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公开(公告)号:CN116247092A
公开(公告)日:2023-06-09
申请号:CN202111588514.X
申请日:2021-12-23
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: H01L29/778 , H01L29/15 , H01L21/335
Abstract: 本发明提供一种高电子迁移率晶体管元件,至少包括AlN成核层、超晶格复合层、GaN电子传递层以及AlGaN阻挡层。所述超晶格复合层设置于所述AlN成核层上,且所述超晶格复合层包含交互堆叠的数层AlN层与数层GaN层,以降低元件应力。所述GaN电子传递层设置于所述超晶格复合层上,所述AlGaN阻挡层则设置于所述GaN电子传递层上。
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公开(公告)号:CN114381716A
公开(公告)日:2022-04-22
申请号:CN202110022234.6
申请日:2021-01-08
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开一种镀膜设备,其包括腔体、进气装置、气环、载盘以及挡环。腔体具有镀膜区与非镀膜区。进气装置连通于腔体,其中进气装置对应于镀膜区设置,且用以将制作工艺气体引入镀膜区。气环设置于腔体内,其中气环环绕进气装置,且用以在镀膜区内形成环形气幕。载盘设置于镀膜区内,其中气环位于进气装置与载盘之间,且载盘用以承载待镀物。待镀物被环形气幕围绕。挡环设置于腔体内,且环绕载盘。挡环位于气环与载盘之间,且沿着镀膜区与非镀膜区的交界处设置。挡环具有多个穿孔。
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公开(公告)号:CN112781828A
公开(公告)日:2021-05-11
申请号:CN202010032170.3
申请日:2020-01-13
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明公开一种流场可视化观测装置与流场可视化观测方法。该流场可视化观测装置包括腔体、电源供应器、至少一对电极以及至少一流场观测模块。所述流场观测模块包括高速摄像机、光检测组件以及滤光组件。电源供应器输出等离子体产生用的电压,所述对电极设置在腔体内。流场观测模块则设置在腔体外并朝腔体拍摄等离子体所激发的流体粒子图像。滤光组件设置在高速摄像机与述腔体之间。光检测组件取得腔体内的光信息,并传送至滤光组件。
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公开(公告)号:CN112781828B
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN202010032170.3
申请日:2020-01-13
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明公开一种流场可视化观测装置与流场可视化观测方法。该流场可视化观测装置包括腔体、电源供应器、至少一对电极以及至少一流场观测模块。所述流场观测模块包括高速摄像机、光检测组件以及滤光组件。电源供应器输出等离子体产生用的电压,所述对电极设置在腔体内。流场观测模块则设置在腔体外并朝腔体拍摄等离子体所激发的流体粒子图像。滤光组件设置在高速摄像机与述腔体之间。光检测组件取得腔体内的光信息,并传送至滤光组件。
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公开(公告)号:CN106591804A
公开(公告)日:2017-04-26
申请号:CN201510793532.X
申请日:2015-11-18
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45504 , C23C16/45563
Abstract: 本发明公开一种气体分布装置,其包括一顶部以及一侧壁部。顶部提供一分流结构。分流结构将来自N个上游口的气流分支到M个下游口,N与M都为正整数,且M大于N。顶部包括一顶板,且下游口排列于顶板周边。侧壁部连接于顶板并由顶板的周缘凸伸出来。侧壁部具有多个连通道以及多个排出口,其中连通道将下游口连通至排出口,且排出口于侧壁部内侧沿一环型轨迹排列。
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公开(公告)号:CN104775105A
公开(公告)日:2015-07-15
申请号:CN201410104272.6
申请日:2014-03-20
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45565
Abstract: 本发明公开一种喷洒头装置,其包括一多孔板体,其具有一第一流道以及多个第二流道。第一流道沿着多孔板体蜿蜒分布以供一第一流体流通。第二流道分别贯穿多孔板体并且交错于第一流道中以供一第二流体流通,其中第一流道与第二流道互不连通,且第一流体接触各第二流道的侧壁。
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公开(公告)号:CN114381716B
公开(公告)日:2024-01-09
申请号:CN202110022234.6
申请日:2021-01-08
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开一种镀膜设备,其包括腔体、进气装置、气环、载盘以及挡环。腔体具有镀膜区与非镀膜区。进气装置连通于腔体,其中进气装置对应于镀膜区设置,且用以将制作工艺气体引入镀膜区。气环设置于腔体内,其中气环环绕进气装置,且用以在镀膜区内形成环形气幕。载盘设置于镀膜区内,其中气环位于进气装置与载盘之间,且载盘用以承载待镀物。待镀物被环形气幕围绕。挡环设置于腔体内,且环绕载盘。挡环位于气环与载盘之间,且沿着镀膜区与非镀膜区的交界处设置。挡环具有多个穿孔。
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公开(公告)号:CN111182707A
公开(公告)日:2020-05-19
申请号:CN201811567521.X
申请日:2018-12-20
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明公开一种流场可视化装置、流场观测方法与等离子体产生器,其中该流场可视化装置包括腔体、电源供应器、至少一对电极以及至少两个高速摄影机。电源供应器输出等离子体产生用的电压,所述对电极则设置于腔体内。所述至少一对电极具有第一电极与第二电极,第一电极具有数个第一尖端、第二电极具有数个第二尖端,且第一尖端与第二尖端互相对准。所述至少一对电极通过来自电源供应器的电压激发腔体内的气体而产生周期性疏密分布的等离子体。高速摄影机则设置于腔体外并位于相对所述对电极的不同方向,以拍摄不同维度的影像。
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