公开(公告)号：CN102815658A

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN201110391090.8

申请日：2011-11-25

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 邱义勋 ,  简廷颖 ,  苏钦豪 ,  倪其聪

IPC: B81B7/00 ,  B81B7/02

CPC classification number: B81C1/00269 ,  B81B2207/07 ,  B81C2203/035

Abstract: 本发明涉及集成电路制造，而更具体地涉及的是带有金属合金的半导体器件。用于器件的示例性结构包括第一硅衬底；第二硅衬底；以及连接第一硅衬底和第二硅衬底中的每个的触点，其中，该触点包括与第一硅衬底邻近的Ge层、与第二硅衬底邻近的Cu层以及处在Ge层和Cu层之间的金属合金。

公开(公告)号：CN103964365A

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201310162964.1

申请日：2013-05-06

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 简廷颖 ,  邱义勋 ,  苏钦豪 ,  倪其聪

IPC: B81B7/00 ,  B81C1/00 ,  H01L23/31

CPC classification number: B81C1/00825 ,  B81B2207/03 ,  B81C1/00269 ,  B81C2203/0118 ,  B81C2203/019 ,  B81C2203/035 ,  B81C2203/036 ,  B81C2203/054 ,  H01L21/50 ,  H01L22/32 ,  H01L23/10 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L24/83 ,  H01L24/94 ,  H01L2224/29011 ,  H01L2224/2908 ,  H01L2224/29082 ,  H01L2224/291 ,  H01L2224/29109 ,  H01L2224/29111 ,  H01L2224/29124 ,  H01L2224/29144 ,  H01L2224/29147 ,  H01L2224/32148 ,  H01L2224/32238 ,  H01L2224/32268 ,  H01L2224/83123 ,  H01L2224/83127 ,  H01L2224/83191 ,  H01L2224/83193 ,  H01L2224/83204 ,  H01L2224/83805 ,  H01L2224/94 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/1461 ,  H01L2924/15787 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/83

Abstract: 公开了用于密封环结构的方法和装置。可以在第一晶圆和/或第二晶圆上形成晶圆密封环。在第一晶圆和/或第二晶圆中的一个或两个上可以形成有一个或多个管芯。晶圆密封环可以围绕对应的晶圆的管芯形成。一个或多个管芯密封环可以围绕一个或多个管芯形成。晶圆密封环可以形成为高度可以约等于在第一晶圆和/或第二晶圆上形成的一个或多个管芯密封环的高度。可以形成晶圆密封环以实现共晶或者熔融接合工艺。可以将第一晶圆和第二晶圆接合在一起以在第一晶圆和第二晶圆之间形成密封环结构。密封环结构可以在第一晶圆和第二晶圆之间提供密封。

公开(公告)号：CN103964365B

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：CN201310162964.1

申请日：2013-05-06

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 简廷颖 ,  邱义勋 ,  苏钦豪 ,  倪其聪

IPC: B81B7/00 ,  B81C1/00 ,  H01L23/31

CPC classification number: B81C1/00825 ,  B81B2207/03 ,  B81C1/00269 ,  B81C2203/0118 ,  B81C2203/019 ,  B81C2203/035 ,  B81C2203/036 ,  B81C2203/054 ,  H01L21/50 ,  H01L22/32 ,  H01L23/10 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L24/83 ,  H01L24/94 ,  H01L2224/29011 ,  H01L2224/2908 ,  H01L2224/29082 ,  H01L2224/291 ,  H01L2224/29109 ,  H01L2224/29111 ,  H01L2224/29124 ,  H01L2224/29144 ,  H01L2224/29147 ,  H01L2224/32148 ,  H01L2224/32238 ,  H01L2224/32268 ,  H01L2224/83123 ,  H01L2224/83127 ,  H01L2224/83191 ,  H01L2224/83193 ,  H01L2224/83204 ,  H01L2224/83805 ,  H01L2224/94 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/1461 ,  H01L2924/15787 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01032 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/83

Abstract: 公开了用于密封环结构的方法和装置。可以在第一晶圆和/或第二晶圆上形成晶圆密封环。在第一晶圆和/或第二晶圆中的一个或两个上可以形成有一个或多个管芯。晶圆密封环可以围绕对应的晶圆的管芯形成。一个或多个管芯密封环可以围绕一个或多个管芯形成。晶圆密封环可以形成为高度可以约等于在第一晶圆和/或第二晶圆上形成的一个或多个管芯密封环的高度。可以形成晶圆密封环以实现共晶或者熔融接合工艺。可以将第一晶圆和第二晶圆接合在一起以在第一晶圆和第二晶圆之间形成密封环结构。密封环结构可以在第一晶圆和第二晶圆之间提供密封。

公开(公告)号：CN102815658B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201110391090.8

申请日：2011-11-25

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 邱义勋 ,  简廷颖 ,  苏钦豪 ,  倪其聪

IPC: B81B7/00 ,  B81B7/02

CPC classification number: B81C1/00269 ,  B81B2207/07 ,  B81C2203/035

Abstract: 本发明涉及集成电路制造，而更具体地涉及的是带有金属合金的半导体器件。用于器件的示例性结构包括第一硅衬底；第二硅衬底；以及连接第一硅衬底和第二硅衬底中的每个的触点，其中，该触点包括与第一硅衬底邻近的Ge层、与第二硅衬底邻近的Cu层以及处在Ge层和Cu层之间的金属合金。