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    Electron beam generator
    142.
    发明专利
    Electron beam generator 有权

    公开(公告)号：JP2012506122A

    公开(公告)日：2012-03-08

    申请号：JP2011532032

    申请日：2010-08-10

    Applicant: ポステック アカデミー−インダストリー ファウンデーションPostech Academy−Industry Foundation

    Inventor： キム，チャンボム ,  コ，インス ,  パク，ソンチュ ,  パク，ヨンウォン ,  ホン，ジュホ ,  ムン，ソンイク

    IPC: H01J37/073

    CPC classification number: H01J3/02

    Abstract: 【課題】電子ビームのエミッタンスを減少させることができる電子ビーム発生装置を提供する。
    【解決手段】本発明による電子ビーム発生装置は、電子ビームが生成される後面部と、生成された電子ビームが外部に排出されるように電子ビーム排出ホールが形成された前面部と、後面部と前面部を連結する側面部と、を含み、側面部には第１のホールが形成され、第１のホールにより誘発される電場不均衡を減少させるように第１のホールと向かい合う反対側側面部に第２のホールが形成されたハウジング、及び第１のホールを介してハウジング内部に電磁気波を供給するように側面部に設置されるウェーブガードを含み、ハウジング内部に入射されたレーザーによって電子ビームが生成され、ハウジング内部に供給された電磁気波によって電子ビームが加速される。
    【選択図】図１５

    Generation of ozone and plasma using the electron beam technology
    147.
    发明专利
    Generation of ozone and plasma using the electron beam technology 有权

    公开(公告)号：JP2014509039A

    公开(公告)日：2014-04-10

    申请号：JP2013544830

    申请日：2011-12-16

    Applicant: 日立造船株式会社

    Inventor： バフタリ、カヴェ

    IPC: H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/50 ,  H05H1/46

    CPC classification number: B01J19/085 ,  C01B13/10 ,  H01J3/02 ,  H01J33/00 ,  H01J37/3233 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32816

    Abstract: 本発明は、特に、反応チャンバーから分離された電子発生チャンバー内において電界を発生させるオゾン生成装置またはプラズマ生成装置を提供するためのシステムおよび方法を提示する。 電子発生チャンバー内の電子ビームエミッタは、電子ビームを放射するように構成されており、電子ビームが通過する窓を有する電子透過性の隔壁により反応チャンバーから分離されている。 電子は、電子発生チャンバーにおいて所望のエネルギーまで加速され、隔壁を通過して、入力ガス源により入力ガスが導入される反応チャンバーへ送られる。 入力ガスが反応チャンバー内において電子ビームと反応して、プラズマまたは濃縮されたオゾンを含む出力ガスが生成される。 出力ガスは、反応チャンバーからウエハー処理チャンバーへ送られる。
    【選択図】図１

    Charged particle beam radiation device
    149.
    发明专利
    Charged particle beam radiation device 有权
    充电颗粒光束辐射装置

    公开(公告)号：JP2012033298A

    公开(公告)日：2012-02-16

    申请号：JP2010169967

    申请日：2010-07-29

    Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： WATANABE SHUNICHI ,  ONISHI TAKASHI ,  KANEDA MINORU ,  MURAKOSHI HISAYA

    IPC: H01J37/065

    CPC classification number: H01J29/484 ,  H01J3/02 ,  H01J3/027 ,  H01J3/40 ,  H01J29/488 ,  H01J37/026 ,  H01J37/073 ,  H01J37/248 ,  H01J2237/038 ,  H01J2237/06341 ,  H01J2237/0802

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam radiation device which can maintain a constant electric potential distribution in a vertical direction of an inner surface regardless of a circumferential direction, even when a surface dopant concentration is uneven making a surface electrical resistance of a conductive insulator also uneven in an accelerating tube using the conductive insulator.SOLUTION: Circumferential grooves are provided in several rows inside a conductive insulator accelerating tube, and metal is metallized along inside the groove. Since an electric potential of the metallization region inside the accelerating tube is kept constant, even if a resistance in a particular part of the accelerating tube surface is different from that of the surroundings, the electric potential distribution in a vertical direction inside the accelerating tube can be kept at substantially the same level regardless of the circumferential direction. Consequently, a cross-direction force is not applied to an electric beam passing on a central axis thereby a potential gradient can be kept substantially constant making an aberration smaller.

    Abstract translation: 要解决的问题：为了提供一种带电粒子束辐射装置，即使当表面掺杂剂浓度不均匀而使得表面电气不均匀时，其可以在内表面的垂直方向上保持恒定的电位分布 使用导电绝缘体的加速管中导电绝缘体的电阻也不均匀。

    解决方案：在导电绝缘体加速管内设置有多列圆周槽，金属沿槽内部金属化。 由于加速管内的金属化区域的电位保持恒定，即使加速管表面的特定部分的电阻与周围环境不同，加速管内的垂直方向的电位分布也可以 无论圆周方向如何，均可保持基本相同的水平。 因此，横向力不会施加到通过中心轴的电子束，从而使电位梯度保持基本恒定，使得像差更小。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

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