造方法及成膜装置。铂族金属的回收方法是一种在成膜腔室内导入含有铂族金属的原料气体，在收容于所述成膜腔室内的基板的表面形成含铂族金属膜之后，回收存在于成膜腔室内的铂族金属的方法，该回收方法具备：(i)向取出了所述基板的所述成膜腔室内导入含氟的清洁气体的步骤；以及(ii)向捕获容器内导入从所述成膜腔室排出的所述清洁气体的步骤，所述捕获容器保持有由选自由碱石灰、消石灰及CaO组成的组中的至少一种构成的捕获剂。
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公开(公告)号：CN110462794B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201880020478.7
申请日：2018-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 岩谷产业株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 向基板(S)照射气体团簇来对基板(S)进行规定的处理的气体团簇处理装置(100)具备：处理容器(1)；气体供给部(13)，其供给用于生成气体团簇的气体；质量流量控制器(14)，其控制从气体供给部(13)供给的气体的流量；团簇喷嘴(11)，其以规定的供给压力供给用于生成气体团簇的气体，将该气体喷出至被保持真空的处理容器内来通过绝热膨胀使该气体团簇化；以及压力控制部(15)，其设置于质量流量控制器(14)与团簇喷嘴(11)的之间的配管(12)，并且具有对用于生成气体团簇的气体的供给压力进行控制的背压控制器(17)。
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公开(公告)号：CN114981473A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202180010030.9
申请日：2021-05-28
Applicant: 岩谷产业株式会社
Abstract: 提供铂族金属回收方法、含铂族金属膜的制造方法及成膜装置。铂族金属的回收方法是一种在成膜腔室内导入含有铂族金属的原料气体，在收容于所述成膜腔室内的基板的表面形成含铂族金属膜之后，回收存在于成膜腔室内的铂族金属的方法，该回收方法具备：(i)向取出了所述基板的所述成膜腔室内导入含氟的清洁气体的步骤；以及(ii)向捕获容器内导入从所述成膜腔室排出的所述清洁气体的步骤，所述捕获容器保持有由选自由碱石灰、消石灰及CaO组成的组中的至少一种构成的捕获剂。
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公开(公告)号：CN110462794A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201880020478.7
申请日：2018-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 岩谷产业株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 向基板(S)照射气体团簇来对基板(S)进行规定的处理的气体团簇处理装置(100)具备：处理容器(1)；气体供给部(13)，其供给用于生成气体团簇的气体；质量流量控制器(14)，其控制从气体供给部(13)供给的气体的流量；团簇喷嘴(11)，其以规定的供给压力供给用于生成气体团簇的气体，将该气体喷出至被保持真空的处理容器内来通过绝热膨胀使该气体团簇化；以及压力控制部(15)，其设置于质量流量控制器(14)与团簇喷嘴(11)的之间的配管(12)，并且具有对用于生成气体团簇的气体的供给压力进行控制的背压控制器(17)。
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