-
公开(公告)号：CN108226225A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201611161705.7
申请日：2016-12-15
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 一种用于分离地层电位信号及量测电路噪声的电子装置，该电子装置包含：一基板；一运算放大器，位于该基板上，该运算放大器用以放大该地层电位信号；一滤波电路，位于该基板上，该滤波电路位于该运算放大器与一系统电压端之间，该滤波电路用以过滤该系统电压端的噪声；一第一串联针座，位于该基板上；以及一第二串联针座，位于该基板上，该第二串联针座连接该第一串联针座，其中该第一串联针座与该第二串联针座用以串联其他基板。
-
公开(公告)号：CN103046019A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210142615.9
申请日：2012-05-09
Applicant: 财团法人工业技术研究院
CPC classification number: C23C16/4581
Abstract: 一种有机金属化学汽相沉积的方法与装置。在有机金属化学汽相沉积的方法中，先提供基板，于此基板的第一表面具有金属基材料层；再将基板放置于腔体内的基座上，且金属基材料层介于基板与基座之间，并对在第一表面的相对侧的第二表面进行有机金属化学汽相沉积制程，其中金属基材料层的热传导系数(thermal conductivity)与基板的热传导系数的差值须在1W/m·°C~20W/m·°C之间，金属基材料层的热膨胀系数(thermal expansion)与基板的热膨胀系数须在同一数量级(order)。
-
公开(公告)号：CN104674191B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310712741.8
申请日：2013-12-20
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开一种多模式薄膜沉积设备以及薄膜沉积方法。多模式薄膜沉积设备包括反应腔室、承载座、气体喷洒头、惰性气体供应源、第一进气系统与第二进气系统。承载座设置于反应腔室中。气体喷洒头具有气体混合室与位于气体混合室一侧的多个气孔，且气孔朝向承载座使气体混合室与反应腔室连通。第一进气系统连接于反应腔室并提供第一薄膜沉积模式时所需的第一制作工艺气体。惰性气体供应源连接于气体混合室，提供惰性气体。第二进气系统连接于气体混合室并提供第二薄膜沉积模式时所需的第二制作工艺气体。
-
公开(公告)号：CN102888587A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201110242902.2
申请日：2011-08-23
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 本发明公开一种蒸镀方法与蒸镀设备。该蒸镀设备包括一腔体、至少一第一蒸镀源以及至少一第二蒸镀源。腔体具有一第一腔室、一第二腔室、一出口、一连通口、至少一第一入口与至少一第二入口。第一蒸镀源配置于第一入口，第二蒸镀源配置于第二入口。第一蒸镀源提供的一第一气体经由第一入口进入第一腔室。第二蒸镀源提供的一第二气体经由第二入口进入第一腔室，进入第一腔室的第一气体与该第二气体在第一腔室内混合后，经由连通口进入第二腔室，再经由出口离开第二腔室。
-
公开(公告)号：CN102157270B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201010606208.X
申请日：2010-12-24
Applicant: 财团法人工业技术研究院
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02E10/549
Abstract: 本发明公开一种量子点染料敏化太阳电池，包括阳极、阴极以及介于阳极与阴极之间的电解液，其中阳极包括吸附有染料的半导体电极层、分布于半导体电极层中的量子点以及分布于半导体电极层中的纳米金属粒子。由于量子点、染料及半导体电极层的吸收光谱涵盖红外光、可见光及紫外光光谱范围，所以可更有效率的吸收自红外至紫外的太阳光光谱，提升太阳电池的转换效益。至于纳米金属粒子则可增加光线的有效利用率。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102534557A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110305612.8
申请日：2011-10-11
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/4412
Abstract: 本发明公开一种结合进气和排气的喷头，其适于喷洒气体。这样的喷头至少包括一喷头主体，其具有气体作用表面及多个位于气体作用表面的进气孔。喷头主体还包括位于气体作用表面的中央的中央排气口。中央排气口能抽离滞流气体，还能将反应过程中的副产物先行排掉。
-
公开(公告)号：CN109951898A
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201711444632.7
申请日：2017-12-27
Applicant: 财团法人工业技术研究院
Abstract: 一种上行资源单位调度方法，包括选择上行参数组合，是根据所容许的流量与服务质量，计算可以达到能耗最低化的所述上行参数组合。所述上行参数组合允许有多种传送变化。使用得分函数计算用户设备传送条件变化的分数，以所述分数高低决定所述用户设备的传送顺序。决定所述资源单位在上行次载波的摆放位置。检查所述摆放位置所占用的时间是否符合所述用户设备所允许的延迟限制。如果检查所述摆放位置的结果不符合所述延迟限制，则改变所述连续次载波数量，而循环进入决定所述资源单位在所述上行次载波的所述摆放位置的所述步骤。
-
公开(公告)号：CN103805964B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201210534969.8
申请日：2012-12-12
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/45519
Abstract: 本发明公开了一种能产生气幕的气体喷洒装置，包括一第一喷洒单元以及一第二喷洒单元。该第一喷洒单元提供喷洒一反应气体以形成一工艺气体区。该第二喷洒单元环设于该第一喷洒单元周围，该第二喷洒单元具有一缓冲气供应腔与一板体。该缓冲气供应腔提供一缓冲气体。该板体环设于该第一喷洒单元周围，且具有多个通孔，以提供该缓冲气体通过产生包围在该反应气体外围的一气幕。利用该能产生气幕的气体喷洒装置，在另一实施例中，本发明还提供一种薄膜沉积装置，通过该气幕避免真空负压对反应气体直接影响，以延长反应气体滞留时间，而提高气体使用率与镀膜效率。
-
公开(公告)号：CN104674191A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201310712741.8
申请日：2013-12-20
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4583 , C23C16/455 , C23C16/45536 , C23C16/45544 , C23C16/45548 , C23C16/50 , C23C16/505 , H01J37/32091 , H01J37/3244 , H01L21/02274 , H01L21/0228 , H01L51/5253
Abstract: 本发明公开一种多模式薄膜沉积设备以及薄膜沉积方法。多模式薄膜沉积设备包括反应腔室、承载座、气体喷洒头、惰性气体供应源、第一进气系统与第二进气系统。承载座设置于反应腔室中。气体喷洒头具有气体混合室与位于气体混合室一侧的多个气孔，且气孔朝向承载座使气体混合室与反应腔室连通。第一进气系统连接于反应腔室并提供第一薄膜沉积模式时所需的第一制作工艺气体。惰性气体供应源连接于气体混合室，提供惰性气体。第二进气系统连接于气体混合室并提供第二薄膜沉积模式时所需的第二制作工艺气体。
-
公开(公告)号：CN104060226A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201310359451.X
申请日：2013-08-16
Applicant: 财团法人工业技术研究院
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供了一种蒸镀设备，用以对一基板进行蒸镀。该蒸镀设备包括一加热器、一源材料载具以及多个源材料图案层。源材料载具具有沿着一第一方向并排排列的多个源材料配置区，且源材料配置区彼此间隔一距离。在蒸镀设备进行蒸镀时，沿着第一方向排列的源材料配置区依次地位移至基板与加热器之间。源材料图案层分别设置于源材料配置区中。相邻两个源材料配置区中的两个源材料图案层具有不同材质以及不同的尺寸。此外，本发明还提出一种蒸镀方法，以及一种具有屏蔽构件的蒸镀设备。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
26
records
(took 0.04 seconds)
