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公开(公告)号：WO2021172746A1
公开(公告)日：2021-09-02
申请号：PCT/KR2021/000444
申请日：2021-01-13
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/52 , F16K51/02 , F16K31/12
Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 리텐션 밸브를 이용한 원자층 증착 공정의 흐름 정체 시스템은 기판과 반응유체를 수용하기 위한 내부공간을 가지는 증착 챔버; 상기 증착 챔버의 내부공간으로 반응유체를 공급하는 유체 공급기; 상기 증착 챔버를 진공 상태로 유지하기 위한 진공 펌프; 상기 증착 챔버에서 상기 진공 펌프로 반응유체가 이동하도록 유로를 제공하는 가스 라인; 상기 가스 라인과 연통되고, 상기 증착 챔버에 수용된 반응유체의 머무름 시간을 조절하는 리텐션 밸브; 및 상기 리텐션 밸브의 작동을 제어하는 컨트롤러를 포함한다.
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公开(公告)号：WO2020262864A1
公开(公告)日：2020-12-30
申请号：PCT/KR2020/007687
申请日：2020-06-15
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Abstract: 본 발명은 이종 촉매 구조체에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 이종 촉매 구조체는, 광촉매 활성을 가지는 나노 와이어 구조체와; 상기 나노 와이어 구조체에 도포되고, 금속 재질로 제공되는 촉매를 포함하되, 상기 금속 재질은 상기 나노 와이어 구조체를 이루는 물질과 상호작용하여 촉매활성을 증진시키는 금속으로 제공된다.
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公开(公告)号：WO2020171467A1
公开(公告)日：2020-08-27
申请号：PCT/KR2020/001956
申请日：2020-02-12
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/455 , C23C16/448
Abstract: 본 발명의 전구체 소스 공급을 위한 금속블록 결합형 히터 어셈블리를 포함하는 증착 장치는 기판을 지지하고 증착공정에 필요한 공간을 제공하는 반응챔버; 전구체 소스를 저장하는 전구체 저장부; 상기 반응챔버에 기화된 전구체 소스를 공급하는 가스 라인부; 및 상기 전구체 저장부 및 상기 가스 라인부를 내측에 수용하여 결합되는 금속블록 및 상기 금속블록을 가열하는 히팅 재킷이 구비되는 히터 어셈블리부를 포함한다.
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公开(公告)号：KR101990683B1
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：KR1020170089441
申请日：2017-07-14
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101816450B1
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：KR1020160138174
申请日：2016-10-24
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/4486 , C23C16/4412 , C23C16/4481 , C23C16/45502 , C23C16/52
Abstract: 에어로졸화학기상증착방법에따르면, 증착챔버내에에어로졸상태의전구체및 캐리어가스를포함하는소스가스를공급한다. 상기소스가스에대하여열기체를이용하여사이클론기류를형성하여상기증착챔버내의분말들을분산시킨다. 이후, 상기분말및 상기전구체를상호화학결합시켜, 기재의표면상에코어셀분말을형성한다.
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公开(公告)号：KR1020160131294A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：KR1020150063312
申请日：2015-05-06
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C09D11/30 , C09D11/322 , C09D11/326
Abstract: 세라믹잉크조성물은함량이조절된분산제및 계면활성제를포함하는첨가제를포함한다. 일실시예에따른수계세라믹잉크조성물구성에있어물 89-93 중량%, 세라믹파우더 4-6 중량%, 폴리머첨가제 1-6 중량% 으로이루어진것을특징으로할 수있다.
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公开(公告)号：KR1020160056017A
公开(公告)日：2016-05-19
申请号：KR1020140155851
申请日：2014-11-11
Applicant: 고려대학교 산학협력단
CPC classification number: A61L2/238 , A61L2/088 , A61L2/232 , A61L2202/16 , A61L2300/102 , Y10S977/903
Abstract: 항균구조물은대상체및 대상체상에형성되며, 광촉매반응에의하여활성산소종(reactive oxygen species)을생성하여항균기능을수행하는실버프리(silver-free) 나노박막을포함한다. 이로써항균구조물은우수한항균효과를가질수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种抗菌结构，其特征在于，包括：物体; 以及形成在物体上的无银纳米薄膜，通过光催化反应产生活性氧，进行抗菌功能。 因此，抗菌结构具有优异的抗菌作用。
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公开(公告)号：KR101550500B1
公开(公告)日：2015-09-04
申请号：KR1020130132098
申请日：2013-11-01
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/44
Abstract: 본발명은대용량의파우더를효율적으로이송하여원자층을증착할수 있는파우더이송형원자층증착장치에관한것이다. 본발명의일실시예에의한파우더이송형원자층증착장치는서로격리되어있는복수의전구체챔버; 상기복수의전구체챔버내에모두관통되고, 다공성물질로이루어진이송부; 및주입된파우더를상기이송부를따라이송하게하기위한펌프를포함할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020140105157A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：KR1020130019035
申请日：2013-02-22
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Inventor： 심준형
IPC: C23C16/448 , C23C16/44
Abstract: Disclosed are a method and a device for selectively depositing an atomic layer. The present invention provides the method for selectively depositing the atomic layer including a step for forming patterns of conductive materials on a substrate; a step for generating resistive heat by applying currents to the patterns; and a step of depositing a thin film on the patterns or on a region except for the patterns by injecting source gas of a precursor and a reaction body. The region where the thin film is deposited is determined by the temperature of the patterns affected by the resistive heat.
Abstract translation: 公开了用于选择性地沉积原子层的方法和装置。 本发明提供了选择性沉积原子层的方法，包括在衬底上形成导电材料图案的步骤; 通过向图案施加电流来产生电阻热的步骤; 以及通过注入前体和反应体的源气体，在图案上或除图案之外的区域上沉积薄膜的步骤。 薄膜沉积的区域由受电阻热影响的图案的温度决定。
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