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公开(公告)号：KR1020130025698A
公开(公告)日：2013-03-12
申请号：KR1020110089172
申请日：2011-09-02
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: PURPOSE: A plasma measuring device and a method thereof are provided to measure changes in an electron-neutral collision frequency according to time by applying the device and the method to a process utilizing plasma. CONSTITUTION: A plasma measuring device comprises a transmission antenna(122), a reception antenna(124), a network analysis unit(126), and a processing unit(128). The transmission antenna is inserted into inside plasma and transmitting electromagnetic waves. The reception antenna is inserted into inside the plasma and arranged side by side with the reception antenna. The network analysis unit provides variable frequencies to the transmission antenna.
Abstract translation: 目的：提供一种等离子体测量装置及其方法，通过将装置和方法应用于利用等离子体的方法来测量电子中性碰撞频率随时间的变化。 构成：等离子体测量装置包括发射天线（122），接收天线（124），网络分析单元（126）和处理单元（128）。 发射天线插入等离子体内并传输电磁波。 接收天线插入等离子体内并且与接收天线并列布置。 网络分析单元向发射天线提供可变频率。
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公开(公告)号：KR101225011B1
公开(公告)日：2013-01-22
申请号：KR1020110074994
申请日：2011-07-28
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: H05H1/0081 , G01N27/02 , H01J37/3211 , H01J37/32183 , H01J37/32935 , H05H1/46 , H05H2001/4682
Abstract: PURPOSE: A super high frequency probe using resonance structure is provided to measure a plasma density over again by using the cut-off frequency from a measured antenna and a radiating antenna exposed to plasma. CONSTITUTION: A radiating antenna(112) radiates a super high frequency which scans a frequency from the inside of plasma. A receiving antenna(114) receives an electromagnetic wave radiated from the radiating antenna by being inserted inside of the plasma. A resonance structure(116)which is arranged at the surrounding of the radiating antenna and the receiving antenna is formed with an electrical material which resonances with an electromagnetic wave. The resonance structure provides resonant frequency. The resonance structure comprises a mesh structure or a planar structure. The resonance structure has a cylinder type which covers the radiating antenna and the receiving antenna. [Reference numerals] (AA) Plasma
Abstract translation: 目的：提供使用谐振结构的超高频探头，通过使用来自测量天线和暴露于等离子体的辐射天线的截止频率再次测量等离子体密度。 构成：辐射天线（112）辐射出从等离子体内部扫描频率的超高频。 接收天线（114）通过插入等离子体内部而接收从辐射天线辐射的电磁波。 布置在辐射天线和接收天线的周围的谐振结构（116）形成有与电磁波共振的电材料。 谐振结构提供谐振频率。 共振结构包括网状结构或平面结构。 谐振结构具有覆盖辐射天线和接收天线的圆筒型。 （标号）（AA）等离子体
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公开(公告)号：KR1020120055804A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：KR1020100117206
申请日：2010-11-24
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: C01B32/184 , B01J19/12 , C23C16/26 , C23C16/50
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing graphene, an apparatus for manufacturing the graphene, and the graphene are provided to utilize a specimen coated with the graphene for various purposes. CONSTITUTION: A specimen is arranged in a treating container(130). The specimen is floated. Graphene is grown on the entire surface of the floated specimen. A method for growing the graphene on the entire surface of the floated specimen includes either a process, in which operational gas containing hydrogen and carbon is plasma-treated and is supplied into the treating container, or a process in which the specimen is heated to form the graphene. A catalyst layer containing transition metals or carbonized metals is formed on the surface of the specimen.
Abstract translation: 目的：提供用于制造石墨烯的方法，用于制造石墨烯的装置和石墨烯，以利用涂覆有石墨烯的样品用于各种目的。 构成：将样品设置在处理容器（130）中。 标本浮起来 石墨烯在漂浮样品的整个表面上生长。 在浮选试样的整个表面上生长石墨烯的方法包括一种方法，其中将含有氢和碳的操作气体经等离子体处理并供入处理容器中，或将样品加热形成 石墨烯。 在样品的表面上形成含有过渡金属或碳化金属的催化剂层。
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公开(公告)号：KR101135151B1
公开(公告)日：2012-04-20
申请号：KR1020090120897
申请日：2009-12-08
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 열전도도 측정장치를 제공한다. 이 장치는 하부 온도 고정부, 하부 온도 고정부 상에 이격되어 배치된 상부 온도 고정부, 하부 온도 고정부 상에 배치되고 열류를 생성하는 발열부, 발열부 상에 배치되고 열류 중에서 시료에 전달되는 열류를 측정하는 하부 열류 측정부, 및 상부 온도 고정부의 하부에 배치되고 시료를 통과하여 전달되는 열류를 측정하는 상부 열류 측정부를 포함한다. 시료는 하부 열류 측정부의 일면와 상부 열류 측정부의 일면 사이에 개재되고, 발열부 및 상기 하부 열류 측정부는 열전 소자로 구성된다.
열전 소자, 비도전성 시료, 열전도도-
公开(公告)号：KR101129675B1
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：KR1020100041241
申请日：2010-05-03
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명의 변압기 및 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 챔버의 내부에 삽입되는 내부 안테나, 및 내부 안테나에 전력을 공급하는 변압기를 포함한다. 변압기는 중심도선 및 중심도선을 싸고 있는 피복 도선을 포함하는 복수의 동축 케이블을 포함하되, 중심 도선들의 일단은 서로 병렬 연결되어 전원에 연결되고, 중심도선들의 타단은 접지되고, 내부 안테나의 일단은 중심도선의 일단에 연결되고, 내부 안테나의 타단은 피복 도선의 일단에 연결되고, 피복 도선들은 플로팅되고 서로 병결연결된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110109406A
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：KR1020100029120
申请日：2010-03-31
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/3211 , H01J37/32825 , H01Q1/366 , H05H2001/4667
Abstract: 본 발명은 내부 안테나 및 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 내부 안테나는 진공용기의 내부에 직접 삽입되어 플라즈마를 발생시킨다. 내부 안테나는 일단에 전력이 공급되고 타단에서 전력이 4갈래로 분배되는 전원 공급부, 전원 공급부와 수직하게 배치된 전력 분배 평면에 배치되고 전원 공급부의 타단에서 대칭적으로 4 갈래로 갈라지는 주 방사상(main radial) 브랜치들, 인접한 주 방사상 브랜치들을 서로 연결시키는 외곽 브랜치들, 외곽 브랜치들의 중심 영역에서 전원 공급부의 타단 방향으로 연장되는 보조 방사상 브랜치들(sub radial), 및 보조 방사상 브랜치들에 각각 연결되고 전원 공급부와 평행하게 연장되는 접지부들을 포함한다.
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公开(公告)号：KR101013357B1
公开(公告)日：2011-02-14
申请号：KR1020080071607
申请日：2008-07-23
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 고전력 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 전력을 공급하는 전원부, 전원부와 직렬연결되는 정합회로부, 플라즈마를 감금하는 챔버부, 챔버부의 외부에 배치되는 유도 코일부, 챔버부의 내부에 배치되는 전극부, 및 유도코일부 또는 전극부와 직렬연결되는 가변 소자부를 포함한다. 유도코일부 및 전극부는 상호 병렬연결되어 정합회로부에 연결되고, 가변소자부는 유도 코일부와 전극부의 병렬 공명주파수를 전원부의 구동 주파수와 일치시킨다.
축전결합플라즈마, 유도결합플라즈마, 공명-
公开(公告)号：KR100994648B1
公开(公告)日：2010-11-16
申请号：KR1020080051624
申请日：2008-06-02
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: H01L21/66 , H01L21/3065
Abstract: 본 발명은 플라즈마 모니터링 방법 및 그 장치를 제공한다. 이 방법은 플라즈마를 구속하는 챔버의 창문을 통하여 플라즈마가 방출하는 스펙트럼을 측정하여 광학 신호를 생성하는 단계, 상기 창문의 투과율 감소를 고려하여 상기 광학 신호로부터 기준신호를 추출하는 단계, 및 상기 기준신호와 상기 광학 신호를 이용하여 신호 변화량을 추출하는 단계를 포함한다.
플라즈마, 광학 방출, 모니터링-
公开(公告)号：KR100978556B1
公开(公告)日：2010-08-31
申请号：KR1020080029069
申请日：2008-03-28
Abstract: 본 발명은 플라즈마 처리 장치, 플라즈마 제어 장치, 및 플라즈마 처리 장치의 제어 방법을 제공한다. 이 플라즈마 처리 장치는 챔퍼를 포함하는 챔버부, 챔버 내에 형성된 플라즈마와 접촉하는 탐침 구조체 및 탐침 구조체에 인가된 전압에 의한 탐침 전류로부터 플라즈마 변수를 추출하는 탐침 처리부를 포함하는 탐침부, 및 챔버부를 제어부를 포함하되, 제어부는 탐침부가 상기 챔버부에서 추출한 플라즈마 변수를 이용하여 챔버의 내부 환경을 조절하는 외부 변수를 제어한다.
플로팅 탐침, 플라즈마 제어, 플라즈마-
公开(公告)号：KR1020100010640A
公开(公告)日：2010-02-02
申请号：KR1020080071607
申请日：2008-07-23
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: H01J37/32183 , H01J37/3211 , H01J37/32458 , H01J37/32541 , H01J2237/33 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2001/4682
Abstract: PURPOSE: A high power plasma generation apparatus is provided to generate high density plasma under lower pressure by using resonance of ICP and CCP. CONSTITUTION: A power supply unit(150) supplies power. A matching circuit(140) is serially connected to the power supply unit. A chamber(100) confines the plasma. An induction coil(130) is arranged outside the chamber. An electrode(120) is arranged inside the chamber. A variable device(160) is serially connected to the induction coil or the electrode. The induction coil and electrode are connected to parallel with each other. The induction coil and electrode are connected to the matching circuit. The variable device makes a parallel resonant frequency of the electrode identical to a driving frequency of the power supply unit.
Abstract translation: 目的：提供高功率等离子体发生装置，通过使用ICP和CCP的共振来产生较低压力的高密度等离子体。 构成：电源单元（150）供电。 匹配电路（140）串联连接到电源单元。 室（100）限制等离子体。 感应线圈（130）布置在室外。 电极（120）布置在腔室内。 可变装置（160）串联连接到感应线圈或电极。 感应线圈和电极彼此平行地连接。 感应线圈和电极连接到匹配电路。 可变装置使电极的并联谐振频率与电源单元的驱动频率相同。
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