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公开(公告)号：KR101380926B1
公开(公告)日：2014-04-10
申请号：KR1020120088527
申请日：2012-08-13
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G01N27/333 , G01N27/414
CPC classification number: G01N27/4146
Abstract: 본 발명은 이온 선택성 막 표면이나 내부에 특정 이온이 흡착 또는 반응이 이루어질 때, 이온 선택성 막에 접합된 표면 개질된 탄소나노구조체 (Carbon Nano Structures)를 이용하여 특정 이온에 대한 미세한 전류 변화의 증폭을 감지함으로써 특정 이온의 농도를 측정하는 센서 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 센서는 표면 개질된 탄소나노구조체를 이용하기 때문에 민감도 측면에서 매우 우수하다는 장점을 갖는다. 따라서 본 발명의 센서는 환경 센서, 화학 센서 및 바이오 센서로의 적용이 가능하다.
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公开(公告)号：KR101349898B1
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：KR1020120095715
申请日：2012-08-30
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01S3/109
CPC classification number: H01S3/1095 , H01S1/005 , H01S3/1121
Abstract: The present invention relates to a module for generating extreme ultraviolet beam capable of Preventing the environmental pollution in a vacuum chamber while maintaining the degree of vacuum in the vacuum chamber stably by providing a module for generating the extreme ultraviolet beam of high order harmonic with the interaction between laser beam and inactive gas in the vacuum chamber for the generated extreme ultraviolet ray not to be absorbed by the inactive gas through maintaining the degree of vacuum stably while preventing the environmental pollution in the vacuum chamber.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于生成能够防止真空室中的环境污染的极紫外光束的模块，同时通过提供用于产生具有相互作用的高次谐波的极紫外光束的模块来稳定地保持真空室中的真空度， 在真空室中的激光束和非活性气体之间产生的极紫外线不被惰性气体吸收，通过在防止真空室中的环境污染的同时稳定地保持真空度。
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公开(公告)号：KR101299678B1
公开(公告)日：2013-08-27
申请号：KR1020110127789
申请日：2011-12-01
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은, 상면 상에 수중센서가 안착되는 복수의 수중센서 안착부를 구비한 하우징 본체; 상기 수중센서 안착부 각각에 안착되는 수중센서; 상기 하우징 본체의 상기 상면 위로 상기 수중센서를 덮으며 설치되고, 상기 각 수중센서의 해수접촉부분 각각에 대응하여 복수개로 형성되고 방오용 소재로 형성된 방오용 그물이 설치된 그물 구멍을 갖는 방오판; 및 상기 방오판의 덮은 상태로 상기 하우징 본체와 결합되며 상기 그물 구멍 각각에 대응하여 형성된 해수유입구멍 및 상기 각 해수유입구멍을 개별적으로 개폐 가능한 구멍덮개를 구비한 캡을 포함하며, 상기 구멍덮개의 선택적 개방에 따라 상기 수중센서를 선택적으로 사용가능한 수중센서 하우징 및 이에 사용가능한 방오가 적용된 방오형 수중센서에 대해 개시한다.
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公开(公告)号：KR101274609B1
公开(公告)日：2013-06-13
申请号：KR1020110104561
申请日：2011-10-13
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/66 , H01L21/027
Abstract: 본 발명은 마스크 패턴 검사용 3차원 영상 획득 시스템 및 그 방법에 관한 것으로, 제1 및 제2 극자외선을 방사하는 제1 및 제2 광원부와, 상기 제1 및 제2 광원부로부터 방사된 극자외선을 각각 반사하여 집광하는 제1 및 제2 오목거울과, 상기 제1 및 제2 오목거울에 의해 각각 집광된 극자외선을 측정대상 마스크를 향하여 각각 반사하는 제1 및 제2 반사거울과, 상기 측정대상 마스크의 Z축을 기준으로 서로 대향되게 일정한 제1 및 제2 각도로 기울어져 각각 반사된 제1 및 제2 회절 이미지를 획득하는 제1 및 제2 CCD 카메라와, 상기 측정대상 마스크를 안착시키는 스테이지와, 상기 스테이지의 일측에 구비되며, 상기 측정대상 마스크의 전체 이미지를 스캔할 수 있도록 상기 스테이지를 X축 및 Y축 방향으로 이동시키기 위한 이동수단과, 상기 제1 및 제2 CCD 카메라로부터 각각 획득된 제1 및 제2 회절 이미지를 역 고속 퓨리에 변환(IFFT) 및 정합을 수행하여 상기 측정대상 마스크의 패턴 이미지를 복원함과 아울러 상기 이동수단의 동작을 제어하기 위한 구동제어신호를 출력하는 제어장치를 포함함으로써, 극자외선(EUV) 광원으로 만들어진 차세대 반도체 공정에서 사용되는 3차원 구조의 마스크 패턴에 존재하는 미세 결함(Defect) 등을 효과적으로 검사할 수 있다.
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公开(公告)号：KR101262269B1
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：KR1020110079483
申请日：2011-08-10
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 본발명은마스크패턴검사용 3차원영상획득시스템및 그방법에관한것으로, 극자외선(Extreme Ultra-Violet, EUV)을방사하는광원부와, 상기광원부로부터방사된극자외선을반사하여집광하는오목거울과, 상기오목거울에의해집광된극자외선을측정대상마스크를향하여반사하는반사거울과, 상기측정대상마스크를안착시키는스테이지와, 상기스테이지의일측에구비되며, 상기측정대상마스크의전체이미지를스캔할수 있도록상기스테이지를 X축, Y축및 Z축방향으로이동시키기위한이동수단과, 상기측정대상마스크의 3차원높이정보를획득할수 있도록상기스테이지의 X축및 Y축중 적어도하나의축을기준으로일정각도좌/우측방향으로틸팅(tilting)시키기위한틸팅수단과, 상기측정대상마스크로부터반사된회절이미지를획득하는 CCD(Charged Coupled Device) 카메라와, 상기 CCD 카메라로부터획득된회절이미지를역 고속퓨리에변환(Inverse Fast Fourier Transform, IFFT)을수행하여상기측정대상마스크의패턴이미지를복원함과아울러상기이동수단및 상기틸팅수단의동작을제어하기위한구동제어신호를출력하는제어장치를포함함으로써, 극자외선(EUV) 광원으로만들어진차세대반도체공정에서사용되는 3차원구조의마스크패턴에존재하는미세결함(Defect) 등을효과적으로검사할수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130039903A
公开(公告)日：2013-04-23
申请号：KR1020110104561
申请日：2011-10-13
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/66 , H01L21/027
CPC classification number: H01L22/12 , G03F7/70608 , G03F7/70616 , H01L21/0274 , H01L22/30
Abstract: PURPOSE: A 3-dimensional image acquisition system for mask pattern inspection and a method thereof are provided to effectively detect micro defects generated in a 3D mask pattern due to an extreme ultraviolet light source. CONSTITUTION: A first and a second optical source part(100a,100b) radiate first and second extreme ultraviolet. A first and a second concave mirror(200a,200b) condense the extreme ultraviolet radiated from the first and the second optical source part. A first and a second back mirror(300a,300b) reflect the condensed extreme ultraviolet to a measurement target mask. A first and a second CCD camera(600a,600b) records the diffraction beam information of the measurement target mask(10). The measurement target mask is mounted on a stage(400). A transfer unit(500) moves the stage in the X-axis and the Y-axis direction. [Reference numerals] (700) Control device;
Abstract translation: 目的：提供一种用于掩模图案检查的三维图像采集系统及其方法，以有效地检测由于极紫外光源而导致的3D掩模图案中产生的微缺陷。 构成：第一和第二光源部分（100a，100b）辐射第一和第二极紫外线。 第一和第二凹面镜（200a，200b）冷凝从第一和第二光学源部分辐射的极紫外线。 第一和第二后视镜（300a，300b）将浓缩的极紫外光反射到测量目标掩模。 第一和第二CCD照相机（600a，600b）记录测量目标掩模（10）的衍射光束信息。 测量目标掩模安装在平台（400）上。 传送单元（500）在X轴和Y轴方向上移动台。 （附图标记）（700）控制装置;
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公开(公告)号：KR1020120125895A
公开(公告)日：2012-11-19
申请号：KR1020110043627
申请日：2011-05-09
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G01N27/414 , G01N27/416
Abstract: PURPOSE: An automatic measuring system of a multi-sensor is provided to automatically process a probe pin inspection, an individual sensor inspection and electrical property measurement of a multi-sensor. CONSTITUTION: An automatic measuring system(100) of a multi-sensor comprises a voltage supply unit(110), a current and resistance measurement unit(120), a relay unit(130), a multiplexer unit(140), and a controller(150). The voltage supply unit supplies voltage for detection through a probe(52). The current and resistance measurement unit measures the current or resistance of individual sensors or individual probes. The relay unit switches on/off terminals of the individual sensors and individual probes when supplying voltage to a multi-sensor or receiving measurement signals from the multi-sensor. The multiplexer unit selects one among a plurality of the sensors in order to measure the current of the individual sensor while in the state that a voltage supply to the individual sensors is not cut off. The controller receives an input of a user, thereby controlling the voltage supply unit, the current and resistance measurement unit, the relay unit, and the multiplexer unit, or a controlling device of a probe station. [Reference numerals] (110) Voltage supply unit; (120) Current and resistance measuring unit; (130) Relay unit; (140) Multi-flexible unit; (150) Controller; (160) Semiconductor variable analyzer; (83) Probe chuck fixing arm controlling device; (85) Sensor transferring arm controlling device; (87) Cleaning pad transferring arm controlling device; (AA) PCB circuit
Abstract translation: 目的：提供多传感器的自动测量系统，以自动处理多针传感器的探针检测，单个传感器检测和电气性能测量。 构成：多传感器的自动测量系统（100）包括电压供应单元（110），电流和电阻测量单元（120），中继单元（130），多路复用器单元（140）和控制器 （150）。 电压供应单元通过探头（52）提供用于检测的电压。 电流和电阻测量单元测量各个传感器或单个探头的电流或电阻。 当向多传感器提供电压或从多传感器接收测量信号时，继电器单元接通各个传感器和各个探头的接通/断开端子。 多路复用器单元选择多个传感器中的一个，以便在对各个传感器的电压供应不被切断的状态下测量各个传感器的电流。 控制器接收用户的输入，从而控制电压供应单元，电流和电阻测量单元，中继单元和多路复用器单元或探测台的控制设备。 （附图标记）（110）供电单元; （120）电流和电阻测量单元; （130）继电器单元; （140）多功能单元; （150）控制器; （160）半导体可变分析仪; （83）探头卡盘固定臂控制装置; （85）传感器臂控制装置; （87）清洁垫传送臂控制装置; （AA）PCB电路
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公开(公告)号：KR1020120122769A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：KR1020110041120
申请日：2011-04-29
Applicant: 동국대학교 산학협력단 , 서울대학교산학협력단 , 한국과학기술연구원
Abstract: PURPOSE: A medical laser system and a treatment method using the same are provided to perform treatment and diagnosis using nano-materials and infrared laser. CONSTITUTION: A medical laser system comprises a laser irradiation device(10) for irradiating laser to a human body, a heat image acquisition unit(20) for obtaining heat image information showing heat distribution by detecting the heat of the human body, and a control device(40) which controls the laser irradiation device so that the laser irradiation device can irradiates a high intensity laser to a affected part. [Reference numerals] (10) Laser irradiation device; (11) Laser light source; (12) Zoom lens; (13) Shutter; (14) Stop button; (15) Scroll wheel; (20) Heat image acquisition unit; (30) Monitor device; (40) Control device; (41) Beam direction control unit; (42) Zoom lens control unit; (43) Irradiation control unit; (AA) High intensity irradiation(for treatment); (BB) Low intensity irradiation(for diagnosis); (CC) Two-dimensional heat sensing; (DD) Affected part; (EE) Suspicious affected part
Abstract translation: 目的：提供医疗激光系统及其使用方法，以使用纳米材料和红外激光进行治疗和诊断。 构成：医疗用激光系统包括用于向人体照射激光的激光照射装置（10），用于通过检测人体的热量来获得显示热分布的热图像信息的热图像获取单元（20） 控制激光照射装置的装置（40），使得激光照射装置能够对受影响的部位照射高强度激光。 （附图标记）（10）激光照射装置; （11）激光光源; （12）变焦镜头; （13）快门; （14）停止按钮; （15）滚轮; （20）热图像采集单元; （30）监控设备; （40）控制装置; （41）梁方向控制单元; （42）变焦镜头控制单元; （43）照射控制单元; （AA）高强度照射（待处理）; （BB）低强度照射（诊断）; （CC）二维热传感; （DD）受影响部分; （EE）可疑受影响的部分
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公开(公告)号：KR1020120122179A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：KR1020110040199
申请日：2011-04-28
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: G01D11/30 , G01N33/0004
Abstract: PURPOSE: A probe station for a multi-sensor is provided to replace a probe chuck of an assembly form including a probe socket when the replacement of the probe chuck is necessary, thereby easily replace the probe chuck. CONSTITUTION: A probe station for a multi-sensor comprises a lower body(20), an upper body(10), a probe chuck(50), a probe elevating unit(30), and a sensor support plate(60). The upper body is closed and opened by being connected to the lower body with a hinge. The probe chuck is fixed so that a probe(52) is extended downwardly. The probe chuck is joined to the upper body so that the probe is exposed to the lower part of the upper body. The probe elevating unit elevates the probe chuck and is installed in the upper body. A sensor seating groove is formed in the lower part of the probe chuck in the lower body when the upper body is closed with respect to the lower body. The sensor supporting plate forms the bottom surface of the sensor seating groove and is installed to be touch to the probe.
Abstract translation: 目的：当需要更换探头卡盘时，提供用于多传感器的探测台来替换包括探针插座的组件形式的探头卡盘，从而可以方便地更换探头卡盘。 构成：用于多传感器的探测台包括下体（20），上体（10），探头卡盘（50），探头升降单元（30）和传感器支撑板（60）。 通过用铰链连接到下身，上身被封闭并打开。 探针卡盘被固定，使得探针（52）向下延伸。 探头卡盘与上体接合，使得探头暴露于上身的下部。 探头升降单元升高探头卡盘，并安装在上身上。 当上身相对于下身体关闭时，传感器安置槽形成在下体中的探头卡盘的下部。 传感器支撑板形成传感器安置槽的底面，并安装成与探头接触。
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公开(公告)号：KR1020110135138A
公开(公告)日：2011-12-16
申请号：KR1020100054881
申请日：2010-06-10
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12 , C23C14/14 , C23C14/26
Abstract: PURPOSE: A side emitting type linear evaporation source, a manufacturing method thereof, and a linear evaporator are provided to uniformly evaporate materials on a large-size substrate. CONSTITUTION: A side emitting type linear evaporation source comprises a Pyrolytic Boron Nitride crucible(10). A first heating unit(20), multiple side discharging units, a first protection film, and an insulation unit. The top of the PBN crucible is opened to accept materials. The first heating unit is evaporated on the outer surface of the PBN crucible. Patterns suitable for heating are formed on the first heating unit. The side discharging units are formed by passing through the side surface of the PBN crucible and the first heating unit. The first protection film is formed on the inner surface of the PBN crucible and the surface of the side discharging units. The insulating unit electrically insulates the first heating unit from the first protection film.
Abstract translation: 目的：提供侧面发射型线性蒸发源，其制造方法和线性蒸发器以均匀蒸发大尺寸基板上的材料。 构成：侧面发射型线性蒸发源包括热解氮化硼坩埚（10）。 第一加热单元（20），多个侧排出单元，第一保护膜和绝缘单元。 打开PBN坩埚的顶部接受材料。 第一加热单元在PBN坩埚的外表面上蒸发。 适于加热的图案形成在第一加热单元上。 侧排出单元通过穿过PBN坩埚和第一加热单元的侧表面而形成。 第一保护膜形成在PBN坩埚的内表面和侧排出单元的表面上。 绝缘单元将第一加热单元与第一保护膜电绝缘。
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