公开(公告)号：US20140140673A1

公开(公告)日：2014-05-22

申请号：US14065599

申请日：2013-10-29

Applicant: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.

Inventor： Kazuhiro YONEZAWA ,  Tadashi ENOMOTO

IPC: C03B37/014 ,  G02B6/028 ,  G02B6/02

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/24 ,  C03B2203/26 ,  G02B6/02 ,  G02B6/0288 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention relates to a preform manufacturing method and others for effectively reducing variation in refractive index due to chlorine used in manufacture of an optical fiber preform. The manufacturing method includes a dechlorination step carried out between a point of an end time of a dehydration step and a point of a start time of a sintering step, the dechlorination step being a step of heating a porous preform after dehydrated, in an atmosphere containing no chlorine-based dehydrating agent, for a given length of time while maintaining a temperature lower than a sintering temperature, thereby removing chlorine from the porous preform after dehydrated.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于有效地减少由于在制造光纤预制件时使用的氯引起的折射率变化的预制件制造方法。 制造方法包括在脱水步骤的结束时间点和烧结步骤的开始时间点之间进行的脱氯工序，脱氯工序是在脱水后的多孔预成型体的加热步骤中，在含有 在保持低于烧结温度的温度的同一时间段内，不脱氯脱水剂，从而在脱水后从多孔预型体中除去氯。

公开(公告)号：US20140018229A1

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：US13932685

申请日：2013-07-01

Applicant: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd,

Inventor： Shigeru Maida ,  Hisatoshi Otsuka

IPC: C03C3/04 ,  B29C33/38 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03C3/04 ,  B29C33/38 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

Abstract: Synthetic quartz glass is prepared by subjecting a silicon-providing feedstock to flame hydrolysis in oxyhydrogen flame, depositing silica fine particles on a rotating quartz glass target while concurrently melting and vitrifying them, thereby forming a synthetic quartz glass ingot, shaping, annealing, and effecting dehydrogenation treatment at a temperature of at least 600° C. and a pressure of up to 5 Pa for a holding time of at least 12 hours. The synthetic quartz glass has a high helium gas permeability and is suited for forming nanoimprint molds.

Abstract translation: 合成石英玻璃通过使供硅原料在氢氧焰中进行火焰水解，在旋转的石英玻璃靶上沉积二氧化硅细颗粒同时熔化和玻璃化，从而形成合成石英玻璃锭，成型，退火和实现 在至少600℃的温度和至多5Pa的压力下进行至少12小时的保持时间的脱氢处理。 合成石英玻璃具有高氦气渗透性，适用于形成纳米压印模具。

公开(公告)号：US20120198892A1

公开(公告)日：2012-08-09

申请号：US13363748

申请日：2012-02-01

Applicant: Yoshiaki TAMURA ,  Masaaki Hirano ,  Tetsuya Haruna

Inventor： Yoshiaki TAMURA ,  Masaaki Hirano ,  Tetsuya Haruna

IPC: C03B37/012

CPC classification number: C03B37/01861 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/01869 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/50

Abstract: A method for producing an optical fiber preform according to the present invention includes an etching step of heating a silica-based glass tube using a heat source continuously traversed in the longitudinal direction of the glass tube to etch the inner surface portion of the glass tube containing impurities while an etching gas is allowed to flow into the glass tube. The glass tube has a maximum alkali metal concentration of 500 to 20,000 atomic ppm, a maximum chlorine concentration of 0 to 1000 atomic ppm, and a maximum fluorine concentration of 0 to 10,000 atomic ppm. In the etching step, the maximum temperature of the outer surface of the glass tube is in the range of 1900° C. to 2250° C., and the heating time is set to a time equal to or less than a time (min) given by ( 7 - alkai   metal   concentration   ppm 5000 ) .

Abstract translation: 根据本发明的光纤预制棒的制造方法包括：蚀刻步骤，使用在玻璃管的纵向连续穿过的热源来加热二氧化硅基玻璃管，以蚀刻含有玻璃管的玻璃管的内表面部分 允许蚀刻气体流入玻璃管中的杂质。 玻璃管的碱金属浓度最高为500〜20,000原子ppm，最大氯浓度为0〜1000原子ppm，最大氟浓度为0〜10,000原子ppm。 在蚀刻步骤中，玻璃管的外表面的最高温度在1900℃至2250℃的范围内，加热时间设定为等于或小于时间（分钟）的时间， 由（7-烷烃金属浓度ppm ppm 5000）给出。

公开(公告)号：US08039409B2

公开(公告)日：2011-10-18

申请号：US12904236

申请日：2010-10-14

Applicant: Kenta Saitou ,  Akio Koike ,  Mitsuhiro Kawata

Inventor： Kenta Saitou ,  Akio Koike ,  Mitsuhiro Kawata

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/076

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/076 ,  C03C4/0085 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention provides a TiO2-containing silica glass from which a transparent extremely low thermal expansion glass having excellent transparency and having a temperature region in which the coefficient of thermal expansion is substantially zero can be obtained. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass for optical member for EUV lithography, having a TiO2 concentration of from 3 to 14% by mass; an internal transmittance per 1-mm thickness in a wavelength region of from 400 to 700 nm, T400-700, of 97% or more; and an internal transmittance per 1-mm thickness in a wavelength region of from 400 to 3,000 nm, T400-3,000, of 70% or more.

Abstract translation: 本发明提供一种含TiO 2的二氧化硅玻璃，可以得到透明度极高的透明性高且热膨胀系数基本上为零的温度区域的玻璃。 本发明涉及TiO 2浓度为3〜14质量％的用于EUV光刻用的光学部件的含TiO 2的二氧化硅玻璃， 在400〜700nm波长范围内，每1mm厚的内透射率，T400-700，97％以上; 在400〜3000nm的波长范围内，每1mm厚的内透射率，T400-3,000，70％以上。

公开(公告)号：US07934390B2

公开(公告)日：2011-05-03

申请号：US11748151

申请日：2007-05-14

Applicant: Eric Eva

Inventor： Eric Eva

IPC: C03C21/00 ,  C03C19/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B23/0013 ,  C03B23/0026 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54

Abstract: The invention relates to a method for the manufacture of a lens of synthetic quartz glass with increased H2 content, in particular for a lens for an optical system with an operating wavelength of less than 250 nm, in particular less than 200 nm, with the steps: providing a precursor product of synthetic quartz glass, in particular with a first H2 content of less than 2·1015 molecules/cm3, with a circumferential border surface and two base surfaces lying on opposite sides, wherein at least one partial surface of at least one of said base surfaces has a curvature, and treating the precursor product in an H2-containing atmosphere in order to produce a precursor product of synthetic quartz glass with a second H2 content that is increased in relation to the first H2 content, in particular with a second H2 content of more than 1016 molecules/cm3, and measuring at least one optical property of said precursor product with said second H2 content.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造具有增加的H 2含量的合成石英玻璃透镜的方法，特别是用于具有小于250nm，特别是小于200nm的工作波长的光学系统的透镜，步骤 ：提供合成石英玻璃的前体产物，特别是具有小于2×1015分子/ cm 3的第一H 2含量，周边边界表面和位于相对侧上的两个基底表面，其中至少一个部分表面至少 所述基面之一具有曲率，并且在含H2气氛中处理前体产物，以便产生具有相对于第一H 2含量增加的第二H 2含量的合成石英玻璃的前体产物，特别是与 大于1016分子/ cm 3的第二H 2含量，并测量所述前体产物与所述第二H 2含量的至少一种光学性质。

公开(公告)号：US20110028299A1

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：US12904236

申请日：2010-10-14

Applicant: Kenta SAITOU ,  Akio Koike ,  Mitsuhiro Kawata

Inventor： Kenta SAITOU ,  Akio Koike ,  Mitsuhiro Kawata

IPC: C03C3/04

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/076 ,  C03C4/0085 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention provides a TiO2-containing silica glass from which a transparent extremely low thermal expansion glass having excellent transparency and having a temperature region in which the coefficient of thermal expansion is substantially zero can be obtained. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass for optical member for EUV lithography, having a TiO2 concentration of from 3 to 14% by mass; an internal transmittance per 1-mm thickness in a wavelength region of from 400 to 700 nm, T400-700, of 97% or more; and an internal transmittance per 1-mm thickness in a wavelength region of from 400 to 3,000 nm, T400-3000, of 70% or more.

Abstract translation: 本发明提供一种含TiO 2的二氧化硅玻璃，可以得到透明度极高的透明性高且热膨胀系数基本上为零的温度区域的玻璃。 本发明涉及TiO 2浓度为3〜14质量％的用于EUV光刻用的光学部件的含TiO 2的二氧化硅玻璃， 在400〜700nm波长范围内，每1mm厚的内透射率，T400-700，97％以上; 在400〜3000nm的波长范围内，每1mm厚的内透射率为T400〜3000，为70％以上。

公开(公告)号：US20100236288A1

公开(公告)日：2010-09-23

申请号：US12638565

申请日：2009-12-15

Applicant: Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  James Caruso ,  Quint H. Powell ,  Audunn Ludviksson

Inventor： Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  James Caruso ,  Quint H. Powell ,  Audunn Ludviksson

IPC: C03B19/10

CPC classification number: B82Y30/00 ,  A61K6/0276 ,  A61K6/08 ,  A61K6/083 ,  B01J13/02 ,  B01J19/10 ,  B01J19/2405 ,  B01J2219/00112 ,  B01J2219/00155 ,  B01J2219/00159 ,  B01J2219/00162 ,  B01J2219/00166 ,  B01J2219/00171 ,  B01J2219/00186 ,  B24B37/044 ,  C01B13/18 ,  C01B13/185 ,  C01B17/20 ,  C01F17/0043 ,  C01G23/003 ,  C01P2002/60 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/34 ,  C01P2004/50 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2006/22 ,  C03B19/106 ,  C03B2201/07 ,  C03C8/16 ,  C03C11/002 ,  C03C12/00 ,  C03C14/004 ,  C03C17/30 ,  C03C2214/08 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  C09K11/584 ,  C09K11/595 ,  C09K11/623 ,  C09K11/642 ,  C09K11/643 ,  C09K11/644 ,  C09K11/662 ,  C09K11/666 ,  C09K11/672 ,  C09K11/7701 ,  C09K11/7708 ,  C09K11/7729 ,  C09K11/7769 ,  C09K11/7776 ,  C09K11/7784 ,  C09K11/7786 ,  C09K11/7787 ,  H01L21/3212 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/29 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/2996 ,  C08L33/00

Abstract: Glass powders and methods for producing glass powders. The powders preferably have a small particle size, narrow size distribution and a spherical morphology. The method includes forming the particles by a spray pyrolysis technique. The invention also includes novel devices and products formed from the glass powders.

Abstract translation: 玻璃粉末和玻璃粉末的制造方法。 粉末优选具有小的粒度，窄的粒度分布和球形的形态。 该方法包括通过喷雾热解技术形成颗粒。 本发明还包括由玻璃粉末形成的新型器件和产品。

公开(公告)号：US07732359B2

公开(公告)日：2010-06-08

申请号：US11981434

申请日：2007-10-31

Applicant: Dana Craig Bookbinder ,  Michael Lucien Genier ,  Lisa Anne Moore

Inventor： Dana Craig Bookbinder ,  Michael Lucien Genier ,  Lisa Anne Moore

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/04 ,  C03C13/04

CPC classification number: G02B6/102 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/22 ,  C03C3/06 ,  C03C13/047 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958 ,  H01J61/302

Abstract: An optical member comprising OD-doped silica glass, optionally doped with fluorine. The optical member is particularly advantageous for use in connection with radiation having a wavelength shorter than about 248 nm. In certain embodiments the optical member can be advantageously used for wavelength as short as about 157 nm.

Abstract translation: 一种光学部件，包括掺杂有掺杂二氧化硅的石英玻璃，任选掺杂氟。 光学构件特别有利于与波长短于约248nm的辐射结合使用。 在某些实施方案中，光学构件可有利地用于短至约157nm的波长。

公开(公告)号：USRE41220E1

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US11880425

申请日：2000-07-10

Applicant: Claude L. Davis Jr. ,  Kenneth E. Hrdina

Inventor： Claude L. Davis Jr. ,  Kenneth E. Hrdina

IPC: G21K1/06

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/42 ,  G02B5/0891 ,  G02B17/0615 ,  G02B17/0636 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: The projection lithographic method for producing integrated circuits and forming patterns with extremely small feature dimensions includes an illumination sub-system (36) for producing and directing an extreme ultraviolet soft x-ray radiation λ from an extreme ultraviolet soft x-ray source (38); a mask stage (22) illuminated by the extreme ultraviolet soft x-ray radiation λ produced by illumination stage and the mask stage (22) includes a pattern when illuminated by radiation λ. A protection sub-system includes reflective multilayer coated Ti doped high purity SiO2 glass defect free surface (32) and printed media subject wafer which has a radiation sensitive surface.

Abstract translation: 用于制造集成电路和形成具有极小特征尺寸的图案的投影光刻方法包括用于产生和引导来自极紫外线软X射线源（38）的极紫外线软X射线辐射λ的照明子系统（36） ; 由照射级产生的极紫外线软X射线辐射λ照射的掩模台（22）和掩模台（22）包括当被辐射λ照射时的图案。 保护子系统包括具有辐射敏感表面的反射多层涂覆的Ti掺杂的高纯度SiO 2玻璃无缺陷表面（32）和印刷媒体对象晶片。

公开(公告)号：US07635658B2

公开(公告)日：2009-12-22

申请号：US11583619

申请日：2006-10-19

Applicant: Dana Craig Bookbinder ,  Richard Michael Fiacco ,  Ulrich Wilhelm Heinz Neukirch

Inventor： Dana Craig Bookbinder ,  Richard Michael Fiacco ,  Ulrich Wilhelm Heinz Neukirch

IPC: C03C3/06 ,  C03C15/00 ,  C03B19/06 ,  C03B37/00 ,  C03B37/014

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/12 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23

Abstract: What is disclosed includes OD-doped synthetic silica glass capable of being used in optical elements for use in lithography below about 300 nm. OD-doped synthetic silica glass was found to have significantly lower polarization-induced birefringence value than non-OD-doped silica glass with comparable concentration of OH. Also disclosed are processes for making OD-doped synthetic silica glasses, optical member comprising such glasses, and lithographic systems comprising such optical member. The glass is particularly suitable for immersion lithographic systems due to the exceptionally low polarization-induced birefringence values at about 193 nm.

Abstract translation: 公开的内容包括能够用于低于约300nm的光刻中的光学元件的OD掺杂合成石英玻璃。 发现OD掺杂的合成二氧化硅玻璃具有比具有相当浓度的OH的非OD掺杂的石英玻璃具有显着更低的偏振诱导双折射值。 还公开了制造掺杂OD的合成二氧化硅玻璃，包含这种玻璃的光学构件以及包括这种光学构件的光刻系统的方法。 由于在约193nm处极度低的偏振诱发双折射值，该玻璃特别适用于浸没式光刻系统。