公开(公告)号：KR100850447B1

公开(公告)日：2008-08-07

申请号：KR1020067003552

申请日：2002-10-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 어쇼프알렉산더아이. ,  네스리차드엠.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2308 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저(11)를 위한 피드백 타이밍 제어 장비 및 그 방법이 개시되었다. 바람직한 실시예는 20 내지 40 와트이상의 집적 출력을 위해 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5 내지 10 mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 시스템이다. 피드백 타이밍 제어는 어떠한 큰레이저 에너지도 시스템으로부터 출력되지 않도록 방전시간이 정해질 수 있도록 시간이 정해진다. 이러한 기술로 두 개의 챔버의 각각에 대한 타이밍 파라미터가 버스트의 제1 레이저 출력 펄스 이전에 모니터링될 수 있도록, 버스트의 제1 방전이 어떠한 출력 방전이 아닌 버스트 모드 동작이 될 수 있게 한다. 두 개의 방전챔버 가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극

公开(公告)号：KR100573499B1

公开(公告)日：2006-04-26

申请号：KR1020027001359

申请日：2000-07-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  네스리차드엠. ,  로스웨일다니엘에이. ,  멜처폴씨. ,  스미스브레트디. ,  벅스다니엘엘.

IPC: H01S3/00

Abstract: 2000Hz이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(42), 고체 스위치(46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(30)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로(61, 65)에서 압축되고 승압 펄스 변압기(56)는 피크전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그래밍된 프로세서(102)를 포함하는 펄스제어시스템은 초당 적어도 2000전하의 비율로 약 1%미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다.
펄스전력 시스템, 펄스변압기, 압축회로, 피킹 커패시터, 가포화 인덕터, 펄스발생회로, 누설전류

公开(公告)号：KR1020050062519A

公开(公告)日：2005-06-23

申请号：KR1020057001756

申请日：2003-07-30

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 팔론존피. ,  룰존에이. ,  자끄로버트엔. ,  립콘자콥피. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  파르틀로윌리암엔. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  이시하라도시히코 ,  마이스너존 ,  네스리차드엠. ,  멜처폴씨.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/2333 ,  H01S3/036 ,  H01S3/134 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

Abstract: The present invention provides a control system for a modular high repetition rate two discharge chamber ultraviolet. In preferred embodiments, the laser is a production line machine with a master oscillator (10) producing a very narrow band seed beam which is amplified (12) in the second discharge chamber. Novel control features specially adapted for a two-chamber gas discharge laser system include (1) pulse energy controls, with nanosecond timing precision (2) precision pulse to pulse wavelength controls with high speed and extreme speed wavelength tuning (3) fast response gas temperature control and (4) F2 injection controls with novel learning algorithm.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于模块化高重复率两放电室紫外线的控制系统。 在优选实施例中，激光器是具有主振荡器（10）的生产线机器，其产生非常窄的带子种子束，其在第二放电室中被放大（12）。 特别适用于双室气体放电激光系统的新型控制特征包括（1）脉冲能量控制，具有纳秒定时精度（2）精确脉冲到脉冲波长控制，具有高速和极速波长调谐（3）快速响应气体温度 控制和（4）F2注射控制与新的学习算法。

公开(公告)号：KR100394397B1

公开(公告)日：2003-08-09

申请号：KR1020007009736

申请日：1999-02-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  아졸라제임즈에이치. ,  베샤우셀레헤르베에이. ,  다스팔라쉬피. ,  에르소브알렉산더아이. ,  주하스즈티보르 ,  네스리차드엠. ,  오자르스키로버트지. ,  파틀로웰리암엔. ,  로스웨일다니엘에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  유자즈도우스키리차드씨. ,  와트슨톰웨이 ,  포멘코프이고르브이.

IPC: H01S3/225

CPC classification number: G01J9/0246 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225

Abstract: A reliable, modular, production quality narrow-band KrF excimer laser capable of producing 10 mJ laser pulses at 1000 Hz with a bandwidth of about 0.6 pm or less. The present invention is especially suited to long-term round-the-clock operation in the lithographic production of integrated circuits. Improvements over prior art lasers include a single upstream preionizer tube and acoustic baffles. A preferred embodiment includes reduced fluorine concentration, an anode support bar shaped to reduce aerodynamic reaction forces on blower bearings, a modified pulse power system providing faster pulse rise time, an output coupler with substantially increased reflectivity, a line narrowing module with CaF prism beam expanders, a more accurate wavemeter, a laser computer controller programmed with new and improved pulse energy control algorithm.

Abstract translation: 一种可靠的模块化生产质量的窄带KrF准分子激光器，能够以1000Hz的频率产生10mJ的激光脉冲，带宽约为0.6pm或更小。 本发明特别适用于集成电路光刻生产中的长期全天候操作。 现有技术激光器的改进包括单个上游预电离子管和隔音板。 一个优选的实施例包括降低的氟浓度，成形为减少鼓风机轴承上的空气动力学反作用力的阳极支撑杆，提供更快的脉冲上升时间的改进的脉冲功率系统，具有显着提高的反射率的输出耦合器，具有CaF棱镜光束扩展器 ，更精确的波长计，一种用新的和改进的脉冲能量控制算法编程的激光计算机控制器。

公开(公告)号：KR101332767B1

公开(公告)日：2013-11-25

申请号：KR1020077022202

申请日：2006-03-27

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 우야즈도프스키리차드씨. ,  네스리차드엠. ,  알고츠제이.마틴 ,  플레우로프블라디미르비. ,  팔렌샤트프레드릭에이. ,  길레스피월터디. ,  무스만브라이언지. ,  스테이거토마스디. ,  스미스브래트디. ,  맥켈비토마스이.

IPC: H01S3/041

CPC classification number: H01S3/036 ,  H01F3/10 ,  H01F27/22 ,  H01F27/266 ,  H01F38/10 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2308

Abstract: 높은 펄스 반복율의 가스방전 레이저 시스템의 펄스 파워 시스템의 마그네틱 리액터로서, 하우징의 내측벽, 외측벽, 및 하우징의 바닥벽 사이에 코어 수용 컴파트먼트를 포함하는 하우징; 내측벽, 외측벽, 및 바닥벽 중 적어도 하나로부터 열을 방출시키도록 동작가능한 냉각 메카니즘; 코어 수용 컴파트먼트 내에 수용된 적어도 두 개의 마그네틱 코어; 및 각각의 개별 냉각 핀 중 적어도 하나와 각각의 개별 코어와 내측벽, 외측벽, 또는 바닥벽 중 각각의 하나를 중개하는 열전도성 강화 메카니즘을 포함하고, 이 열전도성 강화 메카니즘은 복수의 토션 스프링 또는 리프 스프링 엘리먼트를 포함하는 밴드를 포함하는 것을 특징으로 하는 높은 펄스 반복율의 가스방전 레이저 시스템의 펄스 파워 시스템의 마그네틱 리액터가 개시된다.
펄스 반복율, 가스방전 레이저 시스템, 펄스 파워 시스템, 마그네틱 리액터, 하우징, 코어 수용 컴파트먼트, 냉각 메카니즘, 마그네틱 코어, 열전도성 강화 메카니즘, 토션 스프링, 리프 스프링, 밴드.

公开(公告)号：KR101151260B1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：KR1020057024794

申请日：2004-06-14

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 네스리차드엠. ,  파틀로윌리엄엔. ,  멜처폴씨. ,  퍼거슨조지엑스. ,  새쓰레로버트비.

IPC: H01F27/08 ,  H01F27/10 ,  H01F3/00 ,  H01S3/097

CPC classification number: H01F27/266 ,  H01F27/025 ,  H01F27/10 ,  H01S3/097

Abstract: 적어도 하나의 코어 지지 부재 벽을 구비하고 중심에 위치된 코어 지지 부재(200) 주위에 배치된 자기 코어를 구비한 자기 회로 소자를 냉각하기 위한 장치와 방법이 개시되고, 자기 회로 소자는 코어 지지 냉각제 유입부(282); 코어 지지 냉각제 유출부(283); 및 복수의 상호 연결된 냉각제 유로(270);를 포함할 수 있고, 상기 냉각제 유로는 코어 지지 부재 벽내에 포함되고 상호 연결되며, 코어 지지 냉각제 유입부로부터 코어 지지 냉각제 유출부까지 코어 지지 부재 벽의 적어도 실질적인 부분내에 있는 냉각제 흐름 경로를 따라 코어 지지 부재 벽내의 하나의 냉각제 유로로부터 다음 냉각제 유로로 냉각제를 통과시키도록 배치된다. 또한, 본 장치에서, 각각의 코어 지지 냉각제 유로는 각각의 코어 지지 냉각제 유로의 각각의 단부에서 유체 연통 플레넘과 유체 연통하고, 각각의 유체 연통 플레넘은 각각의 코어 지지 냉각제 유로중 적어도 제 1 유로를 위한 유출 플레넘 및 각각의 코어 지지 냉각제 유로중 적어도 제 2 유로를 위한 유입 플레넘을 코어 지지 냉각제 유입부로부터 코어 지지 냉각제 유출부까지의 냉각제 흐름 경로를 따라 형성한다.
코어 지지 부재, 자기 회로 소자, 자기 코어, 냉각제 유입부, 냉각제 유출부, 냉각제 유로

公开(公告)号：KR100585624B1

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：KR1020027001587

申请日：2000-07-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  네스리차드엠. ,  로스웨일다니엘에이. ,  멜처폴씨. ,  스미스브레트디. ,  벅스다니엘엘.

IPC: H01S3/00

Abstract: 2000㎐ 이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(20), 고체 스위치(44-46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(50)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로에서 압축되고 승압 펄스 변압기는 피크 전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그램된 프로세서(102)를 포함하는 펄스 제어 시스템은 초 당 적어도 4000 전하의 충전속도로 약 1% 미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다. 2000 내지 4000㎐ 이상의 펄스율에서 동작할 수 있는 바람직한 실시예에서, 가포화 인덕터(48,54,64)의 수냉장치가 제공된다.
펄스전력 시스템, 펄스변압기, 압축회로, 피킹 커패시터, 가포화 인덕터, 펄스발생회로, 누설전류, 수냉장치

公开(公告)号：KR1020060035635A

公开(公告)日：2006-04-26

申请号：KR1020057024794

申请日：2004-06-14

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 네스리차드엠. ,  파틀로윌리엄엔. ,  멜처폴씨. ,  퍼거슨조지엑스. ,  새쓰레로버트비.

IPC: H01F27/08 ,  H01F27/10 ,  H01F3/00 ,  H01S3/097

CPC classification number: H01F27/266 ,  H01F27/025 ,  H01F27/10 ,  H01S3/097

Abstract: An apparatus and method for providing cooling to a magnetic circuit element having a magnetic core disposed around a centrally located core support member having at least one core support member wall is disclosed which may comprise a core support coolant inlet; a core support coolant outlet; a plurality of interconnected coolant flow passages contained within the core support member wall and interconnected and arranged to pass coolant from one coolant flow passage to the next within the core support member wall along a coolant flow path within at least a substantial portion of the core support member wall from the core support coolant inlet to the core support coolant outlet. The apparatus may also comprise each core support coolant flow passage is in fluid communication with a fluid communication plenum at each end of each respective core support coolant flow passage, with each respective fluid communication plenum forming an outlet plenum for at least a first one of the respective core support coolant flow passages and an inlet plenum for at least a second one of the respective core support coolant flow passages along the coolant flow path from the core support coolant inlet to the core support coolant outlet. The core support member may comprise a flange extending from the core support member, the flange having an inner dimension and an outer dimension, which may also comprise a plurality of interconnected flange coolant flow passages extending alternatively toward the inner dimension and away from the outer dimension and then toward the outer dimension and away from the inner dimension, between the core support coolant inlet and the core support coolant outlet. The core and core support may be contained in a housing which may comprise a housing wall; a housing coolant inlet; a housing coolant outlet; and a plurality of interconnected housing coolant flow passages contained within the housing wall and interconnected and arranged to pass coolant from one coolant flow passage to the next within the housing wall along a coolant flow path within at least a substantial portion of the housing wall from the housing coolant inlet to the housing coolant outlet. The housing and core support may forma a part of at least a portion of an electrical current flow path forming two turns around the magnetic core. In another aspect of the invention buswork may be coated with a thin film of electrically conductive material.

Abstract translation: 公开了一种用于向具有设置在具有至少一个芯支撑构件壁的中心定位的芯支撑构件周围的磁芯的磁路元件提供冷却的装置和方法，其可包括芯支撑冷却剂入口; 核心支撑冷却液出口; 多个互连的冷却剂流动通道，其容纳在所述芯部支撑构件壁内并且互连并且布置成沿着所述芯部支撑件的至少大部分内的冷却剂流动路径将冷却剂从一个冷却剂流动通道传递到所述芯部支撑构件壁内的下一个 构件壁从芯部支撑冷却剂入口到芯部支撑冷却剂出口。 该装置还可以包括每个芯支撑冷却剂流动通道与每个相应的芯支撑冷却剂流动通道的每个端部处的流体连通通气室流体连通，每个相应的流体连通增压室形成出口压力室，用于至少第一个 相应的芯支撑冷却剂流动通道和用于沿着从芯支撑冷却剂入口到芯支撑冷却剂出口的冷却剂流动路径的相应的芯支撑冷却剂流动通道中的至少第二个的入口气室。 芯支撑构件可以包括从芯支撑构件延伸的凸缘，凸缘具有内部尺寸和外部尺寸，该凸缘还可以包括多个互连的凸缘冷却剂流动通道，所述凸缘冷却剂流动通道相对于内部尺寸交替地延伸并远离外部尺寸 然后朝向外部尺寸并远离内部尺寸，在核心支撑冷却剂入口和芯部支撑冷却剂出口之间。 芯和芯支撑件可以包含在可以包括壳体壁的壳体中; 壳体冷却剂入口; 外壳冷却液出口; 以及多个互连的壳体冷却剂流动通道，其容纳在所述壳体壁内并且被互连并且布置成将冷却剂沿着沿着所述壳体壁的至少大部分内的冷却剂流动路径从所述壳体壁在所述壳体壁内向下流动 将冷却剂入口容纳到壳体冷却剂出口。 壳体和芯部支撑件可以形成绕磁芯形成两圈的电流流路的至少一部分的一部分。 在本发明的另一方面，母线可以涂覆有导电材料的薄膜。

公开(公告)号：KR1020020021168A

公开(公告)日：2002-03-18

申请号：KR1020027001359

申请日：2000-07-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  네스리차드엠. ,  로스웨일다니엘에이. ,  멜처폴씨. ,  스미스브레트디. ,  벅스다니엘엘.

IPC: H01S3/00

Abstract: 2000Hz이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(42), 고체 스위치(46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(30)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로(61, 65)에서 압축되고 승압 펄스 변압기(56)는 피크전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그래밍된 프로세서(102)를 포함하는 펄스제어시스템은 초당 적어도 2000전하의 비율로 약 1%미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다.

公开(公告)号：KR1020010071890A

公开(公告)日：2001-07-31

申请号：KR1020017000557

申请日：1999-06-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  벅스다니엘엘. ,  네스리차드엠. ,  로스웨일다니엘에이. ,  멜처파울씨. ,  스미스브레트디.

IPC: H01S3/00

Abstract: 2000Hz이상의 비율로 제어된 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하기 위한 고펄스율 펄스 전원(20). 상기 전원(20)은 충전 커패시터(42), 고체 스위치(46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(30)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로(61, 65)에서 압축되고 승압 펄스 변압기(56)는 피크전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 정류 전원장치는 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그래밍된 프로세서(102)를 포함하는 펄스제어시스템은 초당 적어도 2000전하의 비율로 약 1%미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다.