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公开(公告)号：KR1020110110180A
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：KR1020117016249
申请日：2010-01-13
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C23F11/167 , C23C22/74 , H05K3/28 , C25D5/48
CPC classification number: C23C22/58 , C23C22/06 , C23C22/74 , C23F11/1676 , C25D5/48 , H01L21/4835 , H05K3/282 , H05K2203/122 , Y10T428/31678
Abstract: 인 화합물 및 임의로 납땜성-향상 화합물을 포함하는 신규 용액 및 금속 또는 금속 합금 표면의 납땜성 및 내식성을 증가시키기 위한 방법에서의 이의 용도가 기술되어 있다.
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公开(公告)号：KR1020110082545A
公开(公告)日：2011-07-19
申请号：KR1020117010255
申请日：2009-10-26
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: G01N27/416 , G01N17/02 , G01N27/42
Abstract: 금속 코팅 뿐만 아니라 금속 증착용 전해질, 특히 반광택 니켈 및 광택 니켈과 같은 니켈의 전해 증착용 전해질의 품질을 빠르고 확실하게 판정하기 위해서, 금속 코팅을 검사하는 방법이 제공되는데, 이 방법은 하기의 방법 단계를 포함한다:
a) 금속 코팅을 증착 전해질로부터 작업 전극 상에 증착하는 단계;
b) 작업 전극에 전해 접촉되는 대향 전극에 관해서 작업 전극의 양극 분극화를 통해 금속 코팅을 전해 용해하는 단계;
c) 금속 코팅의 용해 중 작업 전극에서 발생하는 전기 용해 전위를 시간에 걸쳐 기록하는 단계; 및
d) 상기 용해 전위의 시간 평균 값을 판정하는 단계. 증착 전해질의 분석 제어를 위해, 하기의 방법 단계를 포함하는 방법이 제공된다:
a) 금속 코팅을 증착 전해질로부터 작업 전극 상에 증착하는 단계;
b) 작업 전극에 전해 접촉되는 대향 전극에 관해서 작업 전극의 양극 분극화를 통해 금속 코팅을 전해 용해하는 단계;
c) 상기 금속 코팅의 용해중 작업 전극에서 발생하는 전기 용해 전위를 시간에 걸쳐 기록하는 단계;
d) 상기 용해 전위의 시간 평균값을 판정하는 단계;
e) 상기 용해 전위의 시간 평균 값과 기준 값 사이의 차이를 판정하는 단계; 및,
f) 상기 차이를, 상기 용해 전위를 판정하는 증착 전해질 성분의 농도와 기준 농도 사이의 차이에 할당하는 단계.-
公开(公告)号：KR100987400B1
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：KR1020057007798
申请日：2003-11-28
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B1/205 , B08B3/02 , H05K3/0085 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509
Abstract: 노즐 어레인지먼트는 인쇄회로기판의 수평 작업처리량(horizontal throughput)을 가진 아연도금 시스템(galvanisation system)을 위한 플로우 노즐로 적합한 것으로 기술된다. 상기 노즐은 인쇄회로기판과 같은 워크피스를 처리하기 위한 처리 유체를 공급하기 위한 적어도 하나의 유체 공급 오프닝을 가진 수직 하우징(2) 및 상기 처리 유체를 방출하기 위하여 바람직하게는 다수의 홈이 파인 유체 전달 오프닝을 포함한다. 하우징(2)에서 유체 채널(5)은 유체 공급 오프닝에서 유체 전달 오프닝으로 처리유체를 공급하기 위하여 형성된다. 유체 전달 오프닝(8)에서 처리 유체의 가능한 한 가장 균일한 속도를 달성하기 위하여, (a) 처리유체를 위한 유체 채널(5)의 작업처리량은 유체 공급 오프닝에서 하우징의 수직 방향으로 갈수록 연속적으로 감소되고, 또는, (b) 상기 유체 전달 오프닝(8)에서 유체가 전달되기 전에 저장챔버가 제공된다.
노즐 어레인지먼트, 처리 유체, 수송, 유체 공급 오프닝, 유체 전달 오프닝, 유체 채널-
公开(公告)号：KR100956536B1
公开(公告)日：2010-05-07
申请号：KR1020047002449
申请日：2002-10-21
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 휘벨에곤
IPC: C25D17/28
Abstract: 컨베이어 장치내에서 피처리물(3.x)의 전해 처리중에 가장자리 효과(전해 처리될 피처리물의 가장자리에서 전기력선의 밀도의 증가)를 방지하기 위해, 피처리물이 다양한 상대 전극(5.x)중 각각의 전극에 직접 대향하여 위치할 때 플랜트내에서 다양한 상대 전극(5.x)으로부터 발생하는 전류는, 피처리물(3.x)의 전해 처리될 표면적에 따라 설정된다. 또한, 피처리물(3.x)와 상대 전극(5.x) 사이의 거리는 최대 50 mm 가 되도록 선택된다. 상대 전극(5.x)의 모든 단일 전류 공급 유닛(15.x)을 개별적으로 제어 및 조정하기 위한 수단(19)이 이러한 목적으로 제공된다. 상기 수단(19)은, 피처리물이 각각의 다양한 상대 전극(5.x)에 직접 대향하여 위치할 때 다양한 상대 전극(5.x)으로부터 발생하는 각각의 전류가 피처리물(3.x)의 전해 처리될 표면적에 따라 설정되도록 형성되어 있다.
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公开(公告)号：KR1020100017633A
公开(公告)日：2010-02-16
申请号：KR1020097025383
申请日：2008-06-03
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: H01L21/67086 , B01F11/0014 , B01F11/0082 , B01F2215/004 , B01F2215/0096 , H01L21/67023 , H01L21/67057 , H05K3/0085 , H05K2203/0292 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
Abstract: To ensure a uniform flow over the surface of a product W, an apparatus is provided for the wet chemical treatment of the product W that is disposed in the apparatus 100. This apparatus comprises at least one flow member 150 that includes respectively at least one paddle-like flow element 155, wherein at least one flow member 155 is disposed situated opposite the surface of the product W and is moveable substantially parallel to the surface of the product W.
Abstract translation: 为了确保在产品W的表面上的均匀流动，提供了用于对设置在设备100中的产品W进行湿化学处理的设备。该设备包括至少一个流动构件150，其分别包括至少一个桨 类流动元件155，其中至少一个流动构件155设置成与产品W的表面相对并且可基本上平行于产品W的表面移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020080023249A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：KR1020087000441
申请日：2006-06-28
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: B23K20/02 , B23K20/00 , B23K20/227 , B23K20/22
CPC classification number: B23K20/023 , F28F2260/00 , F28F2260/02 , F28F2275/04
Abstract: For forming very strong bond joints suited for manufacturing micro-structured components consisting of a plurality of individual layers, a bonding method is proposed by which a bonding arrangement of the work pieces is formed that comprises at least one metallic bonding layer interposed therein between and by which the bonding arrangement is heated to a bonding temperature below the melting temperature of the at least one bonding layer. In accordance with the invention, the at least one bonding layer is deposited using a chemical or electrolytic method. ® KIPO & WIPO 2008
Abstract translation: 为了形成适合于制造由多个单独层组成的微结构部件的非常牢固的接合接头，提出了一种接合方法，通过该接合方法形成工件的接合装置，其包括至少一个介于其间的金属接合层， 将所述接合装置加热到低于所述至少一个结合层的熔融温度的接合温度。 根据本发明，使用化学或电解方法沉积至少一个结合层。 ®KIPO＆WIPO 2008
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公开(公告)号：KR1020080016804A
公开(公告)日：2008-02-22
申请号：KR1020077026692
申请日：2006-05-26
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: G03F7/30
CPC classification number: G03F7/425
Abstract: The invention relates to a 2-step stripping process comprising the following stripping steps: a) treating the substrate with an aqueous solution containing a base, b) thereafter further treating the substrate with a solution containing a base and at least one stripping enhancer selected from the group consisting of hexylene glycol, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monopropyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monopropyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, diethylenglycolmonoisopropyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate.
Abstract translation: 本发明涉及两步汽提方法，其包括以下汽提步骤：a）用含有碱的水溶液处理底物，b）然后用含有碱和至少一种剥离增强剂的溶液进一步处理底物， 由己二醇，乙二醇单乙醚，乙二醇单丁醚，乙二醇单异丙醚，丙二醇单甲醚，丙二醇单乙醚，丙二醇单丁醚，二甘醇单甲醚，二甘醇单乙醚，二甘醇单乙醚，二甘醇单丙基醚 醚，二甘醇单丁醚，二丙二醇单甲醚，二丙二醇单乙醚，二丙二醇单丙醚，二丙二醇单丁醚，三甘醇单甲醚，三甘醇单乙醚，三甘醇单丙醚，三甘醇单丁醚，三丙二醇单体 三乙二醇单乙醚，三丙二醇单丙醚，三丙二醇单丁醚，二乙二醇单异丙醚和丙二醇单甲醚乙酸酯。
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公开(公告)号：KR100732263B1
公开(公告)日：2007-06-25
申请号：KR1020027005988
申请日：2000-11-06
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 데니스,뷜프리트
IPC: C25D17/00
Abstract: 본 발명은 기판 형태의 작업물, 특히 인쇄 회로 기판을 전해처리하기 위한 장치에 관한 것이다. 상기 기판 형태의 작업물(W)은 수직 상태로 처리용 처리조가 포함되어 있는 처리 셀(BZ)을 통과하여 가이드되며, 상기 처리 셀의 단부 벽에는 작업물(W)의 통과를 위하여 수직의 슬롯이 구비된다. 상기 처리 셀(BZ)로부터 나오는 처리조 액체가 수집되고, 펌프 및 적어도 부분적으로는 분무관(SR)을 통해 상기 처리 셀(BZ) 내로 되돌려 보내진다. 상기 분무관(SR)은 수평에 대하여 기울어져 상기 작업물(W)의 양 측면에 배치되고, 컨베이어 경로 방향으로 정렬된다.
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公开(公告)号：KR1020070024734A
公开(公告)日：2007-03-02
申请号：KR1020077001174
申请日：2005-06-15
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D7/0642 , C25D7/0614 , C25D7/0657
Abstract: The invention relates to a device and method for electrolytically treating flat work pieces (1), more specifically for electrolytically treating electrically conductive structures S that are electrically insulated against each other on the surfaces of the work pieces. The method comprises conveying and processing the work pieces (1) on conveying paths T', T" in the device, said device comprising at least one assembly A located between two conveying paths, said assembly including a first and a second rotatable contacting electrode (2, 8) with the contacting electrodes being associated each with one of the conveying paths, and first contacting electrodes (2) abutting against the work pieces being conveyed in a first conveying path T' and being spaced from the second conveying path T" and second contacting electrodes (8) abutting against the work pieces being conveyed in the second conveying path T" and being spaced to the first conveying path T'. The assembly and the work pieces are brought into contact with the treatment liquid. The contacting electrodes comprise first and second segments (9, 10) each that are insulated against each other and that are contacted to a current source (5) in such a manner that electrolysis areas E are formed between the work pieces (1) being conveyed on the first and second conveying paths T', T", respectively, and second segments (9) that are turned towards the first and second conveying paths T', T", respectively, and are not contacting the work pieces (1). ® KIPO & WIPO 2007
Abstract translation: 本发明涉及一种用于电解处理扁平工件（1）的装置和方法，更具体地说是用于电解处理在工件表面上彼此电绝缘的导电结构S. 该方法包括在装置中的输送路径T'，T“上输送和处理工件（1），所述装置包括位于两个输送路径之间的至少一个组件A.所述组件包括第一和第二可旋转接触电极 接触电极各自具有一个传送路径，并且抵靠工件的第一接触电极（2）在第一传送路径T'中被传送并且与第二传送路径T“间隔开，并且 第二接触电极（8）抵靠在第二输送路径T“中被输送的工件，并与第一输送路径T'间隔开，组件和工件与处理液体接触，接触电极包括 第一和第二段（9,10）各自彼此绝缘并且以这样的方式与电流源（5）接触，使得电解区域E形成在 工件（1）分别在第一和第二输送路径T'，T“上被传送，第二段（9）分别转向第一和第二输送路径T'，T”，并且不接触 工件（1）。 ®KIPO＆WIPO 2007
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公开(公告)号：KR1020060058116A
公开(公告)日：2006-05-29
申请号：KR1020067003313
申请日：2004-08-19
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C25D17/005 , C25D7/0621
Abstract: In order to permit continuous electrolytic treatment of small electrically conductive structures that are electrically insulated against each other on electrically insulating foil material, a device for electrolytically treating electrically conductive structures on surfaces of work pieces (1) that are electrically insulated against each other is provided, said device comprising: a) at least one arrangement, comprising at least one electrode (6) for contacting the work pieces (1) and at least one electrolysis region in a respective one of which at least one counter electrode (4) and the work pieces (1) are in contact with the processing liquid, b) the at least one contacting electrode (4) being disposed outside of the at least one electrolysis region and not being in contact with the processing liquid and c) the at least one contacting electrode (6) and that at least one electrolysis region being spaced so close together that small electrically conductive structures can electrolytically be treated.
Abstract translation: 为了允许在电绝缘箔材料上彼此电绝缘的小型导电结构的连续电解处理，提供了在彼此电绝缘的工件（1）的表面上电解处理导电结构的装置 所述装置包括：a）至少一个布置，包括用于接触工件（1）的至少一个电极（6）和至少一个电极区域，其中至少一个电解区域具有至少一个对电极（4）和 工件（1）与处理液体接触，b）至少一个接触电极（4）设置在至少一个电解区域的外部并且不与处理液体接触，并且c）至少一个 接触电极（6），并且至少一个电解区域间隔得如此靠近，使得小的导电结构可以电解 待处理
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