基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统

    公开(公告)号:CN112640055B

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN201980054884.X

    申请日:2019-07-03

    Abstract: 相机(70)通过连续拍摄在处理区间(PS1)内移动的喷嘴(30)来获取摄影图像。基准图像登记部(90)对通过拍摄位于处理区间(PS1)的第一端(TE1)及第二端(TE2)的喷嘴(30)而获得的第一基准图像及第二基准图像(RP1、RP2)进行登记。位置偏离检测部(91)具有:图像判定部(910),对于利用相机拍摄在处理区间(PS1)内移动的喷嘴(30)而获得的实际图像(GP),根据既定的判定规则,判定是否为与所述第一端及所述第二端分别对应的图像;以及图像比较部(912),将第一基准图像及第二基准图像(RP1、RP2)与由图像判定部(910)判定为与第一端及第二端分别对应的实际图像(GP)进行比较。

    判定方法及基板处理装置
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109872955B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN201811470249.3

    申请日:2018-11-27

    Abstract: 本发明提供一种能够定量地判定干燥区域的状态是否正常的判定方法及基板处理装置。在执行干燥处理的装置中,判定干燥处理是否合格,所述干燥处理是在水平地保持着的基板(W)的上表面形成液膜,使被去除液膜的干燥区域逐渐扩大的处理。具体来说,首先,在干燥处理的执行过程中,利用摄像部(70)反复拍摄基板(W)的上表面。接着,基于通过拍摄而获取到的多个拍摄图像,判定干燥区域的状态是否正常。由此,能够基于多个拍摄图像,定量地判定干燥区域的状态是否正常。

    基板处理方法及基板处理装置
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115668451A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202180038150.X

    申请日:2021-05-12

    Abstract: 本发明提供可根据更适当的图像数据来进行对多个监视对象分别进行监视处理的技术。本发明的基板处理方法具备:保持步骤,将基板搬入腔室的内部并将基板加以保持;供给步骤,在腔室的内部对基板供给流体;拍摄步骤(S12),由照相机对腔室的内部按序地进行拍摄来获取图像数据;条件设定步骤(S11),从腔室内的多个监视对象候补中确定监视对象,并根据监视对象来变更图像条件;及监视步骤(S13),根据具有与监视对象对应的图像条件的图像数据,进行对监视对象的监视处理。

    衬底处理装置及衬底处理方法

    公开(公告)号:CN109560012A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201811084085.0

    申请日:2018-09-17

    Abstract: 本发明提供能够掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点的衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备:衬底旋转部,所述衬底旋转部将衬底保持为水平并使其旋转;喷嘴,所述喷嘴向通过衬底旋转部进行旋转的衬底的被处理面供给处理液;拍摄部,所述拍摄部对包含多个对象区域的拍摄区域进行拍摄,所述对象区域是在向衬底供给了处理液时形成了液膜的区域;和检测部,所述检测部参照拍摄部的拍摄结果,基于多个对象区域的各自的亮度值的变化,来检测多个对象区域的各自的处理结束时间点。另外,拍摄区域至少包含被处理面的中央侧的区域和外周侧的区域作为多个对象区域。因此,能掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点。

    基板处理方法及基板处理装置

    公开(公告)号:CN111009477B

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN201910936715.0

    申请日:2019-09-29

    Abstract: 本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括:保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、摄像工序以及监视工序。在上升工序中,使包围基板保持部的外周的杯状构件上升,并使杯状构件的上端位于较保持于基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面处理工序中,自位于较上端位置而言更低的位置的喷嘴的喷出口向保持于基板保持部的基板的上表面的端部喷出处理液。在摄像工序中,使照相机对作为包含自喷嘴的喷出口喷出的处理液的摄像区域且自基板的上方的摄像位置看到的摄像区域进行拍摄,来取得摄像图像。在监视工序中,基于摄像图像判定处理液的喷出状态。

    基板处理方法以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN112640056B

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN201980055836.2

    申请日:2019-07-24

    Abstract: 目的在于提供一种技术,在作为液体处理的第一处理后,适当地决定开始后续的第二处理的时机。为了实现上述目的,在停止供给第一处理液后,通过照相机拍摄基板的上表面。在通过照相机取得的拍摄图像的判断区域内检测亮度(光强度)的径向上的极值点,由此检测干涉纹。在检测到检测对象的干涉纹的情形中,时机决定部决定开始第二处理的时机。

    基板处理方法及基板处理装置
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115668461A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202180040992.9

    申请日:2021-05-28

    Abstract: 在第一吐出工序中,对设于供给管的阀输出开信号,从喷嘴(30)的前端向基板(W)的主面吐出处理液。在移动工序中,在对阀输出闭信号的时间点以后,使喷嘴(30)移动。在拍摄工序中,至少在对阀输出闭信号的时间点以后使摄像机依次拍摄,取得多个图像数据。在设定工序中,检测多个图像数据的每一个中的喷嘴(30)的位置,追踪喷嘴(30)的位置变化,在比喷嘴(30)的前端靠下侧设定判定区域(R11)。在漏液监视步骤中,基于多个图像数据的每一个中的判定区域(R11)内的像素,监视从喷嘴(30)的前端落下的处理液的有无。

Patent Agency Ranking