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公开(公告)号：CN103157565A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201210207690.9
申请日：2012-06-18
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 一种雾化装置及其控制方法。该雾化装置包括控制单元、相互连接的密闭液体容器和喷头、连接喷头供第一气体进入喷头的第一气体管路、感测第一气体管路内气体压力以产生第一讯号的第一压力传感器、连接密闭液体容器供第二气体进入密闭液体容器的第二气体管路、感测密闭液体容器内背压以产生第二讯号的第二压力传感器及控制第二气体流量的第二流量控制件，其中，流入喷头的液体经第一气体的碰撞而雾化。控制单元接收第一、二讯号并进行运算，以根据运算结果令第二流量控制件调整第二气体进入密闭液体容器的流量，来控制密闭液体容器的背压，进而控制自喷头喷出的经雾化的液体流量。
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公开(公告)号：CN101748384B
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN200810178956.5
申请日：2008-12-03
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/44 , C23C16/455
Abstract: 一种气体喷洒模块，用于设有进气管道的气相沉积腔，包含：至少一气体分布块，该气体分布块是沿第一轴向设有至少一扩散室，且该气体分布块设有分别连接进气管道与扩散室的多个进气孔；以及一气体喷洒块，该气体喷洒块之中沿第二轴向设有至少一喷洒管道，且该气体喷洒块设有用于连接扩散室与喷洒管道的气体流入通道，以及用于连接喷洒管道与气相沉积腔的气体流出通道；其中，该气体分布块与气体喷洒块彼此结合，使得扩散室由气体流入通道与喷洒管道相连通，且该第一轴向与第二轴向彼此间不平行。
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公开(公告)号：CN102477547A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201010580611.X
申请日：2010-12-09
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/50
CPC classification number: H01J37/3244 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/45578 , C23C16/50 , C23C16/513 , H01J37/32357
Abstract: 本发明公开一种等离子体处理装置，其包含一阴极组件、一阳极、一连接高频电源的电极与多个第二通道；该阳极具有一中空腔室以容置该阴极组件；该电极连接该阴极组件；该阴极组件包括多个第一通道，该阳极相对于多个第一通道具有至少一个输出孔；多个第二通道穿设过阳极，该多个第一通道与该多个第二通道穿插设置。一第一气体由等离子体处理装置外部进入每一第一通道，通过高频电源进行碰撞解离反应并生成等离子体；在每一第一通道产生的等离子体会经由输出孔流出，形成一等离子体扩散区；一第二气体由等离子体处理装置外部进入每一第二通道，输出至等离子体扩散区。
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公开(公告)号：CN103157565B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201210207690.9
申请日：2012-06-18
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 一种雾化装置及其控制方法。该雾化装置包括控制单元、相互连接的密闭液体容器和喷头、连接喷头供第一气体进入喷头的第一气体管路、感测第一气体管路内气体压力以产生第一讯号的第一压力传感器、连接密闭液体容器供第二气体进入密闭液体容器的第二气体管路、感测密闭液体容器内背压以产生第二讯号的第二压力传感器及控制第二气体流量的第二流量控制件，其中，流入喷头的液体经第一气体的碰撞而雾化。控制单元接收第一、二讯号并进行运算，以根据运算结果令第二流量控制件调整第二气体进入密闭液体容器的流量，来控制密闭液体容器的背压，进而控制自喷头喷出的经雾化的液体流量。
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公开(公告)号：CN102477547B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201010580611.X
申请日：2010-12-09
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/50
CPC classification number: H01J37/3244 , C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/45578 , C23C16/50 , C23C16/513 , H01J37/32357
Abstract: 本发明公开一种等离子体处理装置，其包含一阴极组件、一阳极、一连接高频电源的电极与多个第二通道；该阳极具有一中空腔室以容置该阴极组件；该电极连接该阴极组件；该阴极组件包括多个第一通道，该阳极相对于多个第一通道具有至少一个输出孔；多个第二通道穿设过阳极，该多个第一通道与该多个第二通道穿插设置。一第一气体由等离子体处理装置外部进入每一第一通道，通过高频电源进行碰撞解离反应并生成等离子体；在每一第一通道产生的等离子体会经由输出孔流出，形成一等离子体扩散区；一第二气体由等离子体处理装置外部进入每一第二通道，输出至等离子体扩散区。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102453887B
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201010511887.2
申请日：2010-10-15
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开一种等离子体辅助原子层沉积装置及其控制方法。该等离子体辅助原子层沉积装置，其由多个反应室以及一可移动的遮板所组成的等离子体辅助原子层沉积装置，每一个反应室至少包含两个反应空间以及一可移动基材加热承载模块。该控制方法是通过控制遮板的移动，使得遮板得以选择分隔每一个反应室中的两个反应空间或者是使该两个反应空间相连通，而能避免不同制作工艺气体交互反应所产生的微粒污染基材表面。
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公开(公告)号：CN102453887A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201010511887.2
申请日：2010-10-15
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开一种等离子体辅助原子层沉积装置及其控制方法。该等离子体辅助原子层沉积装置，其由多个反应室以及一可移动的遮板所组成的等离子体辅助原子层沉积装置，每一个反应室至少包含两个反应空间以及一可移动基材加热承载模块。该控制方法是通过控制遮板的移动，使得遮板得以选择分隔每一个反应室中的两个反应空间或者是使该两个反应空间相连通，而能避免不同制作工艺气体交互反应所产生的微粒污染基材表面。
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公开(公告)号：CN101748384A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200810178956.5
申请日：2008-12-03
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/44 , C23C16/455
Abstract: 一种气体喷洒模块，用于设有进气管道的气相沉积腔，包含：至少一气体分布块，该气体分布块是沿第一轴向设有至少一扩散室，且该气体分布块设有分别连接进气管道与扩散室的多个进气孔；以及一气体喷洒块，该气体喷洒块之中沿第二轴向设有至少一喷洒管道，且该气体喷洒块设有用于连接扩散室与喷洒管道的气体流入通道，以及用于连接喷洒管道与气相沉积腔的气体流出通道；其中，该气体分布块与气体喷洒块彼此结合，使得扩散室由气体流入通道与喷洒管道相连通，且该第一轴向与第二轴向彼此间不平行。
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公开(公告)号：CN102052463B
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN200910208169.5
申请日：2009-10-28
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: F16J15/32
Abstract: 本发明公开一种真空旋转动力传输装置，其主要是由设置于真空系统的腔壁上的轴套组、穿设于轴套组的旋转轴以及连结并驱动旋转轴的传动组所组成。轴套组的座体具有穿孔可供旋转轴穿设，且在穿孔中对应旋转轴间隔设置有第一轴承组、第二轴承组、密封环及轴封件，轴封件设置于远离真空系统的一侧，且轴封件远离真空系统的一端向中心延伸有一薄片状的唇状突缘，使旋转轴穿过时会将唇状突缘朝远离真空系统的方向扩延且包覆于旋转轴外缘，而能通过大气压力将唇状突缘压抵于旋转轴上，形成阻绝大气进入直空系统的环形屏障，以确保真空系统的真空度。
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公开(公告)号：CN102691054A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201110100180.7
申请日：2011-04-21
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/54 , C23C16/458
CPC classification number: C23C14/564 , C23C14/568 , C23C16/4401 , C23C16/54 , Y10T74/19642
Abstract: 本发明公开一种传动机构及应用其的镀膜装置，镀膜装置包含腔室提供活性物种，在腔室内对称设有多个传动机构，传动机构包括转轴、传动轮、多个滑件、第一弹性件、第二弹性件及封套元件，转轴具有锥形轴向端部，传动轮具有轴孔，转轴的锥形轴向端部同轴穿设于轴孔，多个滑件以传动轮轴心为中心沿传动轮径向放射状设置于传动轮，第一弹性件套设于多个滑件外，第二弹性件相对于该第一弹性件往该第一轴向端部的方向而套设于传动轮外，封套元件具有开口；传动轮往复移动时，可驱动滑件沿传动轮径向滑移，进而改变第一弹性件外径尺寸，使封套元件开口形成开放或封闭状态。
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