公开(公告)号：KR102201953B1

公开(公告)日：2021-01-11

申请号：KR1020190051365

申请日：2019-05-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토다로 ,  다키구치야스시 ,  후쿠다마사히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

Abstract: 노광후의기판을기판보유지지부에수평하게보유지지하는공정과, 상기기판의표면중심부에근접하도록당해기판에대향하는원형의제1 대향면의배치와, 상기기판의표면주연부에근접하도록당해기판에대향하는원형의제2 대향면의배치를각각행하는공정과, 상기제1 대향면에개구하는제1 토출구로부터근접하는상기기판의중심부로의현상액의토출과, 상기제2 대향면에개구하는제2 토출구로부터근접하는상기기판의주연부로의현상액의토출을각각행하는공정과, 상기현상액을토출하는제1 대향면을회전하는상기기판에근접한상태에서당해기판의주연부를향하여이동시킴과함께, 상기현상액을토출하는제2 대향면을당해회전하는기판에근접한상태에서당해기판의중심부를향하여이동시키고, 제1 대향면에서토출된현상액에의해형성되는액막의계면과, 제2 대향면에서토출된현상액에의해형성되는액막의계면을접합시켜서, 기판의표면전체를현상액으로피복하는피복공정과, 상기기판의표면전체가현상액으로피복된후에, 상기기판의회전및 당해기판으로의현상액의토출을정지하는공정을구비하도록현상을행한다.

公开(公告)号：KR101979967B1

公开(公告)日：2019-05-17

申请号：KR1020140097311

申请日：2014-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토다로 ,  다키구치야스시 ,  후쿠다마사히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

公开(公告)号：KR101959108B1

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：KR1020157022381

申请日：2014-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라사토루 ,  이와오후미코 ,  요시하라고오스케

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66 ,  H01L21/67 ,  H01L21/311

公开(公告)号：KR1020140080423A

公开(公告)日：2014-06-30

申请号：KR1020130157133

申请日：2013-12-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카야나기고지 ,  미네카와유키에 ,  요시다유이치 ,  요시하라고오스케 ,  데라시타유이치 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017 ,  F04B43/0081 ,  F04B49/065 ,  F04B2205/503 ,  H01L21/6715

Abstract: A filtration efficiency, which is similar to the filtration efficiency obtained when a plurality of filters are provided, can be obtained by one filter, and decrease in throughput can be prevented. Based on a control signal from a control unit (101), a resist liquid (L) is sucked into a pump (70) through a filter. A part of the resist liquid sucked in the pump is discharged from a discharge nozzle (7). The remaining resist liquid is returned to a supply conduit (51b) on a primary side of the filter. A process is synthesized by adding a replenishment amount equal to the discharge amount to the return amount. The discharge of the synthesized resist liquid and the filtration thereof by the filter are performed the number of times corresponding to a rate between the discharge amount and the return amount.

Abstract translation: 可以通过一个过滤器获得与设置多个过滤器时获得的过滤效率类似的过滤效率，并且可以防止吞吐量的降低。 基于来自控制单元（101）的控制信号，抗蚀剂液体（L）通过过滤器被吸入到泵（70）中。 吸入到泵中的抗蚀剂液体的一部分从排出喷嘴（7）排出。 剩余的抗蚀剂液体返回到过滤器初级侧上的供应导管（51b）。 通过将等于放电量的补充量添加到返回量来合成处理。 合成的抗蚀剂液体的排出和由过滤器的过滤被执行与排出量和返回量之间的比率对应的次数。

公开(公告)号：KR102011527B1

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：KR1020140083636

申请日：2014-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토타로 ,  다키구치야스시

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

公开(公告)号：KR1020160071330A

公开(公告)日：2016-06-21

申请号：KR1020150174905

申请日：2015-12-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토다카후미 ,  하타케야마신이치 ,  시바타나오키 ,  요시하라고오스케 ,  구보타미노루 ,  이데히로유키

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  G03F7/00 ,  G03F7/16

CPC classification number: G05B15/02 ,  B05D1/005 ,  B05D3/042 ,  B05D3/0466 ,  B05D3/104 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 기판상에도포액을도포할때에, 도포액의공급량을소량으로억제하면서, 기판면내에서균일하게도포액을도포한다. 웨이퍼상에도포액을도포하는방법이며, 웨이퍼상에도포액의용제를공급하여, 상기웨이퍼의외주부에용제의액막을환 형상으로형성하고, 웨이퍼를제1 회전속도로회전시키면서도포액을웨이퍼의중심부에공급하고(시간 t∼t), 웨이퍼를제1 회전속도보다도빠른제2 회전속도로회전시켜도포액을기판상에확산시킨다(시간 t∼t). 용제의공급은, 도포액이용제의액막에접촉하기전까지계속해서행해진다(시간 t∼t).

Abstract translation: 本发明通过涂布液均匀地涂布基板的表面，同时在涂布液体的同时抑制涂布液的供给量少。 本发明涉及用涂布液涂覆晶片的表面的方法。 该方法通过将涂布液的原料供给到晶片，以环状形成在晶片的外周部分上的原料的液膜; 在第一旋转速度（时间t_1〜t_2）旋转晶片的同时将涂布液供给到晶片的中心部分; 并以比第一转速（时刻t_4〜t_5）更快的第二转速转动晶片，将涂布液涂布在基板的表面。 连续进行原料的供给，直到涂布液与液膜接触（时刻t_0〜t_3）。

公开(公告)号：KR1020160030057A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：KR1020150126339

申请日：2015-09-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다케구치히로후미 ,  데라시타유이치 ,  시모아오키다케시 ,  요시하라고오스케

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/20 ,  G03F7/00

Abstract: 본발명의과제는노광후의기판에현상처리를행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의레지스트패턴의선 폭의균일성을높게하는것이다. 현상액의토출구와상기기판의표면보다도작게형성된접촉부를구비한현상액노즐을사용하고, 상기기판의중앙부에서상기접촉부를기판의표면에대향시키는공정과, 계속해서상기현상액노즐의토출구로부터기판의표면에현상액을토출해서상기접촉부에서보아당해접촉부의외측테두리보다도외측으로현상액을비어져나오게하여액 고임부를형성하는공정과, 그와같이현상액이비어져나온상태를유지하여, 회전하고있는기판에상기토출구로부터현상액을토출하면서상기현상액노즐을기판의중앙부로부터주연부로이동시켜상기액 고임부를기판의전체면으로확장하는공정을포함하도록현상처리를행한다.

Abstract translation: 本发明涉及显影方法，显影装置和存储介质。 本发明旨在提高在曝光之后显影衬底期间衬底表面中的抗蚀剂图案的线的宽度的均匀性。 为此，使用的是包括显影剂排出孔和比基板表面小的接触部的显影剂喷嘴。 此外，通过包括以下处理进行显影：使接触部在基板的中央面对基板的表面; 通过从显影剂喷嘴的排出孔连续排出基板表面上的显影剂，然后基于接触部分使显影剂泄漏到比接触部分的外边缘更外侧的外侧，形成液体停滞部分 ; 并且通过将显影剂喷嘴从中心转移到基板的边缘，并将显影剂从排出孔排出到旋转的基板上，同时通过维持显影剂的泄漏状态将液体滞留部分扩展到基板的整个表面。

公开(公告)号：KR1020150014383A

公开(公告)日：2015-02-06

申请号：KR1020140093833

申请日：2014-07-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이치노가츠노리 ,  요시하라고오스케 ,  데라시타유이치

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/0273

Abstract: 본 발명의 과제는, 기판의 표면에 도포막을 형성하는 데 있어서, 스루풋을 높게 함과 함께 막 두께의 면내 균일성을 확보하는 것이다. 기판 보유 지지부에 보유 지지된 기판의 표면과 대향하도록, 승강 가능한 환 형상 부재를 소정의 높이에 배치한다. 당해 환 형상 부재는 개구부를 갖고, 개구부의 기판의 표면에의 투영 영역은 회전 중심을 중심으로 하는 진원과 일치하지 않도록 구성되어 있다. 기판을 회전시켜 도포액을 퍼지게 한 후, 기판을 더욱 고속 회전시켜 도포액을 건조시켜 도포막을 얻는다. 그때 환 형상 부재를 강하시키고, 기판 주연부의 기류를 제어함으로써 기판 주연부의 도포막의 막 두께를 균일화한다. 한편, 환 형상 부재의 개구부로부터의 기판에의 기류가 분산됨으로써, 개구부 바로 아래에 있어서의 도포막의 막 두께는 균일화된다. 따라서, 기판 전체적으로 막 두께를 균일화시킬 수 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是确保膜厚度的均匀性，并且还提高在基材表面上形成涂膜的生产率。 能够提高的环状构件以预定高度布置，以面对由基板保持支撑部支撑的基板的表面。 环状构件具有开口部。 开口部的基板的表面的突出部不对应于以旋转中心为中心的地震中心。 在通过旋转基板涂布涂布溶液之后，通过高速旋转基板来干燥涂布溶液，从而获得涂膜。 此时，环状部件掉落，并且控制基板周边部分的气流，从而使基板周边部分的涂膜的膜厚均匀。 同时，从环状构件的开口部到基板的气流分散，使得涂膜的膜厚刚好在开口部下均匀。 因此，整个基板的膜厚变得均匀。

公开(公告)号：KR1020140080469A

公开(公告)日：2014-06-30

申请号：KR1020140064224

申请日：2014-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카야나기고지 ,  미네카와유키에 ,  요시다유이치 ,  요시하라고오스케 ,  데라시타유이치 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  F04B43/0081 ,  F04B49/065 ,  F04B2205/503 ,  H01L21/6715

Abstract: A filtration efficiency, which is similar to the filtration efficiency obtained when a plurality of filters are provided, can be obtained by one filter, and decrease in throughput can be prevented. Based on a control signal from a control unit (101), a resist liquid (L) is sucked into a pump (70) through a filter. A part of the resist liquid sucked in the pump is discharged from a discharge nozzle (7). The remaining resist liquid is returned to a supply conduit (51b) on a primary side of the filter. A process is synthesized by adding a replenishment amount equal to the discharge amount to the return amount. The discharge of the synthesized resist liquid and the filtration thereof by the filter are performed the number of times corresponding to a rate between the discharge amount and the return amount.

Abstract translation: 通过一个过滤器可以获得与提供多个过滤器时获得的过滤效率类似的过滤效率，并且可以防止生产量的降低。 基于来自控制单元（101）的控制信号，通过过滤器将抗蚀剂液体（L）吸入泵（70）。 吸入泵中的抗蚀剂液体的一部分从排出喷嘴（7）排出。 剩余的抗蚀剂液体返回到过滤器的初级侧的供给管道（51b）。 通过将等于排出量的补充量加到返回量来合成过程。 对合成的抗蚀剂液体的排出及其过滤器的过滤进行与排出量与返回量之间的比例对应的次数。

公开(公告)号：KR102241267B1

公开(公告)日：2021-04-15

申请号：KR1020150126339

申请日：2015-09-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다케구치히로후미 ,  데라시타유이치 ,  시모아오키다케시 ,  요시하라고오스케

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/20 ,  G03F7/00

Abstract: 본발명의과제는노광후의기판에현상처리를행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의레지스트패턴의선 폭의균일성을높게하는것이다. 현상액의토출구와상기기판의표면보다도작게형성된접촉부를구비한현상액노즐을사용하고, 상기기판의중앙부에서상기접촉부를기판의표면에대향시키는공정과, 계속해서상기현상액노즐의토출구로부터기판의표면에현상액을토출해서상기접촉부에서보아당해접촉부의외측테두리보다도외측으로현상액을비어져나오게하여액 고임부를형성하는공정과, 그와같이현상액이비어져나온상태를유지하여, 회전하고있는기판에상기토출구로부터현상액을토출하면서상기현상액노즐을기판의중앙부로부터주연부로이동시켜상기액 고임부를기판의전체면으로확장하는공정을포함하도록현상처리를행한다.