公开(公告)号：JP6190040B2

公开(公告)日：2017-08-30

申请号：JP2016510533

申请日：2015-01-09

Applicant: 技術研究組合次世代3D積層造形技術総合開発機構

Inventor： 佐藤 崇

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/06

CPC classification number: H01J37/065 ,  B22F3/1055 ,  B33Y30/00 ,  H01J3/08 ,  H01J3/12 ,  H01J37/06 ,  H01J37/304 ,  B22F2003/1056 ,  B22F2003/1057 ,  B22F2999/00 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/0653

公开(公告)号：JP2015095297A

公开(公告)日：2015-05-18

申请号：JP2013232668

申请日：2013-11-11

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 池上 明 ,  土肥 英登 ,  数見 秀之 ,  小瀬 洋一 ,  鈴木 直正 ,  圓山 百代

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/147 ,  H01J37/153

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J3/12 ,  H01J37/14 ,  H01J37/147 ,  H01J37/153 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/2611 ,  H01J2237/2814

Abstract: 【課題】荷電粒子線のエネルギーと開き角が一定でなく分布していることによって発生する複数の収差を同時に打ち消すことができる荷電粒子線装置を提供する。 【解決手段】本発明に係る荷電粒子線装置は、荷電粒子線が軸外を通過することによって収差を発生させる収差発生レンズと、荷電粒子線のエネルギーによらずその軌道を対物レンズの主面上に集束させる補正レンズとを備え、補正レンズの主面は、開き角がそれぞれ異なる複数の荷電粒子線が収差発生レンズを通過した後に集束するクロスオーバー位置に配置されている。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种带电粒子束装置，其能够同时消除由带电粒子束装置的能量的非恒定分布和打开角度产生的多个像差。解决方案：带电粒子束装置包括：像差产生 透镜，用于通过使带电粒子束穿过轴的外部产生像差; 以及用于在不依赖于带电粒子束的能量的情况下会聚在物镜的主表面上的轨道的校正透镜。 校正透镜的主表面布置在交叉位置，其中多个具有彼此不同角度的带电粒子束在通过像差产生透镜之后会聚。

公开(公告)号：JP2013236053A

公开(公告)日：2013-11-21

申请号：JP2013014833

申请日：2013-01-29

Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

Inventor： SANO KENTARO ,  MIYAKE AKIRA ,  MURAKI MASATO ,  YUI TAKASUMI

IPC: H01L21/027 ,  H01J37/12 ,  H01J37/153 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J3/12 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/12 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/121

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle optical system advantageous in reducing aberrations.SOLUTION: The charged particle optical system for emitting a charged particle beam includes an electrostatic lens, and a grid electrode that is disposed along an optical axis of the electrostatic lens opposing to the electrostatic lens and forms an electrostatic field in cooperation with the electrostatic lens, in which an electrode surface opposing to the electrostatic lens of the grid electrode has different distances from the electrostatic lens in the direction of the optical axis depending on positions of the electrode surface.

Abstract translation: 要解决的问题：提供有利于减少像差的带电粒子光学系统。解决方案：用于发射带电粒子束的带电粒子光学系统包括静电透镜和沿着静电透镜的光轴设置的栅极 与静电透镜相对并形成与静电透镜协作的静电场，其中与栅电极的静电透镜相对的电极表面具有与静电透镜在光轴方向上不同的距离，取决于静电透镜的位置 电极表面。

公开(公告)号：JPWO2012014870A1

公开(公告)日：2013-09-12

申请号：JP2012526502

申请日：2011-07-26

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 陽一 平山 ,  陽一 平山

IPC: H01J37/153 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J3/12 ,  H01J37/153 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/2802

Abstract: 透過電子顕微鏡(TEM)/走査型透過電子顕微鏡(STEM)で共用可能な収差補正装置およびそれを用いた荷電粒子線装置を提供するために、収差補正装置1において、TEM用対物レンズ6aとSTEM用対物レンズ6bとの間に、TEM用対物レンズ6aのコマフリー面11を多極子レンズ3に転写するための転写レンズ群4、5と、TEM用対物レンズのコマフリー面11を多極子レンズ2に転写するための転写レンズ群7、8と、STEM用対物レンズ6bの5次の球面収差を補正するための転写レンズ13とを備える。

公开(公告)号：JP4533441B2

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：JP2008064717

申请日：2008-03-13

Applicant: 株式会社日立製作所 ,  独立行政法人沖縄科学技術研究基盤整備機構

Inventor： 高穂 吉田 ,  陽一 平山

IPC: H01J37/153

CPC classification number: H01J3/12 ,  H01J37/153 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/28

公开(公告)号：JP2008502110A

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：JP2007515673

申请日：2005-06-06

Applicant: マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー

Inventor： ジン ゾウ ,  チピン チェン ,  ロナク ジェイ バット

IPC: H01J37/14 ,  G21K1/00 ,  G21K1/093 ,  G21K5/04 ,  H01J3/02 ,  H01J3/20 ,  H01J27/02 ,  H01J29/64 ,  H01J37/00 ,  H01J37/141 ,  H01J37/143 ,  H05H15/00

CPC classification number: H01J27/02 ,  G21K1/093 ,  H01J3/02 ,  H01J3/12 ,  H01J3/20 ,  H01J29/64

Abstract: 荷電粒子ビームシステムは、楕円形断面を有する非線対称ビーム８を生成する、非線対称ダイオード２を含む。 集束用エレメントは磁場を用いて非線対称ビーム８を集束および移送し、非線対称ビーム８は集束用エレメントのチャネルにほぼマッチングしている。

公开(公告)号：TWI579883B

公开(公告)日：2017-04-21

申请号：TW101126623

申请日：2012-07-24

Applicant: 原子能與替代能源委員會 ,  COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES ,  艾西塔奈米製圖公司 ,  ASELTA NANOGRAPHICS

Inventor： 史亞方 派翠克 ,  SCHIAVONE, PATRICK ,  費格羅 迪亞哥 ,  FIGUEIRO, THIAGO

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/26 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/2061 ,  H01J3/12 ,  H01J37/222 ,  H01J2229/563 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/31769

公开(公告)号：TW201316372A

公开(公告)日：2013-04-16

申请号：TW101126623

申请日：2012-07-24

Applicant: 原子能與替代能源委員會 ,  COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES ,  艾西塔奈米製圖公司 ,  ASELTA NANOGRAPHICS

Inventor： 史亞方 派翠克 ,  SCHIAVONE, PATRICK ,  費格羅 迪亞哥 ,  FIGUEIRO, THIAGO

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/26 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/2061 ,  H01J3/12 ,  H01J37/222 ,  H01J2229/563 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/31769

Abstract: 本發明揭示用於投射電子束的方法，特別是用於直接或間接描寫式微影術及電子顯微鏡中。特別是對於小於50nm的關鍵尺寸或解析度，由與靶交互作用之電子束的電子的前向及背向散射所產生的鄰近效應心須被校正。因此，傳統上使用點散佈函數與靶的幾何形狀之卷積。在先前技術中，點散佈函數集中於電子束且使用高斯或指數分佈律。根據本發明，點散佈函數的成分中至少之一具有不位於電子束的中心之最大值。較佳地，最大值位於背向散射峰值。有利地，點散佈函數使用伽瑪分佈律。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示用于投射电子束的方法，特别是用于直接或间接描写式微影术及电子显微镜中。特别是对于小于50nm的关键尺寸或分辨率，由与靶交互作用之电子束的电子的前向及背向散射所产生的邻近效应心须被校正。因此，传统上使用点散布函数与靶的几何形状之卷积。在先前技术中，点散布函数集中于电子束且使用高斯或指数分布律。根据本发明，点散布函数的成分中至少之一具有不位于电子束的中心之最大值。较佳地，最大值位于背向散射峰值。有利地，点散布函数使用伽玛分布律。