Abstract:
A method includes (1) a thermal diffusion process for using an alkali metal salt raw material having an average particle size of 1 mm or less in diameter, supplying a vapor of the alkali metal salt produced by heating the alkali metal salt raw material together with a carrier gas to the inside of a silica-based glass pipe from one end side of the glass pipe, and heating the glass pipe using a heat source which relatively moves in a longitudinal direction of the glass pipe to cause an oxidation reaction of an alkali metal and thermally diffuse the alkali metal into an inner side of the glass pipe, (2) a collapsing process for collapsing the glass pipe after the thermal diffusion process to prepare a core rod; and (3) a cladding portion addition process for adding a cladding portion around the core rod prepared in the collapsing process.
Abstract:
A method for manufacturing a photomask material includes delivering a powder containing silicon dioxide into a plasma to produce silica particles and depositing the silica particles on a deposition surface to form glass.
Abstract:
On réalise une préforme pour fibre optique à partir d'un tube (2) qui comporte une couche substrat (16) constituée de silice dopée au fluor et une couche de maintien (18) constituée de silice non dopée. On forme sur la surface interne de ce tube, par dépôt chimique en phase vapeur, une couche de gaine (8) constituée de silice dopée au fluor et une couche de coeur (10) constituée de silice non dopée. La fibre optique est obtenue ultérieurement par rétreint et étirage.
Abstract:
본 발명은 수정화학기상증착(MCVD) 공법에 따라 다중모드 광섬유를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 석영튜브 내부로 SiCl 4 와 GeCl 4 를 포함하는 원료가스를 산소와 함께 투입함과 아울러 석영튜브의 외부에 열을 가하여 튜브 내벽으로부터 중심방향으로 증착층을 반복형성하는 클래드/코어의 증착공정을 포함하는 다중모드 광섬유 제조방법에 있어서, 상기 증착공정의 진행에 따른 튜브의 내경변화에 대응하여 상기 SiCl 4 의 유량을 선형적 혹은 비선형적으로 점차 감소시키는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 기가비트급 이더넷용으로 사용하기 적합하도록 DMD 특성이 향상되는 다중모드 광섬유를 제조할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 광통신에 사용하는 광수동 소자의 광도파로 형성에 관한 것으로, 기판위에 형성된 광도파로에 외부의 불순물 침투를 막아주고, 특히 외부 습기 침투를 차단해 줌으로써, 이들 불순물 특히 습기로 인한 굴절률 변화를 줄여주어 전파손실 및 광손상이 적은 광도파로소자의 구조와 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 실리콘 혹은 석영기판에 하층 크래드를 형성하고, 광통신에서 사용되는 파장보다도 얇은 실리콘 질화막을 적층하며, 이 질화막은 식각 조건에서 식각 종점 인식(End point detector)역할과 외부 불순물 차단 역할을 한다. 또한 하층 크래드 위에 코아층이 형성된 후에도 동일한 두께의 실리콘 질화막을 형성 시켜주어 광도파로인 코아층을 질화막으로 완전히 감싸줌으로서, 광도파로층은 외부와 완전히 차단되어 어떠한 조건에서도 굴절률이 변화되지 않아 전파손실 및 광손상이 초기와 동일한 신뢰성을 확보하게 된다. 그리고 광도파로가 분기되는 곳에서 공극(Void)이 형성되는 것을 막아주기 위하여 흐름성이 좋은 붕소(B)가 함유된 실리카 그라스(Boro Silica Glass : BSG)를 광도파로가 형성된 후에 적층시켜주면, 공극(Void)이 없어져서, 공극내에 존재하는 수분이나 외부 불순물을 원천 봉쇄할 수가 있다. 이와 같이 외부로부터 광도파로를 완전히 차단하여 도파로내에 광이 가두어진 광도파로를 구성하였으며, 코아와 크래드간의 공극을 없애주어 공극내에 존재하는 불순물을 원천봉쇄하도록 공정설계하였다.
Abstract:
A glass preform for optical fibers is produced using two burners, one for forming the preform core, producing a stream of glass raw material consisting of SiCl4 and the other for forming the preform cladding and producing a stream of second raw material consisting of a cpd. or cpds. from the gp. SiHCl3, SiH2Cl2, SiH3C1 and SiH4. The glass raw material is hydrolysed by the flame to synthesise fine glass particles, which are deposited on to a starting member having a longitudinal axis. The shoot preform so produced is then heated and sintered to obtain a transparent glass preform. Shoot particles are deposited and grown in a direction parallel to the axis of the starting member.
Abstract:
외부 기상증착 기술을 이용하여 기판을 제조하고, 수트 블랭크를 형성하기 위해 방사상 프레싱 기술을 이용하여 상기 기판에 하나 또는 그 이상의 층들을 제공하고, 가스 굴절률-변경 도펀트가 존재하는 수트 블랭크를 소결하며, 소결된 수트 블랭크를 드로잉함으로써 광섬유를 제조하는 방법은 복합 굴절률 프로파일을 생성하는데 보다 효율적이면서 비용상 효율적인 공정을 제공한다.
Abstract:
What is disclosed includes OD-doped synthetic silica glass capable of being used in optical elements for use in lithography below about 300 nm. OD-doped synthetic silica glass was found to have significantly lower polarization-induced birefringence value than non-OD-doped silica glass with comparable concentration of OH. Also disclosed are processes for making OD-dopes synthetic silica glasses, optical member comprising such glasses, and lithographic systems comprising such optical member. The glass is particularly suitable for immersion lithographic systems due to the exceptionally low polarization-induced birefringence values at about 193 nm.