포지티브형 고감도 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막
    11.
    发明公开
    포지티브형 고감도 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막 审中-实审
    正极型感光树脂组合物和使用其的绝缘膜

    公开(公告)号:KR1020140033741A

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:KR1020120099965

    申请日:2012-09-10

    Abstract: The present invention relates to a positive photosensitive resin composition and an insulating film using the same. The positive photosensitive resin composition of the present invention includes: a copolymer which includes units derived from an unsaturated monomer having a specific acid-decomposable acetal protective group, units derived from an unsaturated monomer having at least one epoxy group, units derived from a carboxyl group-containing unsaturated monomer, and units derived from an N-substituted maleimide monomer; a photosensitive acid generating agent; and a solvent. The positive photosensitive resin provides a cured film which has improved sensitivity, pattern-forming properties, storage stability, and adhesion and shows a high residual film ratio, thereby being effectively used for manufacturing an insulating film for a liquid crystal display device.

    Abstract translation: 本发明涉及正性感光性树脂组合物及使用其的绝缘膜。 本发明的正型感光性树脂组合物包括:共聚物,其包含衍生自具有特定酸分解性缩醛保护基的不饱和单体的单元,源自具有至少一个环氧基的不饱和单体的单元,源自羧基的单元 含有不饱和单体,衍生自N-取代马来酰亚胺单体的单元; 光敏酸产生剂; 和溶剂。 正型感光性树脂提供了具有改善的灵敏度,图案形成性质,保存稳定性和粘附性的固化膜,并且显示出高的残留膜比,从而有效地用于制造用于液晶显示装置的绝缘膜。

    저유전성 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙매트릭스
    13.
    发明授权
    저유전성 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙매트릭스 失效
    低介电光敏树脂组合物和黑色矩阵

    公开(公告)号:KR101165681B1

    公开(公告)日:2012-07-16

    申请号:KR1020100032243

    申请日:2010-04-08

    Abstract: 본 발명은 액정 디스플레이 장치의 차광에 사용되는 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
    본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 제 1 중합체와 하기 화학식 2로 표시되는 제 2 중합체를 포함하며, 6이하의 저유전성의 전기적 특성과 2이상의 광학밀도를 구현하는 그리고 노광 전후의 현상에 대한 충분한 용해도를 가지며 10um정도의 마이크로 홀 패턴이 구현되는 고해상도, 현상 마진 및 밀착성이 우수한 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 블랙매트릭스에 관한 것이다.
    [화학식 1]

    [화학식 2]

    감광성 수지 조성물, 이를 이용한 절연막 및 그 전자부품
    14.
    发明公开
    감광성 수지 조성물, 이를 이용한 절연막 및 그 전자부품 无效
    光敏树脂组合物,其电介质绝缘膜和电子器件

    公开(公告)号:KR1020110040640A

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:KR1020100042835

    申请日:2010-05-07

    Abstract: PURPOSE: A photosensitive resin composition, an insulating film and an electronic component using the same are provided to reduce the deviation of a thickness generated in multi-stepped composition layer forming processes. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition includes 100.0 parts by weight of a copolymer, 1 to 150 parts by weight of photo-polymerizable ethylenically unsaturated monomer, 0.5 to 30 parts by weight of a functional silane compound, and 1 to 20 parts by weight of one or more compound selected from a compound with chemical formula 1, a compound with chemical formula 2, and the mixture of the same. The copolymer is based on 5 to 40 mol% of unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic acid anhydride, 5 to 70 mol% of aromatic unsaturated monomer, 1 to 10 mol% of an unsaturated compound with epoxy group, oxetane group, or the mixture of the same, and 5 to 50 mol% of methyl methacrylate.

    Abstract translation: 目的:提供一种感光性树脂组合物,绝缘膜和使用其的电子部件,以减少在多阶段组成层形成工序中产生的厚度的偏差。 构成:感光性树脂组合物含有共聚物100.0重量份,光聚合性烯键式不饱和单体1〜150重量份,功能性硅烷化合物0.5〜30重量份,1重量份 或更多选自具有化学式1的化合物,化学式2的化合物及其混合物的化合物。 该共聚物为5〜40摩尔%的不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐,5〜70摩尔%的芳族不饱和单体,1〜10摩尔%的具有环氧基的不饱和化合物,氧杂环丁烷基或 的混合物和5〜50摩尔%的甲基丙烯酸甲酯。

    포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막
    15.
    发明公开
    포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막 审中-实审
    阳离子型感光树脂组合物和固化膜

    公开(公告)号:KR1020140035180A

    公开(公告)日:2014-03-21

    申请号:KR1020120101729

    申请日:2012-09-13

    CPC classification number: G03F7/0392 G03F7/004 G03F7/0045 G03F7/022 G03F7/039

    Abstract: The present invention relates to a positive type photosensitive resin composition and a cured film manufactured thereby. The positive type photosensitive resin composition of the present invention comprises: copolymers (1) which are produced by making a compound represented by a chemical formula 1 with an alkali soluble copolymer including an organization unit (1-1) induced from an unsaturated monomer containing a carboxyl group, an organization unit (1-2) induced from an unsaturated monomer containing at least one epoxy group, an organization unit (1-3) induced from an unsaturated monomer containing a phenolic hydroxyl group and an organization unit (1-4) containing an unsaturated monomer different from the unsaturated monomer of (1-1) to (1-3); quinonediazide-based photoactive compounds (2); photoacid generators (3); and solvents (4). The positive type photosensitive resin composition of the present invention exhibits excellent sensitivity, high residual film rate after phenomenon and postcuring and provides high pattern formation, thereby being able to be usefully used in the manufacture of an insulation layer for a liquid crystal display.

    Abstract translation: 本发明涉及一种正型感光性树脂组合物及其制造的固化膜。 本发明的正型感光性树脂组合物含有:将由化学式1表示的化合物与含有由不饱和单体引发的组成单元(1-1)的碱溶性共聚物制成的共聚物(1) 羧基,由含有至少一个环氧基的不饱和单体引发的组织单元(1-2),由含有酚羟基的不饱和单体引发的组织单元(1-3)和组织单元(1-4) (1-1)〜(1-3)的不饱和单体不饱和单体; 基于醌二叠氮化物的光活性化合物(2); 光酸发生器(3); 和溶剂(4)。 本发明的正型感光性树脂组合物显示出优异的灵敏度,现象和后固化后的高残留膜率,并提供高图案形成,从而能够有用地用于液晶显示器的绝缘层的制造。

    착색 분산액 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
    16.
    发明公开
    착색 분산액 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 有权
    有色分散体和光催化剂树脂组合物包括它们

    公开(公告)号:KR1020130081019A

    公开(公告)日:2013-07-16

    申请号:KR1020120001962

    申请日:2012-01-06

    CPC classification number: G03F7/032 G02B5/20 G02B5/201 G03F7/004 G03F7/0045

    Abstract: PURPOSE: A coloring dispersed solution and a photosensitive resing composition is provided to give an excellent dielectrict constant and elastic recovery rate with especially an excellent chemical resistance black matrix and black column spacer with an excellent resolution and storage stability. CONSTITUTION: A coloring dispersed solution comprises (a) copolymerization unit of chemical formula 1 and a copolymerization uni of chemical formula 2, and a copolymer including 1 or more of copolymerization unit comprised with a chemical formula 3 and 4, (b) dispersing agne, (c) pgment, and (d) solvent. Also the photosensitive resin composition comprises the coloring dispersed solution, alkali soluble resin, polyfuncitonal monomer, photopolymerization initiator, and solvent. The alkali soluble resin polymerizes (meth) acrylic acid, N-substituted maleimid group monomer, and styrene group monomer.

    Abstract translation: 目的:提供着色分散溶液和感光性树脂组合物,具有优异的介电常数和弹性回复率,特别是具有优异的耐化学性黑色矩阵和黑色柱状间隔物,具有优异的分辨率和储存稳定性。 构成:着色分散溶液包含(a)化学式1的共聚单元和化学式2的共聚单体,以及包含1个或更多个由化学式3和4组成的共聚单元的共聚物,(b)分散agne, (c)分段,(d)溶剂。 感光性树脂组合物也包含着色分散溶液,碱溶性树脂,多官能单体,光聚合引发剂和溶剂。 碱溶性树脂聚合(甲基)丙烯酸,N-取代的马来酰亚胺基单体和苯乙烯基单体。

    현상 가능한 초소수성 감광성조성물
    18.
    发明授权
    현상 가능한 초소수성 감광성조성물 失效
    碱性可开发的超疏水感光材料

    公开(公告)号:KR101000360B1

    公开(公告)日:2010-12-13

    申请号:KR1020080092556

    申请日:2008-09-22

    CPC classification number: G03F7/033 G03F7/0007

    Abstract: 본 발명은 잉크젯공정을 이용한 LCD제조공정에서 LCD 셀내의 픽셀을 형성하는 격벽으로 적합한 초소수성(super-hydrophobic) 감광성수지 조성물을 제공하는 것이다.
    본 발명은 극한의 소수성으로서 증류수에 대한 접촉각이 >90°이고, 에틸셀로솔브에 대한 접촉각이 > 35° 이며, 노광 전후의 현상액에 대하여 충분한 용해도를 가져 10㎛급 이하 까지의 마이크로패턴의 구현이 가능한 투명한 잉크젯용 네가티브 감광성 현상가능한 초소수성재료(Negative photo sensitive developable super hydrophobic materials)를 제공하는 것이다.
    초소수성을 제공하기 위해 C4~C30의 포화 혹은 불포화 불소치환 탄소수소기와 포화 혹은 불포화 탄화수소기를 도입한 계의 공중합체에 반응성 사이트로 열 또는 빛에 의해 반응을 하는 부분으로 에폭시기 또는 메타아크릴레이트기 또는 아크릴레이트기 등의 반응성기를 가지는 유닛과 노광후 현상 가능 하도록 카르본산기를 가지는 유닛을 채택한 수지성분과 다관능성 (메타)아크릴레이트를 포함하는 수지조성물을 광개시제에 의한 UV 경화와 열경화 반응을 이용하여 LCD 픽셀 격벽을 제조하는 것이다.
    LCD, 초소수성, 픽셀, 격벽, 잉크젯

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