公开(公告)号：KR1020100002077A

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：KR1020090018761

申请日：2009-03-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카야나기고지 ,  요시하라고스케

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/70933 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to form a process layer with high uniformity by suppressing a swell phenomenon of the process layer on an edge of a substrate to be processed. CONSTITUTION: A resist liquid is provided to the surface of a wafer rotating by a spin chuck(16) through a spray nozzle(17). An outer cup(62) includes an outer wall surrounding the outer side of the wafer maintained by the spin chuck. An inner cup(63) is positioned under the outer side of the wafer. A middle cup(64) is fixed in an inner circumference of the outer side of the outer cup. The middle cup includes a plurality of vent holes(66). An opening and closing unit(67) opens or closes the vent hole of the middle cup. A lift cylinder(68) moves the opening and closing unit. The opening and closing unit blocks the air current by closing the vent hole. The opening and closing unit allows the air current passing through the vent hole when forming a resist film.

Abstract translation: 目的：通过抑制待处理基板的边缘上的处理层的溶胀现象，提供基板处理装置以形成具有高均匀性的处理层。 构成：通过旋转卡盘（16）通过喷嘴（17）旋转的晶片的表面上提供抗蚀剂液体。 外杯（62）包括围绕由旋转卡盘保持的晶片外侧的外壁。 内杯（63）位于晶片外侧。 中杯（64）固定在外杯的外侧的内周。 中间杯包括多个通气孔（66）。 打开和关闭单元（67）打开或关闭中杯的通气孔。 提升缸（68）使打开和关闭单元移动。 打开和关闭单元通过关闭通气孔阻止气流。 当形成抗蚀剂膜时，打开和关闭单元允许气流通过通气孔。

公开(公告)号：KR101872056B1

公开(公告)日：2018-06-27

申请号：KR1020140130245

申请日：2014-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 데라시타유이치 ,  요시하라고우스케 ,  다카야나기고지 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017

Abstract: 처리액을쓸데없이소비하지않고서, 처리액중의파티클의증가를효율적으로억제하는것을목적으로한다. 피처리체를처리하기위한처리액을공급하는처리액공급원과, 상기처리액공급원에공급로를통해접속되며, 상기처리액을피처리체에토출하는토출부와, 상기공급로에설치되며, 처리액중의이물을제거하기위한필터장치와, 상기공급로에있어서의필터장치의일차측및 이차측에각각설치된공급펌프및 토출펌프와, 상기처리액공급원으로부터공급된처리액을, 상기공급펌프및 토출펌프중 적어도한쪽을이용해서감압하여탈기하고, 계속해서탈기된처리액을상기공급펌프및 토출펌프를이용하여상기필터장치의일차측으로부터이 필터장치를통해이차측으로통과시키도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다.

公开(公告)号：KR1020160064107A

公开(公告)日：2016-06-07

申请号：KR1020167007887

申请日：2014-09-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시다유이치 ,  나이토오료오이치로오 ,  다우엔도루파아루노알라인쟝 ,  다카야나기고지 ,  미야자키시노부

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: B01D37/02 ,  B01D35/18 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6715

Abstract: 일실시형태에있어서, 처리액공급장치에신품인필터유닛(3)을설치한후에, 용제를포함하는처리액을흐르게하기전에, 필터유닛을전처리용의용제에의해침지하고, 그후 당해용제를액체배출하는공정을행한다. 이용제에대한필터유닛중의필터부(31)의구성재료의용해도는, 당해구성재료의처리액에대한용해도보다도높다. 이공정에의해, 필터부로부터처리액중에용출되어이물(파티클)로될 수있는성분을, 처리액을필터유닛에흐르게하기전에, 필터유닛으로부터제거할수 있다.

公开(公告)号：KR1020150058004A

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：KR1020140157872

申请日：2014-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카야나기고지 ,  데라시타유이치 ,  후지모토아키히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273

Abstract: 본발명의과제는, 기판의외주부에원하는형상의도포막을형성하는것이다. 패턴의샷(S)이형성된웨이퍼(W)의외주연부에도포막을형성하는도포처리방법이며, 도포액을공급하는도포노즐이설치된노즐헤드(33)를, 웨이퍼(W)의최외주부의패턴의샷(Sn)의외측을따라주사시키면서, 도포노즐로부터웨이퍼(W)에대해도포액을공급한다. 도포노즐에는, 잉크젯노즐이나캐필러리노즐이사용된다.

Abstract translation: 本发明的目的是在衬底的外边界部分上形成所需形状的涂层。 根据本发明的涂布处理方法在其上形成有图案的（S）的晶片（W）的外周部分上形成涂层，并且将涂布液从涂层（W）供给到晶片 喷嘴，同时其上安装有涂料喷嘴以供应涂布液体的喷嘴头（33）沿着晶片（W）的最外部分上的图案的喷射（Sn）的外部喷射涂布液体。 涂布喷嘴可以使用喷墨喷嘴或毛细喷嘴。

公开(公告)号：KR1020150051157A

公开(公告)日：2015-05-11

申请号：KR1020140148347

申请日：2014-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  다카야나기고지 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시 ,  이시마루다이스케

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/0274

Abstract: 본발명의과제는, 처리액중의이물질을높은포집율로포집할수 있는기술을제공하는것이다. 처리액용기(60)로부터의처리액을노즐(7)로부터토출하는데 있어서, 펌프(70)의 2차측에필터(52)의 1차측을접속하고, 필터(52)를통과한레지스트액(L)을공급원측으로복귀시킴과함께, 복귀시킨처리액과처리액용기(60)로부터보충되는처리액을합성하고있다. 그리고처리액을버퍼탱크(61)로복귀시킬때 및합성한레지스트액(L)을상기펌프(70)에흡입할때 중적어도한쪽에있어서, 필터(52)를통과시키고있다. 이로인해, 필터(52)의개수를억제하면서예를들어 1개의필터(52)를사용하면서, 처리액중의이물질을높은포집율로포집할수 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供能够以高收集率收集处理溶液的异物的技术。 当处理溶液通过喷嘴（7）从处理溶液容器（60）排出时，过滤器（52）的初级侧连接到泵（70）的次级侧。 通过过滤器（52）的抗蚀剂溶液（L）被还原到供给源。 用从处理溶液容器（60）补充的处理溶液合成还原的处理溶液。 并且，当缓冲罐（61）中还原处理溶液并且将合成的抗蚀剂溶液（L）吸收到泵（70）中时，至少一个通过过滤器（52）。 由此，抑制了过滤器（52）的数量。 例如，使用一个过滤器（52），并以高收集率收集处理溶液的异物。