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公开(公告)号：KR1020020028807A
公开(公告)日：2002-04-17
申请号：KR1020010062011
申请日：2001-10-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , B05D1/005 , B05D3/0486 , G03F7/162 , H01L21/67017
Abstract: PURPOSE: A coating unit and a coating method are provided to easily control the atmospheres inside the casing and the container. CONSTITUTION: A coating unit is composed of: a container enclosing the substrate; a casing for accommodating the container therein; a supply device for supplying a predetermined gas into the casing; the first exhaust pipe for exhausting an atmosphere inside the container; the second exhaust pipe for exhausting an atmosphere inside the casing; the first adjusting device which is disposed in the first exhaust pipe, for adjusting a flow rate of an atmosphere passing through the first exhaust pipe; and the second adjusting device which is disposed in the second exhaust pipe, for adjusting a flow rate of an atmosphere passing through the second exhaust pipe. The second exhaust pipe is usable for adjusting the exhaust flow rate to maintain a pressure inside the casing at a positive pressure. This makes it possible to divide, with the use of the first exhaust pipe and the second exhaust pipe, the work which satisfies the conditions of exhausting the atmosphere inside the casing to maintain the pressure inside the casing at the positive pressure relative to an amount of the supplied gas and exhausting the atmosphere inside the container at a predetermined flow rate or higher to prevent the atmosphere inside the container from flowing out of the container.
Abstract translation: 目的：提供涂布单元和涂布方法，以便容易地控制壳体和容器内的气氛。 构成：涂层单元由以下部件组成：容纳衬底的容器; 用于在其中容纳容器的壳体; 用于将预定气体供应到壳体中的供应装置; 用于排出容器内的气氛的第一排气管; 用于排出壳体内的气氛的第二排气管; 所述第一调节装置设置在所述第一排气管中，用于调节通过所述第一排气管的气氛的流量; 以及第二调节装置，其设置在第二排气管中，用于调节通过第二排气管的气氛的流量。 第二排气管可用于调节排气流量以将壳体内的压力保持在正压力。 由此，能够利用第一排气管和第二排气管分配满足排出壳体内的气氛的条件的工作，以将壳体内的压力保持在正压下相对于 供给气体，以预定的流量或更高的流量排出容器内的气氛，以防止容器内的气氛从容器流出。
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公开(公告)号：KR101100503B1
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：KR1020060022803
申请日：2006-03-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67178 , G03F7/162 , G03F7/3021 , G03F7/7075 , G03F7/70758 , H01L21/6715 , H01L21/67173 , H01L21/67745
Abstract: 본 발명은 도포·현상장치에 관한 것으로서 캐리어블럭에 반입된 기판을 처리 블럭에 반송해 도포막을 형성한 후 인터페이스 블럭을 개재하여 노광 장치에 반송하고 상기 인터페이스 블럭을 개재하여 돌아온 노광 후의 기판을 상기 처리 블럭에서 현상 처리하고 캐리어블럭에 반송하는 도포·현상 장치에 있어서 상기 도포막 형성용의 블럭 및 현상용의 블럭에 대해서 적층되고 캐리어 블럭과 인터페이스블럭의 사이에 도포막이 형성된 기판을 캐리어 블럭측으로부터 인터페이스 블럭 측에 직통 반송하는 반송 수단을 설치한다. 이와 같이 구성하는 것으로 도포막 형성용의 블럭과 현상용의 블럭이 메인터넌스안에서도 검사용 기판을 노광 장치에 반송할 수 있으므로 노광 장치의 상태를 검사 할 수 있는 노광 장치의 메인터넌스를 원하는 타이밍으로 실시하는 할 수 있는 도포·현상 장치의 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020110131146A
公开(公告)日：2011-12-06
申请号：KR1020110106340
申请日：2011-10-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/16
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/00 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/6719 , G03F7/16 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus is provided to reduce the occupied area of a process block by arranging unit blocks while laminating a unit block for spreading drug solution for a reflection preventing film on a substrate and a unit block for spreading resist liquid. CONSTITUTION: A carrier block(S1) includes a placement board(21) which mounts a carrier(20) and a transfer arm(C). A process block(S2), which surrounds a frame body(24), is connected with the inside of the carrier block. The processing block is composed by vertically arranging five unit blocks. A main arm(A4) is arranged in a carrier range(R1). A shelf unit(U5) is arranged in a location where being accessed to the transfer arm and the main arm in a wafer accepting range(R2).
Abstract translation: 目的：提供一种涂覆和显影装置，用于通过布置单元块来降低处理块的占用面积，同时层压用于将基板上的反射防止膜的药物溶液铺展的单位块和用于铺展抗蚀剂液体的单位块。 构成：载体块（S1）包括安装载体（20）和传送臂（C）的放置板（21）。 围绕框体（24）的处理块（S2）与承载块的内部连接。 处理块由垂直排列的五个单位块构成。 主臂（A4）布置在载体范围（R1）中。 搁板单元（U5）布置在在晶片接受范围（R2）中被访问到传送臂和主臂的位置。
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公开(公告)号：KR101046484B1
公开(公告)日：2011-07-04
申请号：KR1020060025822
申请日：2006-03-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/67225 , Y10T29/49004 , Y10T29/49126 , Y10T29/49155 , Y10T29/53174 , Y10T29/53187 , Y10T29/532
Abstract: 본 발명은 도포·현상장치 및 도포·현상방법에 관한 것으로서 도포막 형성용의 블럭과 현상 처리용의 블럭을 적층 함과 동시에 각 처리 블럭마다 블럭용의 반송 수단과의 사이에 기판의 수수를 행하기 위한 수수 스테이지를 캐리어블럭 측에 설치해 선반 형상의 수수 스테이지군을 구성하고 이들 수수 스테이지군의 수수 스테이지의 사이에 기판을 반송하는 상하 반송 수단을 설치한다. 그리고 캐리어 블럭의 상부의 빈공간에 기판 검사 유니트를 배치함과 동시에 상하 반송 수단을 개재시켜 직접 혹은 수수 스테이지군중의 수수 스테이지를 개재시켜 해당 기판 검사 유니트에 반송한다. 또 기판 검사 유니트는 수수 스테이지군중에 배치해도 좋은 기판 검사 유니트를 조립에 있어서 설치 스페이스에 대해서 불리하지 않은 구조 예를 들면 도포·현상 장치 본체의 옆으로부터 튀어나오지 않는 구조를 갖춘 도포·현상 장치의 기술을 제공한다.
Abstract translation: 本发明被应用于＆middot;传输之间的基板的传递装置，用于将块，并在同一时间叠加块的块和用于形成涂布膜的显影方法涉及针对每个处理块的显影方法;显影装置及涂布＆middot 配置搁板状组的输送级安装输送级到载体块侧用于执行安装和上和下传送装置用于传送这些输送级组的输送级之间的基板。 然后，基板检查单元被放置在载体块上方的空余空间中，并且基板检查单元被直接或经由竖直传送装置通过多个传送台的传送台传送。 在该基板检查装置，对于没有受到不利的结构例如相对于安装空间，在良好的基板检查单元可以被布置在输送阶段人群的组件施加＆middot;＆涂覆有从显影装置主体middot的一侧伸出的结构;显影装置 该技术提供。
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公开(公告)号：KR1020110061532A
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：KR1020110041642
申请日：2011-05-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67745 , H01L21/67178 , H01L21/02002 , G03F7/16 , H01L21/02019 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: An applying device, developing device, applying method, developing method, and recording medium are provided to reduce a load of each main arm, thereby increasing a yield. CONSTITUTION: A processing block(S2) includes a resist film forming unit and a substrate inspecting unit(43). A carrier block(S1) includes a transfer device for a carrier block. The resist film forming unit and a substrate inspecting unit are overlapped in the processing block. The resist film forming unit includes a plurality of processing units and a transfer device for a forming unit. The substrate inspecting unit includes a substrate inspecting unit and a transfer device for inspecting a substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种施加装置，显影装置，施加方法，显影方法和记录介质，以减少每个主臂的负载，从而提高产量。 构成：处理块（S2）包括抗蚀膜形成单元和基板检查单元（43）。 载体块（S1）包括用于载体块的转移装置。 抗蚀剂膜形成单元和基板检查单元在处理块中重叠。 抗蚀膜形成单元包括多个处理单元和用于成形单元的转印装置。 基板检查单元包括基板检查单元和用于检查基板的转印装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100776890B1
公开(公告)日：2007-11-19
申请号：KR1020060012371
申请日：2006-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67017 , H01L21/67173 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , Y10S414/135
Abstract: 반송 기구에 의한 파티클의 비산이 억제되는 반도체 제조 장치를 제공한다.
반도체 제조 장치는, 횡방향으로 긴 반송용 통로를 따라 이동부가 이동하는 반송 기구와, 상기 반송용 통로를 따라 배치되어 반송 기구의 사이에서 기판의 전달이 실행됨과 함께 기판에 대하여 처리를 실행하는 복수의 처리 유닛과, 처리 유닛의 하부에 마련되어 반송용 통로측에 배기용의 개구부를 가지는 배기실과, 배기실에 접속되는 흡인 배기로와, 상기 배기실내 또는 상기 개구부에 임하는 위치에서, 반송용 통로를 따라 길게 마련되어, 상기 이동부를 가이드하는 가이드 부재를 구비하도록 반도체 제조 장치를 구성한다. 해당 배기실내를 흡인 배기함으로써 반송용 통로로부터 배기실로 향하는 흡인 기류가 발생하기 때문에, 가이드 부재를 이동부가 이동하여 파티클이 발생한 경우라도, 해당 파티클은 기류를 타고 배기실내로 유입하여 반송용 통로로부터 제거되기 때문에 파티클의 비산을 저감할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020060092061A
公开(公告)日：2006-08-22
申请号：KR1020060012371
申请日：2006-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67017 , H01L21/67173 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , Y10S414/135
Abstract: 반송 기구에 의한 파티클의 비산이 억제되는 반도체 제조 장치를 제공한다.
반도체 제조 장치는, 횡방향으로 긴 반송용 통로를 따라 이동부가 이동하는 반송 기구와, 상기 반송용 통로를 따라 배치되어 반송 기구의 사이에서 기판의 전달이 실행됨과 함께 기판에 대하여 처리를 실행하는 복수의 처리 유닛과, 처리 유닛의 하부에 마련되어 반송용 통로측에 배기용의 개구부를 가지는 배기실과, 배기실에 접속되는 흡인 배기로와, 상기 배기실내 또는 상기 개구부에 임하는 위치에서, 반송용 통로를 따라 길게 마련되어, 상기 이동부를 가이드하는 가이드 부재를 구비하도록 반도체 제조 장치를 구성한다. 해당 배기실내를 흡인 배기함으로써 반송용 통로로부터 배기실로 향하는 흡인 기류가 발생하기 때문에, 가이드 부재를 이동부가 이동하여 파티클이 발생한 경우라도, 해당 파티클은 기류를 타고 배기실내로 유입하여 반송용 통로로부터 제거되기 때문에 파티클의 비산을 저감할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020060085190A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：KR1020060005978
申请日：2006-01-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/00 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , G03F7/70975 , G03F7/7075
Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1 ; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ;BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모 할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.Abstract translation: 本发明涉及一种涂布显影装置及其方法，其包括作为用于在处理块（S2）上形成涂膜的单位块的TCT层（B3）; COT层B4; 作为用于显影处理的单位块的BCT层B5和DEV层B1（B2）彼此堆叠。 在TCT层B3中也包括形成防反射膜的情况和未形成防反射膜的情况; 可以通过从BCT层B5中选择要使用的单元块来应对COT层B4，在这种情况下，可以抑制传输程序的复杂性并且可以简化软件。
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公开(公告)号：KR1020060085178A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：KR1020060004421
申请日：2006-01-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67276 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67754 , B05C9/02 , B05D3/02
Abstract: A coating and developing apparatus comprises a process block which forms a resist film on a wafer, then transfers the wafer to an exposure apparatus, and performs a developing process on the wafer after exposure, and an interface transfer mechanism provided between the process block and the exposure apparatus. The process block includes unit blocks for coating-film formation and unit blocks for development laid out in a stacked manner. When an abnormality occurs in the interface transfer mechanism, an ordinary process in the unit block for coating-film formation is performed on those substrates which are present in that unit block for coating-film formation, after which processed wafers are retreated to a retaining unit and transfer of any wafer into the unit block for coating-film formation is inhibited.
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公开(公告)号：KR1020010107683A
公开(公告)日：2001-12-07
申请号：KR1020010028399
申请日：2001-05-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 처리액토출장치에 관한 것으로서 본체에 설치된 토출구로부터 액저장부내의 처리액을 기판상에 토출하는 처리액토출장치로서 본체로부터 상기 액저장부에 처리액을 공급하는 제 1의 처리액공급관 및 제 2의 처리액공급관과 제 1의 처리액공급관의 외주위에 배치되고 온도조절용의 유체가 흐르는 제 2의 온도조절관을 구비하고 제 1의 온도조절관은 액저장부내에 배치된 액저장부 온도조절관의 일단부에 접속되고 액저장부 온도조절관의 타단부는 온도조절용의 유체를 본체외의 소정장소에 이송하는 제 1의 이송관에 접속되고 제 2의 온도조절관은 액저장부외에 위치하여 그 상태로 본체외의 소정장소에 이송하는 제 2의 이송관에 접속되어 있다. 본 발명에 의하면 액저장부내에서의 열교환장치를 억제하고 또한 각 토출구로부터 토출되는 처리액의 온도를 균일하게 하는 것이 가능하다. 또한 장치전체의 높이와 크기를 콤팩트화하는 것이 가능하다.
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