公开(公告)号：KR1019970064824A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960005547

申请日：1996-03-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준 ,  송재인 ,  박흥수 ,  고영범

IPC: B24B55/00

Abstract: 본 발명은 CMP공정후 습식 세정 공정에서 사용될 수 있는 것으로서, 인산과 플루오로화붕소산을 포함하는 세정 용액 및 그를 이용하는 세정 방법에 관한 것이다. 본 발명의 세정 용액은 중금속 오염입자를 포함하는 오염물질층에 대한 세정효과가 우수할 뿐 아니라, 장벽 금속층을 부식시키지 않으면서 산화물층 또는 절연층의 표면부에 형성되어 있는 손상 막질을 효과적으로 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명의 세정 용액을 이용하는 세정 방법은 후속의 공정을 안정화시키는데 기여한다.

公开(公告)号：KR1019970023969A

公开(公告)日：1997-05-30

申请号：KR1019950039041

申请日：1995-10-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재인 ,  남창현 ,  장규환 ,  이현재

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 캐리어에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 웨이퍼 캐리어는 날개부 및 크로스 바의 상면에 세정에 사용된 물이 잔류하는 것을 방지하기 위하여 날개부와 크로스 바의 상면을 각각 경사면으로 한다. 또한, 본 발명에 의한 웨이퍼 캐리어의 측벽중 하부 측벽에는 적어도 1개의 개구부가 형성된다. 따라서, 최종 린스 후에 세정에 사용되었던 물이 웨이퍼 캐리어상에 잔류하는 것을 최대한 억제하고, IPA 증기를 이용하여 웨이퍼를 건조시킬 때 이 개구부를 통하여 IPA 증기가 웨이퍼 캐리어 내로 원활하게 진입할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970023961A

公开(公告)日：1997-05-30

申请号：KR1019950034752

申请日：1995-10-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재인 ,  고용선 ,  권영민 ,  황인석

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 캐리어에 관한 것으로서, 본 발명에 의한 웨이퍼 캐리어는 웨트 스테이션에서 이송수단과 결합되는 한 쌍의 날개부와, 지지부를 갖추고, 상기 한 쌍의 날개부는 각각 그 전방측의 두께가 후방측의 두께 보다 소정의 크기 만큼 더 크게 형성되고, 상기 지지부는 그 전방측의 두께가 후방측의 두께보다 소정의 크기 만큼 더 크게 형성된다. 본 발명에 의하면, 웨이퍼의 세정 효과를 높이면서, 웨이퍼의 세정 및 건조 공정에서 야기될 수 있는 오염 발생 원인을 확실하게 제거할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970023889A

公开(公告)日：1997-05-30

申请号：KR1019950035615

申请日：1995-10-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재인 ,  남창현 ,  이상호 ,  방주식

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체의 제조장비의 세정공정에 관한 것으로 특히 세정공정에서 공급하는 약액이 결정화되는 것을 막을 수 있도록 한 반도체소자 세정용 약액공급장치에 대한 것이다.
종래 인산공급장치는 중앙 약액공급부(CCSS)에서 직접공급 받으며 사용되고 있는 인산용액의 약 85%는 결정온도가 21℃인 관계로 인산공급의 대기시 공급시스템 내(배관 및 탱크)에 정체되어 있는 인산은 결정화현상이 발생되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로, 반도체소자의 세정장비에서 용기에 담겨진 약액을 제1및 제2펌프를 통해 저장탱크를 거쳐 일정량씩 필터를 통과시켜 공정조로 공급하는 약액공급장치에 있어서, 상기 공정조로 약액의 공급이 중단되었을때 약액공급라인상에 정치되어 있는 약액의 운동에지를 증가시켜 약액이 결정화되는 것은 막아주는 결정방지수단을 포함하여, 인산용액의 공급중단시 인산 공급라인에 정체되어 있는 인산용액의 분자 운동을 지속적으로 유지시켜 주어 결정화 현상을 효과적으로 억제킬 수 있도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1019970018164A

公开(公告)日：1997-04-30

申请号：KR1019950032972

申请日：1995-09-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재인 ,  남창현 ,  박명준 ,  김명진

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정 효율이 향상된 세정장치에 관해 개시한다. 본 발명은 반도체용 웨이퍼의 순수 세정장치에 있어서, 순수 유입공이 형성된 안내판에 의해 구획된 하부의 완충실과 상부의 세정실, 상기 완충실의 하단면에 연결설치된 순수공급 파이프 및 상기 세정실에 연결설치된 배수파이프를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체용 웨이퍼의 세정장치를 제공한다.
본 발명의 실시예에 의하면, 균일한 유량과 유압으로 카세트 내부의 웨이퍼로 순수를 공급할 수 있고, 난류에 의한 재오염이 방지되기 때문에 세정효율이 증가한다.

公开(公告)号：KR1019970017944A

公开(公告)日：1997-04-30

申请号：KR1019950031089

申请日：1995-09-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최영준 ,  송재인

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 패터닝하는 방법에 관한 것으로서, 특히 반도체 장치 제조에 있어서 폴리 실리콘 패턴을 형성방법에 관한 것이다.
감광막을 사용하지 않는 폴리 실리콘 패턴 형성 방법에 있어서, 실리콘기판을 불산(HF) 용액에 담구어 실리콘기판 표면의 실리콘 원자들을 수소로 말단부 치환(H-Terminate)시키는 제1공정, 상기 실리콘기판을 비 이온화 수(Deionized Water)로 린스(Rinse)한 후 드라이(Dry)하는 제2공정; 상기 제1공정에서 수소로 말단부 치환된 실리콘기판의 소정의 부분을 X선 또는 전자 빔(Beam)을 사용하여 활성화시키는 제3공정; 및 상기 실리콘기판을 알킬실란 반응시켜 폴리 실리콘을 형성시키는 제4공정을 포함함을 특징으로 한다.
상술한 바와 같이 본 발명의 폴리 실리콘 패턴형성 방법은 알킬실란반응으로 폴리 실리콘 패턴을 형성하여 형성함으로써 식각에 의한 감광막의 끊어짐이나 브릿징등의 패턴불량을 방지하는 효과를 제공한다.