처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법
    1.
    发明公开
    처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 审中-实审
    供应处理液的设备及供应液处理液的方法

    公开(公告)号:KR1020150039565A

    公开(公告)日:2015-04-10

    申请号:KR1020140130111

    申请日:2014-09-29

    Abstract: 본발명의과제는, 처리액인레지스트액(L)을토출노즐(7)로부터토출시킴에있어서, 스루풋의저하를억제하면서, 하나의필터(52)를사용하여당해레지스트액(L)의청정화를도모하는것이다. 레지스트액(L)이통류하는공급관로(51)에, 필터(52)와펌프(70) 또는펌프(111, 112)를설치한다. 그리고, 필터(52)를통과한레지스트액(L)의일부를토출노즐(7)로부터토출시킴과함께, 나머지의레지스트액(L)을필터(52)의 1차측으로복귀시켜서, 후속의토출동작시, 당해나머지의레지스트액(L)에대해서, 다시필터(52)를통과시킨다. 이러한동작시퀀스에있어서, 필터(52)의 1차측으로복귀시키는레지스트액(L)의복귀량에대해서, 토출노즐(7)로부터토출되는레지스트액(L)의공급량과동일하거나, 또는당해공급량보다도많아지도록설정한다.

    Abstract translation: 本发明的目的在于,当从注射喷嘴(7)注入作为处理溶液的配准溶液(L)时,通过过滤器(52)来防止生产量的恶化和净化对准溶液(L)。 过滤器(52)和泵(70)或泵(111,112)安装在配准溶液(L)通过的供给管(51)中。 并且,通过过滤器(52)的配准溶液(L)的一部分从注射喷嘴(7)喷射。 同时,寄存器解决方案(L)的其余部分返回到过滤器(52)的主要部分。 在后续的注入操作中,寄存器解决方案(L)的其余部分再次通过过滤器(52)。 在操作顺序中,返回到过滤器(52)的主要部分的配准溶液(L)的量与从喷嘴(7)供给的配准溶液(L)的量相同或更多 比供应量多。

    처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법
    2.
    发明公开
    처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 审中-实审
    处理液体供应设备和处理液体供应方法

    公开(公告)号:KR1020150039569A

    公开(公告)日:2015-04-10

    申请号:KR1020140130245

    申请日:2014-09-29

    CPC classification number: H01L21/67017 H01L21/0274

    Abstract: 처리액을쓸데없이소비하지않고서, 처리액중의파티클의증가를효율적으로억제하는것을목적으로한다. 피처리체를처리하기위한처리액을공급하는처리액공급원과, 상기처리액공급원에공급로를통해접속되며, 상기처리액을피처리체에토출하는토출부와, 상기공급로에설치되며, 처리액중의이물을제거하기위한필터장치와, 상기공급로에있어서의필터장치의일차측및 이차측에각각설치된공급펌프및 토출펌프와, 상기처리액공급원으로부터공급된처리액을, 상기공급펌프및 토출펌프중 적어도한쪽을이용해서감압하여탈기하고, 계속해서탈기된처리액을상기공급펌프및 토출펌프를이용하여상기필터장치의일차측으로부터이 필터장치를통해이차측으로통과시키도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다.

    Abstract translation: 本发明的目的是有效地防止工艺溶液中颗粒的增加,而不浪费工艺溶液。 本发明包括提供用于处理物体的处理液的处理液供给源,通过供给管线连接到处理液供给源的注入部,将该处理液注入到被检体内的过滤器装置, 安装在供给管路上,除去分别安装在供给管路中的过滤装置的主要部分和次要部分中的过程溶液中的异物,供给泵和注射泵,以及减压和 通过使用供给泵和注射泵中的一个来对从过程溶液供给源提供的过程溶液进行脱气,并且输出控制信号,以使脱模处理溶液从过滤装置的主要部分转移到次级部分,方法是使用 供应泵和注射泵。

    액 처리 장치, 액 처리 방법 및 액 처리용 기억 매체
    3.
    发明公开
    액 처리 장치, 액 처리 방법 및 액 처리용 기억 매체 有权
    액처리장치,액처리방법및액처리용기억매체

    公开(公告)号:KR1020140080423A

    公开(公告)日:2014-06-30

    申请号:KR1020130157133

    申请日:2013-12-17

    Abstract: A filtration efficiency, which is similar to the filtration efficiency obtained when a plurality of filters are provided, can be obtained by one filter, and decrease in throughput can be prevented. Based on a control signal from a control unit (101), a resist liquid (L) is sucked into a pump (70) through a filter. A part of the resist liquid sucked in the pump is discharged from a discharge nozzle (7). The remaining resist liquid is returned to a supply conduit (51b) on a primary side of the filter. A process is synthesized by adding a replenishment amount equal to the discharge amount to the return amount. The discharge of the synthesized resist liquid and the filtration thereof by the filter are performed the number of times corresponding to a rate between the discharge amount and the return amount.

    Abstract translation: 可以通过一个过滤器获得与设置多个过滤器时获得的过滤效率类似的过滤效率,并且可以防止吞吐量的降低。 基于来自控制单元(101)的控制信号,抗蚀剂液体(L)通过过滤器被吸入到泵(70)中。 吸入到泵中的抗蚀剂液体的一部分从排出喷嘴(7)排出。 剩余的抗蚀剂液体返回到过滤器初级侧上的供应导管(51b)。 通过将等于放电量的补充量添加到返回量来合成处理。 合成的抗蚀剂液体的排出和由过滤器的过滤被执行与排出量和返回量之间的比率对应的次数。

    기판처리장치
    4.
    发明授权
    기판처리장치 有权
    基板处理设备

    公开(公告)号:KR101386377B1

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:KR1020090018761

    申请日:2009-03-05

    Abstract: 스핀 척(16)에 의해서 회전되는 웨이퍼(W) 표면에, 도포노즐(17)로부터 레지스트액을 공급하고, 퍼뜨려서 레지스트막을 형성하는 기판처리장치는, 스핀 척에 의해서 유지된 웨이퍼의 바깥쪽을 둘러싸는 바깥쪽 벽부(62a)를 갖는 외부 컵(62)과, 웨이퍼의 바깥둘레부 아래쪽에 위치하는 내부 컵(63)과, 외부 컵의 바깥쪽 벽부의 안둘레면에 고정됨과 함께, 웨이퍼의 바깥둘레가장자리와의 사이에 틈새(65)를 두고 위치하고, 또한, 외부 컵의 상부와 내부 컵의 바깥쪽을 연이어 통하는 복수의 통기구멍(66)을 갖는 중간 컵(64)과, 중간 컵의 통기구멍을 개폐하는 개폐부재(67)와, 개폐부재를 개폐 이동하는 승강 실린더(68)를 구비한다. 레지스트액의 공급시에는, 개폐부재로 통기구멍을 폐쇄하여 통기구멍을 통과하는 기류를 차단하고, 레지스트막 형성시에는, 통기구멍을 개방하여 통기구멍을 통과하는 기류를 허용한다.

    Abstract translation: 晶片(W)表面由旋转卡盘16旋转,用于从涂料喷嘴17供给的抗蚀剂液体中的抗蚀剂膜的基板处理装置,并且形成peotteuryeoseo是,围绕由旋转卡盘保持的晶片的外 是外杯62和内杯63的外侧,并且,并且被固定到所述内周面的外杯的外壁部,位于外周部的晶片的底部与外壁在晶片(62A) 与所述边缘之间的间隙65外周的位置,此外,具有多个通风孔(66)一个接一个地通过上,外杯64的内杯和,在中间杯状通风孔外侧的中间杯 用于打开和关闭开闭部件的开闭部件67以及用于打开和关闭开闭部件的升降气缸68。 在供应抗蚀剂溶液时,通气孔被开闭部件封闭以阻挡通过通气孔的气流,并且在形成抗蚀剂膜时,通气孔打开以允许气流通过通气孔。

    주연부 도포 장치, 주연부 도포 방법 및 기억 매체
    5.
    发明授权
    주연부 도포 장치, 주연부 도포 방법 및 기억 매체 有权
    外围涂层装置,外围涂层方法和存储介质

    公开(公告)号:KR101805931B1

    公开(公告)日:2017-12-06

    申请号:KR1020120090019

    申请日:2012-08-17

    Abstract: 원형기판의주연부에도포액을도포하여링 형상의도포막을형성하는데 있어서, 그폭을균일성높게형성할수 있는기술을제공하는것. 기판의회전및 노즐로부터의도포액의공급을행하면서, 도포액의공급위치를기판의외측으로부터기판의주연부를향하여이동시키고, 그기판을평면에서보았을때에그 각도가 10°이하인쐐기형으로도포액을도포하며, 이어서, 기판의회전및 도포액의공급을계속한채로노즐의이동을정지하고, 기판의주연부를따라띠 형상으로도포액을도포하며, 이띠 형상으로도포된도포액의단부를상기쐐기형으로도포된도포액에접촉시켜, 기판의전체둘레에걸쳐도포액을도포한다.

    Abstract translation: 本发明提供一种技术,其能够通过将涂布液涂布到圆形基材的周边而形成环形涂膜,其宽度的均匀性高。 一边使基板旋转,一边从喷嘴供给涂布液,一边使涂布液的供给位置从基板的外侧向基板的周围移动,一边从平面观察基板, 然后,在继续进行基板的旋转和涂布液的供给的同时停止喷嘴的移动,沿着基板的周缘涂布涂布液为条状,涂布在带状涂布液中的涂布液的端部, 并且通过使涂布液与以楔形施加的涂布液接触而将涂布液涂布在基材的整个周边上。

    액 처리 장치, 액 처리 방법 및 액 처리용 기억 매체
    6.
    发明公开
    액 처리 장치, 액 처리 방법 및 액 처리용 기억 매체 审中-实审
    液体加工设备,液体加工方法和液体加工储存介质

    公开(公告)号:KR1020140080469A

    公开(公告)日:2014-06-30

    申请号:KR1020140064224

    申请日:2014-05-28

    Abstract: A filtration efficiency, which is similar to the filtration efficiency obtained when a plurality of filters are provided, can be obtained by one filter, and decrease in throughput can be prevented. Based on a control signal from a control unit (101), a resist liquid (L) is sucked into a pump (70) through a filter. A part of the resist liquid sucked in the pump is discharged from a discharge nozzle (7). The remaining resist liquid is returned to a supply conduit (51b) on a primary side of the filter. A process is synthesized by adding a replenishment amount equal to the discharge amount to the return amount. The discharge of the synthesized resist liquid and the filtration thereof by the filter are performed the number of times corresponding to a rate between the discharge amount and the return amount.

    Abstract translation: 通过一个过滤器可以获得与提供多个过滤器时获得的过滤效率类似的过滤效率,并且可以防止生产量的降低。 基于来自控制单元(101)的控制信号,通过过滤器将抗蚀剂液体(L)吸入泵(70)。 吸入泵中的抗蚀剂液体的一部分从排出喷嘴(7)排出。 剩余的抗蚀剂液体返回到过滤器的初级侧的供给管道(51b)。 通过将等于排出量的补充量加到返回量来合成过程。 对合成的抗蚀剂液体的排出及其过滤器的过滤进行与排出量与返回量之间的比例对应的次数。

    주연부 도포 장치, 주연부 도포 방법 및 기억 매체
    7.
    发明公开
    주연부 도포 장치, 주연부 도포 방법 및 기억 매체 审中-实审
    边缘部分涂层装置,边缘部分涂覆方法和储存介质

    公开(公告)号:KR1020130029332A

    公开(公告)日:2013-03-22

    申请号:KR1020120090019

    申请日:2012-08-17

    CPC classification number: H01L21/0274 B05C9/02 B05C11/1002 B05C13/00 B05D1/40

    Abstract: PURPOSE: A device and a method for coating an edge portion and a storage medium are provided to prevent the dispersion of coating solution by forming a coating layer around the edge portion. CONSTITUTION: A rotation maintenance part horizontally rotates a circular substrate. A nozzle(21) supplies coating solution to form a coating layer around the edge portion of the circular substrate. A transport device moves the nozzle. A control unit outputs a control signal to control the movement of the substrate and the nozzle, and the discharge of the coating solution.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于涂覆边缘部分和存储介质的装置和方法,以通过在边缘部分周围形成涂层来防止涂布溶液的分散。 构成:旋转维护部水平旋转圆形基板。 喷嘴(21)提供涂层溶液以在圆形基底的边缘部分周围形成涂层。 运输装置移动喷嘴。 控制单元输出控制信号以控制基板和喷嘴的移动以及涂布溶液的排出。

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