多层配线基板的制造方法、多层配线基板和电子设备

    公开(公告)号:CN101394714B

    公开(公告)日:2011-02-23

    申请号:CN200810215218.3

    申请日:2008-09-18

    Abstract: 本发明涉及一种连接孔的位置和大小的控制性优异的多层配线基板的制造方法、多层配线基板和电子设备。多层配线基板的制造方法是第1导电层(1)和第2导电层经由绝缘层(3)而被层叠,第1导电层1和第2导电层经由开口于绝缘层(3)的开口部(4)而被电连接所形成的多层配线基板的制造方法,其特征在于,具有:在第1导电层(1)上形成疏液部(2)的工序;和在疏液部(2)的周围配置含有绝缘层(3)的形成材料的功能液(L2),并在第1导电层(1)上形成具有开口部(4)的绝缘层(3)的工序,在形成绝缘层(3)的工序中,在功能液(L2)与疏液部(2)的接触部分的角度大于功能液(L2)的前进接触角的条件下配置功能液(L2),通过使功能液(L2)的面向疏液部(2)的部分的位置向疏液部(2)的内侧流动,形成具有小于疏液部(2)的面积的开口面积的开口部(4)。

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