公开(公告)号：KR1020160117221A

公开(公告)日：2016-10-10

申请号：KR1020160035390

申请日：2016-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미우라,시게히로 ,  고바야시,다케시 ,  스가와라,가츠아키 ,  이토,나오히데

IPC: H01J37/32 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68 ,  G01J3/02 ,  G01J3/443

CPC classification number: H01J37/32972 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32935 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01J37/32944 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/443 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68

Abstract: 본발명은회전테이블(2)에의해웨이퍼(W)를공전시키면서플라즈마처리하는장치에관한것으로, 히터유닛(7)의광에의해밝게되어있는플라즈마발생영역에서의플라즈마의착화를확실하게검출한다. 진공용기(1)의천장면에투과창(300)을설치하고, 광검출부(301)에의해투과창(300)의하방측의플라즈마발생영역의광을검출한다. 그리고 R, G, B의각 광강도의합계에대한 R, G, B의각각의비율을구하고, 또한안테나(83)에고주파전력을공급하기전후에서의각 비율의변화율을구해서그들을합계한값을평가값으로하고, 평가값과임계값을비교하여, 평가값이임계값보다도크면플라즈마의착화가일어나고, 평가값이임계값이하이면플라즈마의착화가일어나지않았다고판단한다.

公开(公告)号：KR1020160051650A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：KR1020150151152

申请日：2015-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가토,히토시 ,  미우라,시게히로 ,  기구치,히로유키 ,  아이카와,가츠요시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/52 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32926 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01L21/68792

Abstract: 본발명은회전테이블에적재된기판을공전시켜서성막을행함에있어서, 기판의면내의둘레방향에서의막 두께의균일성을높게할 수있는기술을제공한다. 기판이자전하도록, 회전테이블에서의기판의적재영역을회전시키는회전기구와, 회전테이블의일면측에서의가스공급영역에처리가스를공급하여, 공전에의해당해가스공급영역을복수회반복통과하는기판에성막을행하기위한처리가스공급기구와, 회전테이블의회전속도를포함하는파라미터에기초하여, 기판의자전속도를연산하고, 연산된자전속도로기판을자전시키도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다. 이장치에서는, 가스공급영역에기판이위치할때마다기판의방향이바뀌도록처리를행할수 있기때문에, 둘레방향에서의막 두께의균일성을높게할 수있다.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于通过旋转衬底在衬底上装载在旋转台上的成膜过程中改善衬底上的膜厚度在面上的面内均匀性的技术。 一种成膜装置，包括：旋转机构，其构造成使基板旋转的旋转台​​上的基板的装载区域旋转; 处理气体供给机构，其将处理气体供给到所述旋转台的一个表面侧的处理气体供给区域，使得在所述基板上形成薄膜，所述薄膜多次通过所述处理气体供给区域通过所述处理气体供给区域 基材革命; 以及控制部，其被配置为基于包括所述旋转台的旋转速度的参数来执行所述基板的旋转速度的计算，并且以所计算的旋转速度输出用于旋转所述基板的控制信号。 在成膜装置中，由于进行成膜处理，只要基板位于处理气体供给区域中，能够改变基板的取向，可以提高圆周方向的膜厚的均匀性。