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公开(公告)号：CN1789783A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510124977.5
申请日：2005-09-23
Applicant: 气体产品与化学公司
Inventor： D·J·坦佩 , P·B·亨德森 , J·R·布佐佐维斯基 , R·M·皮尔斯泰恩 , D·加格
IPC: F17C11/00
CPC classification number: C01B3/001 , C01B9/08 , C01B13/0285 , C01B25/06 , C01B32/80 , F17C11/00 , F17C11/005 , F17C11/007 , Y02E60/321 , Y02E60/324
Abstract: 本发明公开了一种用于贮存和输送气体的混合物和方法。一方面，提供了一种混合物，其包含：含有阴离子和阳离子的离子液体；分布于离子液体中并可与离子液体发生可逆化学反应的至少部分气体；以及任选的未反应气体。另一方面，提供了一种从含有离子液体和一种或多种气体的混合物中输送气体的方法，其包括：使至少部分气体与离子液体反应以提供含有化学反应气体和离子液体的混合物，并从混合物中分离出化学反应气体，其中经分离步骤后的化学反应气体与反应步骤之前的化学反应气体具有基本相同的化学成分。
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公开(公告)号：CN103311119A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310086430.5
申请日：2013-03-18
Applicant: 气体产品与化学公司
IPC: H01L21/316
CPC classification number: C09D5/00 , C23C18/122 , C23C18/1254 , C23C18/1295
Abstract: 本发明是有机硅烷溶胶-凝胶反应的催化剂合成，提供了包含第一有机硅烷前体和卤化试剂的制剂，其中至少一部分或全部卤化试剂进行反应以提供第二有机硅烷前体。还提供由容易获得的纯物质原位产生这种制剂的方法。进一步提供采用所述制剂作为前体用于可流动汽相沉淀过程的方法。
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公开(公告)号：CN103224510A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201310051550.1
申请日：2013-01-28
Applicant: 气体产品与化学公司
CPC classification number: C09D7/1233 , C07F7/10 , C07F7/188 , C09D7/63
Abstract: 本文描述了具有式I的烷氧基氨基硅烷化合物以及用于沉积含硅薄膜的方法和组合物：(R1R2)NSiR3OR4OR5 式(I)其中R1独立地选自直链或支链C1-C10烷基、C2-C12烯基、C2-C12炔基、C4-C10环烷基和C6-C10芳基；R2和R3各自独立地选自氢、直链或支链C1-C10烷基、C3-C12烯基、C3-C12炔基、C4-C10环烷基和C6-C10芳基；且R4和R5各自独立地选自直链或支链C1-C10烷基、C2-C12烯基、C2-C12炔基、C4-C10环烷基和C6-C10芳基。
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公开(公告)号：CN103203250A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201310032372.8
申请日：2013-01-17
Applicant: 气体产品与化学公司
CPC classification number: C09D1/00 , B65B1/04 , C08G77/04 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282
Abstract: 本发明涉及包含选自烷氧基硅烷、芳氧基硅烷或烷基烷氧基硅烷的含硅前体和包括卤代烷氧基烷基硅烷或卤代芳氧基烷基硅烷的催化剂化合物的稳定制剂，其中含硅前体和催化剂化合物中的取代基如本文所述的是相同的。更具体地，该制剂包含包括具有式Si(OR1)nR24-n的烷氧基烷基硅烷或芳氧基硅烷的含硅前体和包括具有式XSi(OR1)nR23-n的卤代烷氧基烷基硅烷的催化剂，或者包含包括具有式R23-p(R1O)pSi-R3-Si(OR1)pR23-p的烷氧基硅烷或芳氧基硅烷的含硅前体和包括具有式(R1O)mR22-m(X)Si-R3-Si(OR4)2R5的卤代烷氧基烷基硅烷或卤代芳氧基烷基硅烷的催化剂，其中至少一个或所有的R1和R2取代基在含硅前体和催化剂化合物中如本文所述的是相同的。制剂可以用于半导体沉积工艺，例如，流动式氧化硅工艺。
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公开(公告)号：CN1789783B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200510124977.5
申请日：2005-09-23
Applicant: 气体产品与化学公司
Inventor： D·J·坦佩 , P·B·亨德森 , J·R·布佐佐维斯基 , R·M·皮尔斯泰恩 , D·加格
IPC: F17C11/00
CPC classification number: C01B3/001 , C01B9/08 , C01B13/0285 , C01B25/06 , C01B32/80 , F17C11/00 , F17C11/005 , F17C11/007 , Y02E60/321 , Y02E60/324
Abstract: 本发明公开了一种用于贮存和输送气体的混合物和方法。一方面，提供了一种混合物，其包含：含有阴离子和阳离子的离子液体；分布于离子液体中并可与离子液体发生可逆化学反应的至少部分气体；以及任选的未反应气体。另一方面，提供了一种从含有离子液体和一种或多种气体的混合物中输送气体的方法，其包括：使至少部分气体与离子液体反应以提供含有化学反应气体和离子液体的混合物，并从混合物中分离出化学反应气体，其中经分离步骤后的化学反应气体与反应步骤之前的化学反应气体具有基本相同的化学成分。
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公开(公告)号：CN1612305A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN200410068438.X
申请日：2004-07-15
Applicant: 气体产品与化学公司
IPC: H01L21/311 , H01L21/306 , C23F1/00
CPC classification number: H01L21/31116
Abstract: 本发明公开了一种混合物和一种包含该混合物并用于从层状基质上刻蚀介电材料的方法。具体地说，在一个实施方案中，提供了一种用于刻蚀层状基质中的介电材料的混合物，该混合物包含一种不饱和氧化碳氟化合物。在足以与介电材料至少部分发生反应并除去该部分介电材料的条件下，可以把本发明的混合物与含有介电材料的层状基质相接触。在本发明的另一个实施方案中，提供了一种制备不饱和氧化碳氟化合物的方法。
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公开(公告)号：CN103374708B
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201310164475.X
申请日：2013-04-12
Applicant: 气体产品与化学公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/455
CPC classification number: H01L21/02164 , C07F7/10 , C23C16/402 , C23C16/45527 , C23C16/45553 , H01L21/02274 , H01L21/0228
Abstract: 公开了以＞500℃的温度形成氧化硅的原子层沉积(ALD)方法。使用的硅前体具有通式：I.R1R2mSi(NR3R4)nXp其中R1、R2和R3各自独立地选自氢、直链或支链C1‑C10烷基和C6‑C10芳基；R4选自直链或支链C1‑C10烷基、C6‑C10芳基和C3‑C10烷基甲硅烷基；其中R3和R4连接形成环结构或R3和R4不连接形成环结构；X是选自Cl、Br和I的卤素；m是0‑3；n是0‑2；和p是0‑2且m+n+p＝3；和II.R1R2mSi(OR3)n(OR4)qXp其中R1和R2各自独立地选自氢、直链或支链C1‑C10烷基和C6‑C10芳基；R3和R4各自独立地选自直链或支链C1‑C10烷基和C6‑C10芳基；其中R3和R4连接形成环结构或R3和R4不连接形成环结构；X是选自Cl、Br和I的卤素；m是0‑3；n是0‑2；q是0‑2和p是0‑2且m+n+p+q＝3。
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公开(公告)号：CN105801616A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201610162014.2
申请日：2013-12-11
Applicant: 气体产品与化学公司
Abstract: 本发明描述了具有下述式A或式B的烷氧基甲硅烷基胺前体：其中R1和R4独立地选自直链或支链C1至C10烷基、C3至C12烯基、C3至C12炔基、C4至C10环烷基和C6至C10芳基，并且其中R2、R3、R5和R6独立地选自氢、直链或支链C1至C10烷基、C2至C12烯基、C2至C12炔基、C4至C10环烷基、C6至C10芳基以及直链或支链C1至C10烷氧基。本文还描述了使用至少一种具有本文所述的式A和/或B的前体的沉积工艺。
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公开(公告)号：CN103864837A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201310698533.7
申请日：2013-12-11
Applicant: 气体产品与化学公司
CPC classification number: B65D25/14 , C07F7/10 , C07F7/1804 , C23C16/00
Abstract: 本发明描述了具有下述式A或式B的烷氧基甲硅烷基胺前体：其中R1和R4独立地选自直链或支链C1至C10烷基、C3至C12烯基、C3至C12炔基、C4至C10环烷基和C6至C10芳基，并且其中R2、R3、R5和R6独立地选自氢、直链或支链C1至C10烷基、C2至C12烯基、C2至C12炔基、C4至C10环烷基、C6至C10芳基以及直链或支链C1至C10烷氧基。本文还描述了使用至少一种具有本文所述的式A和／或B的前体的沉积工艺。
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公开(公告)号：CN1769760B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200510129132.5
申请日：2005-10-14
Applicant: 气体产品与化学公司
Inventor： D·J·坦佩 , P·B·亨德森 , J·R·布佐佐维斯基 , R·M·皮尔斯泰恩
CPC classification number: F17C11/00 , F17C2223/0123
Abstract: 用于储存和运输路易斯酸性气体的含路易斯碱性反应性化合物的液体介质，本发明涉及一种改进的路易斯酸性气体低压储存和输送系统，特别是用于危险的特定气体例如BF3和乙硼烷，其可应用于电子工业中。改进在于在含有能够与路易斯酸性气体有效进行可逆反应的路易斯碱性反应性化合物的液体中储存气体。该反应性化合物包括溶解的、悬浮的、分散的或与不挥发液体混和的其它形式的反应性物质。
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