公开(公告)号：CN1660691B

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200510064039.0

申请日：2005-02-25

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口征也

IPC: B41J2/045 ,  B81B3/00

CPC classification number: B41J2/14314

Abstract: 本发明提出了一种流体驱动装置，它包括：用于在流体里提供压力变化的振动膜；为振动膜形成并用于致动振动膜的振动膜侧电极；与振动膜侧电极相对形成的基板侧电极；在振动膜侧电极和基板侧电极之间形成的空间；在基板侧电极上形成并用于通过该空间对振动膜侧电极进行支撑的支柱。其中振动膜侧电极如此形成使得它穿过支柱并延伸到支柱的底部且覆盖其底部的一部分。

公开(公告)号：CN1871176A

公开(公告)日：2006-11-29

申请号：CN200480008777.7

申请日：2004-04-02

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 多田正裕 ,  木下隆 ,  田中均洋 ,  山口征也 ,  御手洗俊 ,  难波田康治

IPC: B81C1/00 ,  B81B3/00 ,  H03H9/24 ,  H03H3/007

Abstract: 一种微机械的制造方法，其中不需要任何特殊封装技术可除去牺牲层和进行密封。配备有振子(4)的微机械(1)的制造方法包括在振子(4)的可动部周围形成牺牲层的步骤，用涂层膜(8)覆盖牺牲层并制作穿过涂层膜(8)连通牺牲层的通孔(10)的步骤，利用通孔(10)除去牺牲层以在可动部周围形成空间的牺牲层蚀刻步骤，以及蚀刻牺牲层后在压力减小的条件下进行膜沉积以密封通孔(10)的步骤。

公开(公告)号：CN1660691A

公开(公告)日：2005-08-31

申请号：CN200510064039.0

申请日：2005-02-25

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 山口征也

IPC: B81B3/00 ,  B41J2/045

CPC classification number: B41J2/14314

Abstract: 本发明提出了一种流体驱动装置，它包括：用于在流体里提供压力变化的振动膜；为振动膜形成并用于致动振动膜的振动膜侧电极；与振动膜侧电极相对形成的基板侧电极；在振动膜侧电极和基板侧电极之间形成的空间；在基板侧电极上形成并用于通过该空间对振动膜侧电极进行支撑的支柱。其中振动膜侧电极如此形成使得它穿过支柱并延伸到支柱的底部且覆盖其底部的一部分。