Abstract:
The present invention relates to a positive photosensitive resin composition and an insulating film using the same. The positive photosensitive resin composition of the present invention includes: a copolymer which includes units derived from an unsaturated monomer having a specific acid-decomposable acetal protective group, units derived from an unsaturated monomer having at least one epoxy group, units derived from a carboxyl group-containing unsaturated monomer, and units derived from an N-substituted maleimide monomer; a photosensitive acid generating agent; and a solvent. The positive photosensitive resin provides a cured film which has improved sensitivity, pattern-forming properties, storage stability, and adhesion and shows a high residual film ratio, thereby being effectively used for manufacturing an insulating film for a liquid crystal display device.
Abstract:
본 발명은 화학식 1의 에폭시 수지(A)와 불포화 염기산(B)을 반응시켜 수득되는 에폭시 부가물(AB)에 다염기산 무수물(C)을 반응시켜 수득되는 생성물(P1) 또는 화학식 1의 에폭시 수지(A)와 불포화 염기산(B)을 반응시켜 수득되는 에폭시 부가물(AB)에 다염기산 무수물(C)을 반응시켜 수득되는 생성물(P1)에 추가로 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물(D)을 반응시켜 수득되는 생성물(P2)인 광중합성 불포화 수지, 및 상기 광중합성 불포화 수지; 적어도 하나 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 관능성 모노머; 중합 개시제; 흑색 유기 안료; 및 용제를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은 유전율이 낮으면서도 차광성이 뛰어나고 해상도 및 탄성 복원력이 우수한 차광성 스페이서를 제공할 수 있다. [화학식 1]
Abstract:
본 발명은 액정 디스플레이 장치의 차광에 사용되는 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 제 1 중합체와 하기 화학식 2로 표시되는 제 2 중합체를 포함하며, 6이하의 저유전성의 전기적 특성과 2이상의 광학밀도를 구현하는 그리고 노광 전후의 현상에 대한 충분한 용해도를 가지며 10um정도의 마이크로 홀 패턴이 구현되는 고해상도, 현상 마진 및 밀착성이 우수한 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 블랙매트릭스에 관한 것이다. [화학식 1]
Abstract:
PURPOSE: A photosensitive resin composition, an insulating film and an electronic component using the same are provided to reduce the deviation of a thickness generated in multi-stepped composition layer forming processes. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition includes 100.0 parts by weight of a copolymer, 1 to 150 parts by weight of photo-polymerizable ethylenically unsaturated monomer, 0.5 to 30 parts by weight of a functional silane compound, and 1 to 20 parts by weight of one or more compound selected from a compound with chemical formula 1, a compound with chemical formula 2, and the mixture of the same. The copolymer is based on 5 to 40 mol% of unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic acid anhydride, 5 to 70 mol% of aromatic unsaturated monomer, 1 to 10 mol% of an unsaturated compound with epoxy group, oxetane group, or the mixture of the same, and 5 to 50 mol% of methyl methacrylate.
Abstract:
The present invention relates to a positive type photosensitive resin composition and a cured film manufactured thereby. The positive type photosensitive resin composition of the present invention comprises: copolymers (1) which are produced by making a compound represented by a chemical formula 1 with an alkali soluble copolymer including an organization unit (1-1) induced from an unsaturated monomer containing a carboxyl group, an organization unit (1-2) induced from an unsaturated monomer containing at least one epoxy group, an organization unit (1-3) induced from an unsaturated monomer containing a phenolic hydroxyl group and an organization unit (1-4) containing an unsaturated monomer different from the unsaturated monomer of (1-1) to (1-3); quinonediazide-based photoactive compounds (2); photoacid generators (3); and solvents (4). The positive type photosensitive resin composition of the present invention exhibits excellent sensitivity, high residual film rate after phenomenon and postcuring and provides high pattern formation, thereby being able to be usefully used in the manufacture of an insulation layer for a liquid crystal display.
Abstract:
PURPOSE: A coloring dispersed solution and a photosensitive resing composition is provided to give an excellent dielectrict constant and elastic recovery rate with especially an excellent chemical resistance black matrix and black column spacer with an excellent resolution and storage stability. CONSTITUTION: A coloring dispersed solution comprises (a) copolymerization unit of chemical formula 1 and a copolymerization uni of chemical formula 2, and a copolymer including 1 or more of copolymerization unit comprised with a chemical formula 3 and 4, (b) dispersing agne, (c) pgment, and (d) solvent. Also the photosensitive resin composition comprises the coloring dispersed solution, alkali soluble resin, polyfuncitonal monomer, photopolymerization initiator, and solvent. The alkali soluble resin polymerizes (meth) acrylic acid, N-substituted maleimid group monomer, and styrene group monomer.
Abstract:
PURPOSE: Photopolymerizable unsaturated resin is provided to provide a block-shielding spacer with excellent resolution and elastic restitution while having a low dielectric constant. CONSTITUTION: Photopolymerizable unsaturated resin is a product which is obtained by reacting an epoxy adduct, which is obtained by reacting epoxy resin indicated in chemical formula 1 with an unsaturated basic acid, with a polybasic acid anhydride. A photosensitive resin composition comprises the photopolymerizable unsaturated resin, a functional monomer which has one or more ethylenically unsaturated bonds, a polymerization initiator, a black organic pigment, and a solvent. The black organic pigment includes one or more selected from a group consisting of aniline black, lactam black, and perylene black.
Abstract:
본 발명은 잉크젯공정을 이용한 LCD제조공정에서 LCD 셀내의 픽셀을 형성하는 격벽으로 적합한 초소수성(super-hydrophobic) 감광성수지 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명은 극한의 소수성으로서 증류수에 대한 접촉각이 >90°이고, 에틸셀로솔브에 대한 접촉각이 > 35° 이며, 노광 전후의 현상액에 대하여 충분한 용해도를 가져 10㎛급 이하 까지의 마이크로패턴의 구현이 가능한 투명한 잉크젯용 네가티브 감광성 현상가능한 초소수성재료(Negative photo sensitive developable super hydrophobic materials)를 제공하는 것이다. 초소수성을 제공하기 위해 C4~C30의 포화 혹은 불포화 불소치환 탄소수소기와 포화 혹은 불포화 탄화수소기를 도입한 계의 공중합체에 반응성 사이트로 열 또는 빛에 의해 반응을 하는 부분으로 에폭시기 또는 메타아크릴레이트기 또는 아크릴레이트기 등의 반응성기를 가지는 유닛과 노광후 현상 가능 하도록 카르본산기를 가지는 유닛을 채택한 수지성분과 다관능성 (메타)아크릴레이트를 포함하는 수지조성물을 광개시제에 의한 UV 경화와 열경화 반응을 이용하여 LCD 픽셀 격벽을 제조하는 것이다. LCD, 초소수성, 픽셀, 격벽, 잉크젯