公开(公告)号：KR1020160016667A

公开(公告)日：2016-02-15

申请号：KR1020150108099

申请日：2015-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아이바라메이토쿠 ,  요시다유키 ,  카와노히사시 ,  야마시타마사미 ,  칸노이타루 ,  모치다겐지 ,  시마모토유키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L51/00 ,  C07C69/00

CPC classification number: B08B3/08 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 높은파티클제거성능을얻는것이다. 실시형태에따른기판처리시스템은, 유지부와, 제거액공급부를구비한다. 유지부는, 유기용매와, 불소원자를포함하고유기용매에가용인중합체를함유하는처리막이형성된기판을유지한다. 제거액공급부는, 기판상의처리막에대하여처리막을제거하는제거액을공급한다.

Abstract translation: 本发明是为了获得高的除尘性能。 根据实施例，基板处理系统包括保持单元和去除溶液供应单元。 保持单元保持其上形成有处理膜的基板，其中处理膜包含有机溶剂和氟原子，并且含有可溶于有机溶剂的聚合物。 除去溶液供给单元将能够除去处理膜的去除溶液供给到基板上的处理膜。

公开(公告)号：KR1020140141514A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：KR1020140065736

申请日：2014-05-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가이요시히로 ,  이케다요시노리 ,  시노하라가즈요시 ,  오다데츠야 ,  다나카사토루 ,  요시다유키 ,  아이바라메이토쿠

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC classification number: B05B15/555 ,  C03C23/0075 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명은 세정 성능을 향상시키고 아울러 소형화를 도모하는 것을 특징으로 한다.
실시형태에 따른 기판 처리 장치는, 기판에 처리액을 토출하는 제1 노즐 및 제2 노즐과, 제1 노즐과 제2 노즐을 이동시키는 이동 기구와, 적어도 제2 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치를 구비한다. 노즐 세정 장치는, 세정조와, 오버플로조를 구비한다. 세정조는, 적어도 제2 노즐을 세정하기 위한 세정액을 저류하는 저류부와, 정해진 수위를 초과한 세정액을 저류부로부터 배출하는 오버플로부를 구비한다. 오버플로조는, 세정조에 인접하여 배치되고, 오버플로부로부터 배출되는 세정액을 받아 외부에 배출한다.

Abstract translation: 本发明是为了提高清洗性能，确保小型化。 根据实施例的基板处理装置包括：第一喷嘴，将基板处理液喷射的第二喷嘴，使第一喷嘴和第二喷嘴移动的移动单元;以及喷嘴清洗装置，其至少清洗第二喷嘴 。 喷嘴清洁装置包括清洗槽和溢流槽。 清洗槽包括存储部分，其存储用于清洁至少第二喷嘴的清洁溶液和从存储部分排出在预定水位上流动的清洁溶液的溢流部分。 溢流槽与清洗槽相邻，将从溢流器排出的清洗液排出到外部。