公开(公告)号：KR1020140142152A

公开(公告)日：2014-12-11

申请号：KR1020140063599

申请日：2014-05-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다테츠야 ,  니시야마준 ,  곤타유 ,  오시마기요미 ,  사이토히로미 ,  다케이슈이치

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/35 ,  H05B33/10

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01N21/8903 ,  G01N21/9501

Abstract: 본 발명은 유기 발광 다이오드에 있어서 기판 상에 적층하여 형성되는 각 유기층의 결함을 적절하게 검사하는 것을 목적으로 한다.
결함 검사 장치(165)는, 유리 기판(G) 상의 유기층에 대하여, 파장이 0.7 ㎛∼2.5 ㎛인 근적외광을 조사하는 조명부(220)와, 조명부(220)로부터 근적외광이 조사된 상기 유기층을 촬상하는 촬상부(230)와, 내부에 조명부(220)와 촬상부(230)를 수용하고, 상기 유기층의 검사를 행하기 위한 처리 용기(200)를 갖는다. 처리 용기(200)의 내부는, 대기보다 산소 농도가 낮고, 또한 대기보다 노점 온도가 낮은 분위기로 유지되어 있다.

Abstract translation: 本发明涉及适当检查在有机发光二极管中形成为层叠在基板上的各有机层的缺陷。 缺陷检查装置（165）包括利用波长为0.7〜2.5mm的近红外光照射玻璃基板（G）上的有机层的照明单元（220） 对来自照明单元（220）的近红外光照射的有机层进行成像的成像单元（230）; 以及容纳照明单元（220）和成像单元（230）的处理容器（200），并检查有机层。 在处理容器（200）中，氧浓度低于大气，露点温度低于大气。

公开(公告)号：KR1020140113399A

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：KR1020140028390

申请日：2014-03-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시마무라아키노리 ,  하야시테루유키 ,  콘타유 ,  사다테츠야 ,  니시야마준 ,  사이토히로미 ,  오타츠카사 ,  타나베세이이치

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/00 ,  B05D3/04

CPC classification number: H01L51/56 ,  B05D3/0493 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0026

Abstract: Provided are a drying apparatus and a drying method, capable of efficiently removing solvents from an organic material layer coated on a substrate for a short time and performing a uniform dry process on the surface of the substrate. The drying apparatus (100) includes a processing container (1) for vacuum exhaust, a holding stand (3) which is a support member to support the substrate (S) in the processing container (1), a gas spraying device (5) which sprays gas to the organic material layer on the substrate (S) supported by the holding stand (3), and a control unit (6). In addition, the drying apparatus (100) includes pressure controlling apparatus for controlling the pressure in the processing container (1). Also, a plurality of nozzles (51) independently controls the spray amount of the gas and the type of the gas.

Abstract translation: 提供一种干燥装置和干燥方法，能够在短时间内有效地除去涂布在基板上的有机材料层中的溶剂，并在基板表面上进行均匀的干法处理。 干燥装置（100）包括用于真空排气的处理容器（1），作为将处理容器（1）中的基板（S）支撑的支撑构件的保持架（3），气体喷射装置（5） 其将气体喷射到由保持架（3）支撑的基板（S）上的有机材料层和控制单元（6）。 此外，干燥装置（100）包括用于控制处理容器（1）中的压力的​​压力控制装置。 此外，多个喷嘴（51）独立地控制气体的喷射量和气体的类型。

公开(公告)号：KR100899608B1

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：KR1020080091039

申请日：2008-09-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키,켄야 ,  사다테츠야 ,  나카미츠,타카시 ,  츠루타시게토

IPC: G02F1/13 ,  H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 기판건조방법 및 기판건조장치에 관한 것으로, 에어나이프에서 분출되는 에어의 풍량을 대기시보다도 많게 하고, 기판의 전단부 부근의 영역에 부착된 처리액을 제거한다. 그리고, 센서가 기판 전단부를 검지하고나서 소정 시간 경과 후, 기판 전단부 부근 및 후단부 부근 이외의 영역에서는 영역의 분출량보다도 적게 하여 에어를 분출하여 처리액을 제거하고, 센서가 기판 전단부를 검지하고나서 소정 시간 경과 후에 다시, 기판(G) 후단부에서의 후단부 부근 영역에 부착된 처리액을 제거한다. 이에 의해, 기판 전면에 걸쳐 편차가 없고, 완전히 제거할 수 있고 건조얼룩의 발생을 방지할 수 있으며, 또, 영역에서의 에어 분출량을 삭감할 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR100877146B1

公开(公告)日：2009-01-07

申请号：KR1020020053401

申请日：2002-09-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키켄야 ,  사다테츠야 ,  나카미츠타카시 ,  츠루타시게토

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은, 기판건조방법 및 기판건조장치에 관한 것으로, 에어나이프에서 분출되는 에어의 풍량을 대기시보다도 많게 하고, 기판의 전단부 부근의 영역에 부착된 처리액을 제거한다. 그리고, 센서가 기판 전단부를 검지하고나서 소정 시간 경과 후, 기판 전단부 부근 및 후단부 부근 이외의 영역에서는 영역의 분출량보다도 적게 하여 에어를 분출하여 처리액을 제거하고, 센서가 기판 전단부를 검지하고나서 소정 시간 경과 후에 다시, 기판(G) 후단부에서의 후단부 부근 영역에 부착된 처리액을 제거한다. 이에 의해, 기판 전면에 걸쳐 편차가 없고, 완전히 제거할 수 있고 건조얼룩의 발생을 방지할 수 있으며, 또, 영역에서의 에어 분출량을 삭감할 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR100848928B1

公开(公告)日：2008-07-29

申请号：KR1020020038676

申请日：2002-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다테츠야 ,  미야자키카즈히토

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 액처리장치 및 액처리방법에 관한 것으로, 현상처리유닛(DEV, 24)은, LCD기판(G)을 대략 수평자세로 한쪽 방향향으로 반송하는 코로반송기구(14)와, LCD기판(G)에 현상액을 토출하는 주현상액토출노즐(51a) 및 부현상액토출노즐(51b)과, 주·부현상액토출노즐(51a ·51b)을 LCD기판(G)상에서 스캔시키는 노즐이동기구(60a)를 구비한다. 노즐이동기구(60a)를 구동하여 주·부현상액토출노즐(51a ·51b)을 LCD기판(G) 상에서 스캔시키면서, 주·부현상액토출노즐(51a ·51b)에서 현상액을 LCD기판(G)으로 토출하므로써, 현상액의 제거시간을 단축하여 LCD기판(G)전체적으로 균일한 현상처리를 하는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR1020030039318A

公开(公告)日：2003-05-17

申请号：KR1020020069891

申请日：2002-11-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다테츠야 ,  신오자키켄야 ,  미야자키카즈히토

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  F26B21/004 ,  H01L21/67051 ,  Y10S414/14

Abstract: PURPOSE: A substrate processing device is provided to prevent improve the re-deposition of mist generated from the surface of a substrate upon a drying process for blowing gas against the substrate to be processed. CONSTITUTION: Each gas injection unit(152) ejects knife-type sharp air in the opposite direction of the transfer direction and streams the air to the upper and lower surfaces of a substrate(G) from obliquely upward and obliquely downward directions when the substrate passes near upper and lower air knives(140,142) on a transfer passage(114). Accordingly, a liquid film(Ra) or liquid drops(Rb) of rinse solution are blown to the rear side of the substrate at the upper and lower surfaces of the substrate or are gathered against the surface tension. Mist is generated from the surfaces of the substrate near each mist suction port(172) which directly receive the wind pressure of air. However, the generated mist is quickly sucked into each mist recovering chambers(170) without being diffused to the circumference of the substrate and is discharged through discharging pipes(174).

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于防止在用于将气体吹向待处理基板的干燥处理时从基板表面产生的雾的再沉积。 构成：每个气体注入单元（152）沿着传送方向的相反方向喷射刀状锐化空气，当衬底通过时，将空气从倾斜向上和向下倾斜的方向流入衬底（G）的上表面和下表面 靠近上部和下部气刀（140,142）在传送通道（114）上。 因此，冲洗液的液膜（Ra）或液滴（Rb）在基板的上表面和下表面被吹送到基板的后侧，或者聚集在表面张力上。 从靠近每个雾吸入口（172）附近的基板的表面产生雾，其直接接收空气的风压。 然而，所产生的雾被快速吸入每个雾回收室（170）中，而不会扩散到基板的周边，并通过排放管（174）排出。

公开(公告)号：KR1020030023494A

公开(公告)日：2003-03-19

申请号：KR1020020053401

申请日：2002-09-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키켄야 ,  사다테츠야 ,  나카미츠타카시 ,  츠루타시게토

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/13 ,  F26B21/004 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/677 ,  Y10S414/14

Abstract: PURPOSE: A substrate-drying method and a substrate-drying equipment are provided to reduce the air consumption and to restrain the irregularities of drying. CONSTITUTION: Quantity of air spouted from air knives(53a,53b) is made greater than that of the time of waiting, and treatment liquid stuck on a region(Ga) in the vicinity of a front end of a substrate(G) is removed. After a prescribed time passes starting from when a sensor detects the front end of the substrate, at a region(Gc) except the regions in the vicinities of the front end and a rear end of the substrate, air is spouted of which spouting quantity is smaller than that of the region(Ga), and the treatment liquid is removed. After a prescribed time has passed again from when the sensor detects the front end of the substrate, the treatment liquid stuck on a region(Gb) in the vicinity of the rear end of the substrate is removed. The removal is enabled completely all over the whole surface of the substrate without generating irregularities.

Abstract translation: 目的：提供基材干燥方法和基材干燥设备以减少空气消耗并抑制干燥不规则。 构成：从气刀（53a，53b）喷出的空气量比等待时间大，并且将处于粘附在基板（G）前端附近的区域（Ga）上的处理液除去 。 在从传感器检测到基板的前端开始的规定时间之后，除了基板的前端和后端附近的区域之外的区域（Gc），喷出喷射量为 小于区域（Ga）的面积，并且处理液体被去除。 在传感器检测到基板的前端再次经过规定时间之后，去除粘附在基板后端附近的区域（Gb）上的处理液。 在基板的整个表面上完全移除，而不产生不规则。

公开(公告)号：KR101754260B1

公开(公告)日：2017-07-06

申请号：KR1020140028390

申请日：2014-03-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시마무라아키노리 ,  하야시테루유키 ,  콘타유 ,  사다테츠야 ,  니시야마준 ,  사이토히로미 ,  오타츠카사 ,  타나베세이이치

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/00 ,  B05D3/04

Abstract: 기판상에도포된유기재료막중의용매를효율좋게, 단시간에제거할수 있고, 또한기판의면내에서균일한건조처리가가능한건조장치및 건조처리방법을제공한다. 건조장치(100)는진공배기가능한처리용기(1)와, 처리용기(1) 내에서기판(S)을지지하는지지부재로서의재치대(3)와, 재치대(3)에지지되는기판(S) 상의유기재료막을향해가스를분사하는가스분사장치(5)와, 제어부(6)를구비하고있다. 또한건조장치(100)는, 처리용기(1) 내의압력을조절하는압력제어기구를구비하고있다. 복수의노즐(51)은가스의분사유량, 가스의종류를, 노즐(51)마다독립하여조절할수 있도록구성되어있다.

Abstract translation: 本发明提供一种干燥装置和干燥方法，其能够在短时间内有效地除去涂布在基板上的有机材料膜中的溶剂，并且能够在基板的平面内进行均匀的干燥处理。 干燥装置100具有：能够进行真空排气的处理容器1;作为用于将基板S支承在处理容器1内的支承部件的载置台3;基板（未图示） 用于向基板S上的有机材料膜注入气体的气体注入装置5以及控制部6。 此外，干燥装置100具备用于控制处理容器1内的压力的压力控制机构。 多个喷嘴51构成为能够针对各喷嘴51独立地调整气体的流量和气体的种类。

公开(公告)号：KR1020140113398A

公开(公告)日：2014-09-24

申请号：KR1020140028389

申请日：2014-03-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시마무라아키노리 ,  하야시테루유키 ,  콘타유 ,  사다테츠야 ,  니시야마준 ,  사이토히로미 ,  오타츠카사 ,  타나베세이이치

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/00 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L51/56 ,  H01L21/67098 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0026

Abstract: Provided is a drying apparatus capable of removing solvent from an organic material film coated on a substrate with good efficiency, in a short period of time, and while refreshing a member used for capturing the solvent. The drying apparatus (100) includes a processing receptacle (1) able to perform evacuation, a placing bed (3) for supporting a substrate (S) in the processing receptacle (1) as a supporting member, and a solvent capturing unit (5) installed to face the substrate (S) supported by the placing bed (3) for capturing volatile solvent from the organic material film. In addition, the solvent capturing unit (5) includes a temperature control device (7) which serves as a solvent release device for releasing the captured solvent. The solvent capturing unit (5) includes at least one sheet of a capturing plate (50) facing the substrate (S) placed on the placing bed (3) to be disposed in parallel to a surface of the substrate (S). The solvent capturing unit (5) has multiple through-holes (50a) formed therein.

Abstract translation: 提供一种干燥装置，其能够在短时间内以高效率的方式从涂布在基板上的有机材料膜除去溶剂，同时刷新用于捕获溶剂的部件。 干燥装置（100）包括能够进行排气的处理容器（1），用于将作为支撑部件的处理容器（1）中的基板（S）支撑的放置台（3）和溶剂捕捉部 ）安装成面对由放置床（3）支撑的用于从有机材料膜捕获挥发性溶剂的基板（S）。 此外，溶剂捕获单元（5）包括用作释放捕获的溶剂的溶剂释放装置的温度控制装置（7）。 溶剂捕获单元（5）包括至少一个面对放置在放置床（3）上以与基底（S）的表面平行设置的基底（S）的捕获板（50）的片材。 溶剂捕捉单元（5）具有形成在其中的多个通孔（50a）。

公开(公告)号：KR1020080093006A

公开(公告)日：2008-10-17

申请号：KR1020080091039

申请日：2008-09-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키,켄야 ,  사다테츠야 ,  나카미츠,타카시 ,  츠루타시게토

IPC: G02F1/13 ,  H01L21/304

CPC classification number: G02F1/1303 ,  H01L21/67028

Abstract: A substrate drying apparatus and a method thereof are provided to dry a processing solution over the whole surface of a substrate efficiently, thereby improving the performance of drying and reducing energy consumption. A substrate drying method comprises the following steps of: jetting air to an area adjacent to a front end portion(Ga) of a conveyed substrate(G) in a first amount of the wind; jetting the air to an area(Gc) adjacent to a center of the substrate in a second amount of the wind smaller than the first amount of the wind; and jetting air to an area(Gb) adjacent to a rear end portion of the substrate in a third amount of the wind more than the first amount, and more than the second amount.

Abstract translation: 提供了一种基板干燥装置及其方法，用于在基板的整个表面上有效地干燥处理溶液，从而提高干燥性能并降低能量消耗。 基板干燥方法包括以下步骤：将第一量的空气喷射到与所输送的基板（G）的前端部（Ga）相邻的区域; 以比所述第一风量小的第二量的风将空气喷射到与所述基板的中心相邻的区域（Gc）; 并且以比第一量多的第三量的风量喷射空气到与基板的后端部相邻的区域（Gb），并且大于第二量。