具有弧形载盘的旋转定位装置、自动取放系统及其操作方法

    公开(公告)号:CN103668075B

    公开(公告)日:2015-11-11

    申请号:CN201310399068.7

    申请日:2013-09-05

    Abstract: 本发明公开了一种旋转定位装置,包括一固定座、一旋转机构、一第一驱动模块、一载盘以及一第二驱动模块。旋转机构设置于固定座上。第一驱动模块设置于固定座上,并且耦接旋转机构,以驱动旋转机构绕着一第一转轴相对于固定座旋转。载盘具有多个容置槽,位于该载盘的一圆弧面上,且载盘经由一第二转轴枢接于旋转机构。所述第二转轴通过圆弧面的曲率中心并且垂直于第一转轴,且曲率中心位于第一转轴上。第二驱动模块配置于旋转机构上,并且耦接载盘,以驱动载盘绕着第二转轴相对于旋转机构旋转。应用此旋转定位装置的自动取放系统及其操作方法也被提出。

    动力传送机构及使用其的等离子体辅助化学气相沉积装置

    公开(公告)号:CN101319313A

    公开(公告)日:2008-12-10

    申请号:CN200710108433.9

    申请日:2007-06-07

    Abstract: 本发明一种动力传送机构,其是利用具有气密与伸缩特性的组件与动力单元相结合,以产生特定方向的位移运动。此外,本发明更提供一种等离子体辅助化学气相沉积装置,其是利用该动力传送机构作为控制待加工件移动的机构,使得该等离子体辅助化学气相沉积装置可与自动化传送装置相结合以使得芯片进出自动化。此外,本发明在该等离子体辅助化学气相沉积装置上更设置有升降调整单元以及位置标示单元,以供操作者可以依制作工艺需要调整上、下电极的间距,并让机台操作人员在腔体外部能清楚掌控腔体内上、下电极的间距。

    芯片载入设备的芯片对应方法

    公开(公告)号:CN1335580A

    公开(公告)日:2002-02-13

    申请号:CN00121330.X

    申请日:2000-07-20

    Abstract: 一种芯片载入设备的芯片对应方法,是使用类型化信号方法,藉以加速结果判定的产生,可以免除繁琐的法则运算。本发明是利用绝对位置产生位置类型信号,再加上两个光感测器信号以及经由特征提取过程(feature extraction process)。此特征提取过程是用来产生斜片与叠片的特征信号。之后,通过信号转换过程,成为可供数字数据处理器使用的信号。如此一来,本发明就能够完成芯片对应方法的三个主要功能的要求。

    镀膜设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114381716A

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN202110022234.6

    申请日:2021-01-08

    Abstract: 本发明公开一种镀膜设备,其包括腔体、进气装置、气环、载盘以及挡环。腔体具有镀膜区与非镀膜区。进气装置连通于腔体,其中进气装置对应于镀膜区设置,且用以将制作工艺气体引入镀膜区。气环设置于腔体内,其中气环环绕进气装置,且用以在镀膜区内形成环形气幕。载盘设置于镀膜区内,其中气环位于进气装置与载盘之间,且载盘用以承载待镀物。待镀物被环形气幕围绕。挡环设置于腔体内,且环绕载盘。挡环位于气环与载盘之间,且沿着镀膜区与非镀膜区的交界处设置。挡环具有多个穿孔。

    六连杆定位机构
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1751974A

    公开(公告)日:2006-03-29

    申请号:CN200410082598.X

    申请日:2004-09-21

    Inventor: 陈冠州 吴宗明

    Abstract: 本发明提供一种六连杆定位机构,包括一固定件、一平行四连杆机构、以及一驱动模块;固定件固设于洁净容器上罩盖的内壁上,且包括有一垂直滑槽;平行四连杆机构包括彼此依序枢接的一第一连杆、一第二连杆、一第三连杆、及一第四连杆,且第四连杆固设于固定件上,同时,第一连杆与第三连杆彼此平行且长度相等,第二连杆与第四连杆亦彼此平行且长度相等;驱动模块包括一驱动滑块、以及一驱动连杆,驱动滑块滑设于固定件的垂直滑槽内,且驱动连杆的一端枢接于驱动滑块上、另一端则枢接在平行四连杆机构的第一、第二、与第三连杆其中之一上。本发明可使整体机构的自由度为1,避免产生摩擦而造成污染,减少晃动而提高六连杆定位机构移动的顺畅性。

    具有定位结构的晶片载入机及其安装方法

    公开(公告)号:CN1170303C

    公开(公告)日:2004-10-06

    申请号:CN00133409.3

    申请日:2000-11-03

    Abstract: 一种具有定位结构的晶片载入机及其安装方法。为提供一种定位快速、安装方便的半导体制造辅助设备及安装方法,提出本发明,它包括底座、背板、固设于背板上并滑动设置于底座上的载入结构、定位结构及举升结构;定位结构包括装设于定位框架顶部的向上突设定位构件的连接座及装设于背板顶部的底端设有卡槽的承座,承座可为可调整其相对背板水平位置的可调整件;以举升结构升高背板;使背板上承座位于可调整其垂直位置定位构件的上方;下降背板,以承座的卡槽卡合于定位构件上;锁紧结合螺钉。

    镀膜设备
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114381716B

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202110022234.6

    申请日:2021-01-08

    Abstract: 本发明公开一种镀膜设备,其包括腔体、进气装置、气环、载盘以及挡环。腔体具有镀膜区与非镀膜区。进气装置连通于腔体,其中进气装置对应于镀膜区设置,且用以将制作工艺气体引入镀膜区。气环设置于腔体内,其中气环环绕进气装置,且用以在镀膜区内形成环形气幕。载盘设置于镀膜区内,其中气环位于进气装置与载盘之间,且载盘用以承载待镀物。待镀物被环形气幕围绕。挡环设置于腔体内,且环绕载盘。挡环位于气环与载盘之间,且沿着镀膜区与非镀膜区的交界处设置。挡环具有多个穿孔。

    流场可视化装置、流场观测方法与等离子体产生器

    公开(公告)号:CN111182707A

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201811567521.X

    申请日:2018-12-20

    Abstract: 本发明公开一种流场可视化装置、流场观测方法与等离子体产生器,其中该流场可视化装置包括腔体、电源供应器、至少一对电极以及至少两个高速摄影机。电源供应器输出等离子体产生用的电压,所述对电极则设置于腔体内。所述至少一对电极具有第一电极与第二电极,第一电极具有数个第一尖端、第二电极具有数个第二尖端,且第一尖端与第二尖端互相对准。所述至少一对电极通过来自电源供应器的电压激发腔体内的气体而产生周期性疏密分布的等离子体。高速摄影机则设置于腔体外并位于相对所述对电极的不同方向,以拍摄不同维度的影像。

    提升靶材利用率的构造
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102102186A

    公开(公告)日:2011-06-22

    申请号:CN200910253474.6

    申请日:2009-12-16

    Abstract: 本发明公开一种提升靶材利用率的构造,其主要由一磁性座与两个导磁件所组成。磁性座可相对于靶材往复位移,而两导磁件分别设置于紧邻磁性座往复位移的两极限位置之处。由此,当磁性座位移至接近导磁件时,会降低磁性座对靶材的表面磁场强度,以减缓靶材在两端所产生的轰击现象来提升靶材的利用率。

    动力传送机构及使用其的等离子体辅助化学气相沉积装置

    公开(公告)号:CN101319313B

    公开(公告)日:2011-03-16

    申请号:CN200710108433.9

    申请日:2007-06-07

    Abstract: 本发明一种动力传送机构,其是利用具有气密与伸缩特性的组件与动力单元相结合,以产生特定方向的位移运动。此外,本发明更提供一种等离子体辅助化学气相沉积装置,其是利用该动力传送机构作为控制待加工件移动的机构,使得该等离子体辅助化学气相沉积装置可与自动化传送装置相结合以使得芯片进出自动化。此外,本发明在该等离子体辅助化学气相沉积装置上更设置有升降调整单元以及位置标示单元,以供操作者可以依制作工艺需要调整上、下电极的间距,并让机台操作人员在腔体外部能清楚掌控腔体内上、下电极的间距。

Patent Agency Ranking